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유전물질 및 바인더가 포함된 코팅액을 다공성 기재에 도포하여 코팅층을 형성하는 단계; 및상기 코팅층이 형성된 다공성 기재에 고전압을 인가하여 상기 코팅층에 포함된 유전물질을 분극시켜(poling) 분극된 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 리튬-유황 이차전지용 분리막 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계에서,상기 코팅액은 유전물질을 60 내지 80 중량%를 포함하고, 바인더를 20 내지 40 중량%를 포함한 것을 특징으로 하는 리튬-유황 이차전지용 분리막 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계에서,상기 다공성 기재는 폴리올리핀계 다공성 막 또는 폴리에틸렌 섬유로 이루어진 부직포이고,상기 유전물질은 티탄산바륨(BaTiO3), 티탄산납(PbTiO3), 니오브산칼륨(KNbO3), 니오브산리튬(CiNbO3), 니오브산납(PbNb2O6), BNN(Ba2NaNb5O15), 지르콘티탄산납(leadzirconate-titanate), 폴리불화비닐리덴(PVDF), Pb(Mg1/2Nb2/3)O3-PbTiO3(PMN-PT), 하프니아(HfO2), 티탄산 스트론튬(SrTiO3), 주석산(SnO3), 산화세륨(CeO2), 산화마그네슘(MgO), 산화니켈(NiO), 산화칼슘(CaO), 산화아연(ZnO), 지르코늄(ZrO2), 산화이트륨(Y2O3) 산화알루미늄(Al2O3), 탄화규소(SiC) 및 타이타늄(TiO2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 물질 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 리튬-유황 이차전지용 분리막 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계에서,상기 바인더는 폴리아크릴아마이드(polyacrylamide), 폴리메틸아마이드(polymethylamide), 폴리비닐리덴플루오라이드(polyvinylideneflouride), 폴리헥사플루프로필렌(polyhexafluropropylene), 비닐리덴플루오라이드-헥사플루오로프로필렌 코폴리머(vinylideneflouride-co-hexafluropropylene), 폴리비닐리덴플루오라이드(polyvinylidenefluoride)
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제 1항에 있어서,상기 분극된 코팅층을 형성하는 단계에서,500V 내지 2000V의 고전압을 6시간 내지 24시간 인가하는 것을 특징으로 하는 리튬-유황 이차전지용 분리막 제조 방법
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다공성 기재;상기 다공성 기재의 표면에 형성되며, 고전압 인가에 의해 분극된 유전물질을 함유하는 분극된 코팅층;을 포함하는 리튬-유황 이차전지용 분리막
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제 6항에 있어서,상기 다공성 기재는 폴리올리핀계 다공성 막 또는 폴리에틸렌 섬유로 이루어진 부직포이고,상기 유전물질은 티탄산바륨(BaTiO3), 티탄산납(PbTiO3), 니오브산칼륨(KNbO3), 니오브산리튬(CiNbO3), 니오브산납(PbNb2O6), BNN(Ba2NaNb5O15), 지르콘티탄산납(leadzirconate-titanate),폴리불화비닐리덴(PVDF), Pb(Mg1/2Nb2/3)O3-PbTiO3(PMN-PT), 하프니아(HfO2), 티탄산 스트론튬(SrTiO3), 주석산(SnO3), 산화세륨(CeO2), 산화마그네슘(MgO), 산화니켈(NiO), 산화칼슘(CaO), 산화아연(ZnO), 지르코늄(ZrO2), 산화이트륨(Y2O3), 산화알루미늄(Al2O3), 탄화규소(SiC) 및 타이타늄(TiO2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 물질 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 리튬-유황 이차전지용 분리막
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전해액;리튬을 함유하는 음극 전극;유황을 함유하는 양극 전극;상기 음극 전극과 양극 전극 사이에 위치하는 분리막;을 포함하며,상기 분리막은,다공성 기재;상기 다공성 기재의 표면에 형성되며, 고전압 인가에 의해 분극된 유전물질을 함유하는 분극된 코팅층;을 포함하는 리튬-유황 이차전지
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