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플라즈마를 이용한 액체 처리 장치(LIQUID PROCESSING DEVICE USING PLASMA)

  • 기술번호 : KST2016010429
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 플라즈마를 이용한 액체 처리 장치가 개시된다. 플라즈마를 이용한 액체 처리 장치는 피처리수를 포함하는 수조; 상기 피처리수의 수표면에 떠있도록 설치되고, 소정의 두께를 가지며, 상기 피처리수 상의 대기의 유전율보다 높은 유전율을 가진 유전체; 상기 유전체 상에 적층된 제1 전극; 상기 피처리수 내 또는 하단에 위치하는 제2 전극; 및 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 전원을 인가하는 전원공급장치를 포함하고, 상기 전원공급장치가 상기 두 전극에 전압을 인가하면, 상기 제1 전극의 가장자리로부터 상기 수표면을 향해 플라즈마가 발생된다.
Int. CL C02F 1/46 (2006.01) C02F 1/461 (2006.01) C02F 1/48 (2006.01)
CPC C02F 1/46109(2013.01) C02F 1/46109(2013.01) C02F 1/46109(2013.01) C02F 1/46109(2013.01) C02F 1/46109(2013.01)
출원번호/일자 1020140156964 (2014.11.12)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1661124-0000 (2016.09.23)
공개번호/일자 10-2016-0056565 (2016.05.20) 문서열기
공고번호/일자 (20160929) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.11.12)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유승열 대한민국 대전광역시 서구
2 정용호 대한민국 서울특별시 광진구
3 석동찬 대한민국 전라북도 군산시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.11.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-1088523-17
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.12.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2016.02.05 수리 (Accepted) 9-1-2016-0006316-61
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.02.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0132788-57
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.04.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0390409-17
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2016-0390435-94
7 등록결정서
Decision to grant		 2016.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0631683-88
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
피처리수를 포함하는 수조;상기 피처리수의 수표면에 떠있도록 설치되고, 상기 피처리수 상의 대기의 유전상수보다 높은 유전상수를 갖는 두께로 형성된 유전체;상기 유전체 상에 적층되는 제1 전극으로서, 상기 제1 전극 및 피처리수의 수표면 사이의 영역이 상기 유전체의 영역보다 낮은 유전상수를 갖도록 설정된 제1 전극;상기 피처리수 내 또는 하단에 위치하는 제2 전극; 및상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 전원을 인가하는 전원공급장치를 포함하고,상기 전원공급장치가 상기 두 전극에 전압을 인가하면, 상기 제1 전극의 가장자리로부터 상기 수표면을 향해 플라즈마가 발생되는,플라즈마를 이용한 액체 처리 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 제2 전극은 상기 수조인,플라즈마를 이용한 액체 처리 장치
3 3
제1항에 있어서,상기 제1 전극의 가장자리는 상기 유전체의 가장자리의 안쪽에 위치하여 있는,플라즈마를 이용한 액체 처리 장치
4 4
삭제
5 5
원통형 튜브;상기 원통형 튜브의 내부에서 상기 원통형 튜브의 축방향과 평행하고 상기 원통형 튜브의 내면과 일정 거리 이격되게 위치하는 제1 원통형 전극;상기 제1 원통형 전극의 외면을 감싸고 있는 유전층;상기 원통형 튜브의 내면을 흐르는 얇은 층으로 피처리수를 공급하는 피처리수 공급부;상기 원통형 튜브 내부에서 상기 제1 원통형 전극의 아래에 위치하고, 상기 제1 원통형 전극의 가장자리와 소정의 간격을 가지고 이격되게 위치한 제2 원통형 전극; 및상기 제1 원통형 전극 및 상기 제2 원통형 전극에 전압을 인가하는 전원공급장치를 포함하고,상기 유전층은 상기 원통형 튜브 내의 대기의 유전상수보다 높은 유전상수를 갖는 두께로 형성되고, 상기 제1 원통형 전극은 상기 제1 원통형 전극 및 피처리수의 수표면 사이의 영역이 상기 유전층의 영역보다 낮은 유전상수를 갖도록 설정되고,상기 전원공급장치가 상기 두 전극에 고전압을 인가하면 상기 제1 원통형 전극의 끝단부로부터 상기 피처리수의 수표면을 향해 플라즈마가 발생되는,플라즈마를 이용한 액체 처리 장치
6 6
제5항에 있어서,상기 원통형 튜브의 하단부에 설치되어 상기 피처리수가 배출되는 피처리수 배출부를 더 포함하는,플라즈마를 이용한 액체 처리 장치
7 7
삭제
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.