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탄탈룸 코팅 피막 형성 방법 및 이에 의해 제조된 구조재(Method of forming tantalum coating film and structure frame manufactured by the same)

  • 기술번호 : KST2016010856
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 탄탈룸 코팅 피막 형성 방법 및 이에 의해 제조된 구조재를 개시한다. 본 발명에 따르면, (a) 탄탈룸 와이어와 모재를 용접하는 단계; (b) LiF, NaF 및 K2TaF7으로 구성되고, 탄탈룸을 전기도금 하기 위한 용융염을 형성하는 단계; (c) 탄탈룸 와이어와 모재를 작업전극으로 백금 와이어를 기준전극으로 하여 용융염 내에 장입하는 단계; 및 (d) 모재에 전류를 인가하여 상기 모재에 탄탈룸 금속을 전착하는 단계;를 포함하는 탄탈룸 코팅 피막 형성 방법이 제공된다.
Int. CL C25D 3/54 (2006.01) C25D 3/66 (2006.01)
CPC C25D 3/66(2013.01) C25D 3/66(2013.01)
출원번호/일자 1020140195515 (2014.12.31)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자 10-1656157-0000 (2016.09.02)
공개번호/일자 10-2016-0060523 (2016.05.30) 문서열기
공고번호/일자 (20160908) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020140162477   |   2014.11.20
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.12.31)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강경수 대한민국 대전광역시 유성구
2 박주식 대한민국 대전광역시 유성구
3 배기광 대한민국 세종특별자치시 다솜로 ***,
4 정성욱 대한민국 대전광역시 서구
5 조원철 대한민국 서울특별시 중랑구
6 이종현 대한민국 대전광역시 유성구
7 이영준 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 최관락 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 ** (역삼동) 동림빌딩 *층(아이피즈국제특허법률사무소)
2 송인호 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 ** (역삼동) 동림빌딩 *층(아이피즈국제특허법률사무소)
3 민영준 대한민국 서울특별시 강남구 남부순환로 ****, *층(도곡동, 차우빌딩)(맥스국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2014-1285882-03
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.10 수리 (Accepted) 4-1-2015-0013224-83
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.11.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.12.17 수리 (Accepted) 9-1-2015-0080446-77
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.02.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0105457-27
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.04.11 수리 (Accepted) 1-1-2016-0345917-44
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.04.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0345943-21
8 등록결정서
Decision to grant
2016.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0604329-18
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 탄탈룸 와이어와 모재를 용접하는 단계;(b) LiF, NaF 및 K2TaF7으로 구성되고, 탄탈룸을 전기도금 하기 위한 용융염을 형성하는 단계;(c) 탄탈룸 와이어와 모재를 작업전극으로 백금 와이어를 기준전극으로 하여 용융염 내에 장입하는 단계; 및(d) 모재에 전류를 인가하여 상기 모재에 탄탈룸 금속을 전착하는 단계;를 포함하되, 상기 용융염을 형성하는 단계는,LiF와 NaF를 61 mol% LiF - 39 mol% NaF의 조성이 되도록 칭량한 후 열처리하는 단계; 및K2TaF7를 첨가하는 단계를 포함하고, 상기 모재에 탄탈룸 금속을 전착하는 단계 이후에,전착된 탄탈룸 소재의 용접부를 연마 후 탄탈룸 와이어를 재 용접하는 단계;재 용접한 모재를 용융염에 재 장입하는 단계; 및상기 재 장입한 모재에 전류를 인가하여 탄탈륨 금속을 이중으로 전착하는 단계를 더 포함하는 탄탈룸 코팅 피막 형성 방법
2 2
삭제
3 3
삭제
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제 1 항에 있어서,상기 K2TaF7를 첨가하는 단계는, 1mol% K2TaF7를 첨가하는 탄탈룸 코팅 피막 형성 방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 K2TaF7를 첨가하는 단계는, 2mol% K2TaF7를 첨가하는 탄탈룸 코팅 피막 형성 방법
6 6
제 1 항에 있어서,전착 단계는 아르곤 분위기 하에서 수행되는 탄탈룸 코팅 피막 형성 방법
7 7
제 1 항에 있어서,전착 온도는 800℃인 탄탈룸 코팅 피막 형성 방법
8 8
제 1 항에 따른 방법에 의해 제조되는 탄탈룸 코팅 피막 구조재
9 9
제 8 항에 있어서,부식 속도가 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국에너지기술연구원 주요사업 SI공정 핵심요소기술 개발