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대상물의 원본 이미지를 취득하는 영상 획득부;이산 코사인 변환(DCT; Discrete Cosine Transform) 계수를 이용하여 배경 이미지를 생성하는 배경 이미지 생성부 및 상기 원본 이미지에서 상기 배경 이미지의 배경 성분을 제거하고 이산 웨이블릿 변환(DWT; Discrete Wavelet Transform)을 적용하여 웨이블릿 근사화 계수와 웨이블릿 디테일 계수를 생성하는 웨이블릿 변환부를 포함하는 영상 처리부; 및상기 웨이블릿 근사화 계수의 표준편차를 이용하여 얼룩 마스크를 생성하는 얼룩 마스크 생성부 및 상기 웨이블릿 디테일 계수에 마스크 필터링을 적용하여 얼룩을 강조하는 마스크 필터링부를 포함하는 영상 해석부를 포함하되,상기 얼룩 마스크 생성부는 상기 웨이블릿 근사화 계수의 표준편차에 상수배를 기준으로 하여 얼룩의 씨앗 성분과 얼룩 후보 영역을 추출하고, 추출된 얼룩의 상기 씨앗 성분과 상기 얼룩 후보 영역에 영역 성장법을 적용하여 공간 영역의 저주파 잡음을 제거한 얼룩 마스크를 생성하고,상기 얼룩 마스크 생성부는 하기 수식 1 및 수식 2를 통해 의 문턱치를 기준으로 웨이블릿 근사화 계수를 이진화하여 저주파 잡음이 제거된 얼룩 초기 씨앗 이미지 를 생성하고,(수식 1)(수식 2)상기 얼룩 초기 씨앗 이미지 에 존재하는 각각의 영역에 대한 모든 연결 성분을 찾고, 각각의 영역의 상기 연결 성분을 한 픽셀로 침식시켜 얼룩 씨앗 점 이미지 를 생성하고,의 문턱치를 기준으로 웨이블릿 근사화 계수를 이진화하여, 저주파 잡음이 일부 포함된 얼룩 영역 이미지 를 생성하며,상기 얼룩 씨앗 점 이미지 의 각 씨앗 점에 8-연결된 상기 얼룩 영역 이미지 의 픽셀들을 덧붙여서 얼룩 마스크를 생성하는 얼룩 결함 자동 검출 시스템
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청구항 제1항에서,상기 배경 이미지 생성부는,DCT 계수의 수평 성분 과 수직 성분 을 분석하여 수평 방향의 차단 주파수 와 수직 방향의 차단 주파수 를 결정하고, 각각의 상기 차단 주파수 , 를 적용하여 DCT 계수의 상기 수평 성분 과 수직 성분 을 필터링한 후, 필터링된 계수로 역 이산 코사인 변환(IDCT; Inverse Discrete Cosine Transform)를 통해 재구성된 배경 이미지를 생성하는 얼룩 결함 자동 검출 시스템
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청구항 제2항에서,상기 차단 주파수는,DCT 계수 와 성분의 변화율이 0에 가까워지는 구간의 시작점으로서, 하기 수식 4를 이용하여 결정되고,상기 필터링은,하기 수식 5를 이용하는 얼룩 결함 자동 검출 시스템
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청구항 제1항에서,상기 웨이블릿 변환부는,상기 배경 이미지의 배경 성분을 제거하고, 배경 성분이 제거된 이미지에 이산 웨이블릿 변환을 적용하여 하기 수식 6의 웨이블릿 근사화 계수 , 수식 7의 수평 웨이블릿 디테일 계수 , 수직 웨이블릿 디테일 계수 , 대각선 웨이블릿 디테일 계수 로 분해하는 얼룩 결함 자동 검출 시스템
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청구항 제1항 또는 제4항에서,상기 마스크 필터링부는,상기 얼룩 마스크 생성부에서 생성된 얼룩 마스크를 수평 웨이블릿 디테일 계수, 수직 웨이블릿 디테일 계수 및 대각선 웨이블릿 디테일 계수에 적용하여 주파수 영역의 잡음을 제거하고 얼룩 특징을 강조하는 얼룩 결함 자동 검출 시스템
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청구항 제7항에서,상기 마스크 필터링 부는,상기 얼룩 마스크를 상기 수평 웨이블릿 디테일 계수, 수직 웨이블릿 디테일 계수 및 대각선 웨이블릿 디테일 계수에 적용하여 상기 하기 수식 8과 같이 상기 얼룩 마스크의 on에 해당하는 각각의 웨이블릿 디테일 계수는 증폭시키고, 상기 얼룩 마스크의 off에 해당하는 각각의 웨이블릿 디테일 계수는 0으로 치환하여 제거한 후,각각의 웨이블릿 디테일 계수로 웨이블릿 역변환을 수행하여 얼룩이 강조된 이미지 를 생성하고,상기 얼룩이 강조된 이미지 에 닫기 연산을 수행하여 강조된 얼룩 영역을 연결된 객체로 만들고, 상기 연결된 객체의 윤곽선을 상기 원본 이미지에 나타낸 얼룩이 검출된 이미지 를 생성하는 얼룩 결함 자동 검출 시스템
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얼룩이 포함된 대상물의 원본 이미지에 차단 주파수를 적용하고 DCT 계수를 필터링하여 배경 이미지를 생성하는 단계;상기 원본 이미지에서 상기 배경 이미지 성분 제거하고 이산 웨이블릿 변환을 통해 웨이블릿 근사화 계수와 웨이블릿 디테일 계수를 생성하는 단계;상기 웨이블릿 근사화 계수를 이용하여 얼룩 마스크를 생성하는 단계; 및상기 웨이블릿 디테일 계수에 마스크 필터링을 적용하여 얼룩을 강조하는 단계를 포함하되,상기 얼룩 마스크를 생성하는 단계는,상기 웨이블릿 근사화 계수의 표준편차에 상수배를 기준으로 하여 얼룩의 씨앗 성분과 얼룩 후보 영역을 추출하고, 추출된 얼룩의 씨앗 성분과 얼룩 후보 영역에 영역 성장법을 적용하여 공간 영역의 저주파 잡음을 제거한 얼룩 마스크를 생성하는 단계;상기 얼룩 마스크 생성부가 하기 수식 1 및 수식 2를 통해 의 문턱치를 기준으로 웨이블릿 근사화 계수를 이진화하여 저주파 잡음이 제거된 얼룩 초기 씨앗 이미지 를 생성하는 단계;상기 얼룩 초기 씨앗 이미지 에 존재하는 각각의 영역에 대한 모든 연결 성분을 찾고, 각각의 영역의 상기 연결 성분을 한 픽셀로 침식시켜 얼룩 씨앗 점 이미지 를 생성하는 단계;의 문턱치를 기준으로 웨이블릿 근사화 계수를 이진화하여, 저주파 잡음이 일부 포함된 얼룩 영역 이미지 를 생성하는 단계; 및상기 얼룩 씨앗 점 이미지 의 각 씨앗 점에 8-연결된 상기 얼룩 영역 이미지 의 픽셀들을 덧붙여서 얼룩 마스크를 생성하는 단계를 포함하고,(수식 1)(수식 2)인 얼룩 결함 자동 검출 방법
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