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플라즈마 반응기(PLASMA REACTOR)

  • 기술번호 : KST2016010458
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 목적은 플라즈마와 촉매를 결합하여 대용량 기체를 처리하는 경우에도 압력손실을 최소화하는 플라즈마 반응기를 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 반응기는, 관상으로 형성되고 내부를 흐르는 처리 대상 기체의 외곽에서 일 방향으로 신장 배치되어 전기적으로 접지되는 제1전극, 상기 제1전극의 내부에서 상기 제1전극과 방전갭을 유지하여 나란하게 배치되고 전압을 인가하는 제2전극, 및 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에서 나란하게 배치되는 촉매를 포함한다.
Int. CL B01D 53/32 (2006.01) H05H 1/34 (2006.01)
CPC B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01)
출원번호/일자 1020140158163 (2014.11.13)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0057207 (2016.05.23) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.11.13)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강우석 대한민국 대전광역시 유성구
2 송영훈 대한민국 대전광역시 유성구
3 허민 대한민국 대전광역시 유성구
4 이재옥 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.11.13 수리 (Accepted) 1-1-2014-1094560-82
2 보정요구서
Request for Amendment		 2014.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0205073-99
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2014.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2014-1142899-14
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.04.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0039129-57
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.01.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0019996-74
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.02.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0140698-32
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.02.12 수리 (Accepted) 1-1-2016-0140692-69
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0551589-39
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.09.13 수리 (Accepted) 1-1-2016-0896203-32
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.09.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0896204-88
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0114379-10
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.03.13 수리 (Accepted) 1-1-2017-0247469-59
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.03.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0247470-06
15 등록결정서
Decision to grant		 2017.06.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0433218-16
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
관상으로 형성되고 내부를 흐르는 처리 대상 기체의 외곽에서 일 방향으로 신장 배치되어 전기적으로 접지되는 제1전극;상기 제1전극의 내부에서 상기 제1전극과 방전갭을 유지하여 나란하게 배치되고 전압을 인가하는 제2전극; 및상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에서 나란하게 배치되는 촉매를 포함하며,상기 제1전극에 결합되어 상기 제2전극과 상기 촉매의 위치를 설정하는 홀더를 더 포함하고,상기 제2전극은복수로 구비되어 서로 이격 배치되는 플라즈마 반응기
2 2
제1항에 있어서,상기 홀더는 상기 제1전극의 양단에 결합되는 플라즈마 반응기
3 3
제1항에 있어서,상기 제1전극은 원통으로 형성되고,복수의 상기 제2전극은 상기 제1전극의 중심에서 이격 배치되는 플라즈마 반응기
4 4
제3항에 있어서,상기 촉매는 복수로 구비되어 서로 이격되고, 상기 제1전극 및 상기 제2전극과 각각 이격 배치되는 플라즈마 반응기
5 5
제4항에 있어서,복수의 촉매는 동일 직경으로 형성되는 플라즈마 반응기
6 6
제1항에 있어서,상기 제1전극은 원통으로 형성되고,그 내주면에 유전체층을 더 포함하는 플라즈마 반응기
7 7
관상으로 형성되고 내부를 흐르는 처리 대상 기체의 외곽에서 일 방향으로 신장 배치되어 전기적으로 접지되는 제1전극;상기 제1전극의 내부에서 상기 제1전극과 방전갭을 유지하여 나란하게 배치되고 전압을 인가하는 제2전극; 및상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에서 나란하게 배치되는 촉매를 포함하며,상기 제1전극은 원통으로 형성되고,상기 제2전극은 복수로 구비되어 상기 제1전극의 중심으로부터 설정된 거리에서 서로 이격 배치되는 플라즈마 반응기
8 8
제7항에 있어서,상기 촉매는 복수로 구비되어 서로 이격되고,표면적이 넓은 대직경으로 형성되는 제11촉매와 상기 제11촉매보다 소직경으로 형성되는 제12촉매를 포함하는 플라즈마 반응기
9 9
제8항에 있어서,상기 제11촉매는 복수로 구비되어, 상기 제2전극으로부터 설정된 거리의 둘레에서 서로 이격 배치되고,상기 제12촉매는 복수로 구비되어, 상기 제11촉매의 외곽에서 서로 이격되고 상기 제1전극의 내주면으로부터 설정된 거리의 내부에서 서로 이격 배치되는 플라즈마 반응기
10 10
제8항에 있어서,상기 제11촉매는 복수로 구비되어, 상기 제1전극의 내주면으로부터 설정된 거리의 내부에서 서로 이격 배치되고,상기 제12촉매는 복수로 구비되어, 상기 제11촉매의 내측인 상기 제2전극으로부터 설정된 거리의 둘레에서 서로 이격 배치되는 플라즈마 반응기
11 11
제8항에 있어서,상기 제11촉매는 복수로 구비되어, 상기 제2전극으로부터 설정된 거리의 둘레에서 서로 이격되고 상기 제1전극의 내주면으로부터 설정된 거리의 내부에서 서로 이격 배치되며,상기 제12촉매는 복수로 구비되어, 상기 제2전극으로부터 설정된 거리의 둘레에서 상기 제11촉매 사이에 이격 배치되고 상기 제1전극의 내주면으로부터 설정된 거리의 내부에서 상기 제11촉매 사이에 이격 배치되는 플라즈마 반응기
12 12
제7항에 있어서,상기 촉매는 복수로 구비되어 서로 이격되고,일 촉매 물질로 형성되는 제21촉매와 상기 제21촉매와 다른 촉매 물질로 형성되는 제22촉매를 포함하는 플라즈마 반응기
13 13
제12항에 있어서,상기 제21촉매는 복수로 구비되어, 상기 제2전극으로부터 설정된 거리의 둘레에서 서로 이격 배치되고상기 제22촉매는 복수로 구비되어, 상기 제1전극의 내주면으로부터 설정된 거리의 내부에서 서로 이격 배치되는 플라즈마 반응기
14 14
제12항에 있어서,상기 제21촉매는 복수로 구비되어, 상기 제2전극으로부터 설정된 거리의 둘레에서 서로 이격되고 상기 제1전극의 내주면으로부터 설정된 거리의 내부에서 서로 이격 배치되며,상기 제22촉매는 복수로 구비되어, 상기 제2전극으로부터 설정된 거리의 둘레에서 상기 제21촉매 사이에 이격 배치되고 상기 제1전극의 내주면으로부터 설정된 거리의 내부에서 상기 제21촉매 사이에 이격 배치되는 플라즈마 반응기
15 15
제4항에 있어서,상기 촉매는 처리 대상 기체의 흐름 방향에서 일측에 형성되는 제1직경부와 상기 제1직경부에 연결되고 상기 제1직경부보다 크거나 작은 제2직경부를 포함하는 플라즈마 반응기
16 16
제4항에 있어서,상기 촉매는 처리 대상 기체의 흐름 방향에서 일측에 제1직경을 형성하고 다른 측에서 제2직경을 형성하며,상기 제1직경과 상기 제2직경 사이에서 점진적으로 커지거나 작아지는 플라즈마 반응기
17 17
제1항에 있어서,상기 제1전극의 외주면에 구비되는 단열재 또는 가열부를 더 포함하는 플라즈마 반응기
18 18
제1항에 있어서,상기 제1전극은 사각 관체를 형성하고,복수의 상기 제2전극은 상기 제1전극의 중심에서 서로 이격 배치되고,상기 촉매는 복수로 구비되어 서로 이격되고, 상기 제1전극과 상기 제2전극사이에 각각 배치되는 플라즈마 반응기
19 19
관상으로 형성되고 내부를 흐르는 처리 대상 기체의 외곽에서 일 방향으로 신장 배치되어 전기적으로 접지되는 제1전극;상기 제1전극의 내부에서 상기 제1전극과 방전갭을 유지하여 나란하게 배치되고 전압을 인가하는 제2전극; 및상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에서 나란하게 배치되는 촉매를 포함하며,상기 제1전극에 결합되어 상기 제2전극과 상기 촉매의 위치를 설정하는 홀더를 더 포함하고,상기 제1전극은사각 관체를 형성되는 유전체와 상기 유전체의 외측에 배치되는 1쌍의 플레이트 전극를 포함하고,상기 제2전극은 복수로 구비되어 상기 유전체의 중심에서 서로 이격 배치되며,상기 촉매는 복수로 구비되어 서로 이격되고, 상기 제1전극과 상기 제2전극사이에 각각 배치되는 플라즈마 반응기
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 기계연구원 주요사업 대면적/고속 표면처리용 상압 플라즈마 장비개발 (3/3)
2 미래창조과학부 기계연구원 국가과학기술연구회-융합연구 저탄소/저공해를 위한 나노촉매-플라즈마 하이브리드 기술개발 (4/5)