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졸겔 나노입자 분산용매의 유전상수 조절을 통한 입자응집 제어 및 이에 의한 초발수 표면 제조방법(Method for controlling aggregation of sol-gel nanoparticles by solvent relative permittivity, and fabrication of superhydrophobic surfaces using thereof)

  • 기술번호 : KST2016010899
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 초발수 표면 제조방법에 있어서, 나노입자 분산액을 준비하는 단계와; 상기 나노입자 분산액에 유전상수(Solvent relative permittivty, ε) 20 이하의 용매 추가를 통해 상기 나노입자 분산액의 유전상수 값을 조절하여 나노입자를 응집하는 단계와; 응집된 상기 나노입자 분산액을 코팅대상 표면에 코팅하는 단계와; 코팅된 상기 코팅대상 표면을 표면소수화 처리하는 단계를 포함하는 것을 기술적 요지로 한다. 이에 의해 나노입자 분산액의 유전상수를 조절하여 나노입자의 뭉침 정도를 조절하고, 이를 코팅대상 표면에 적용하여 초발수 현상을 일으키는 표면을 얻을 수 있다.
Int. CL C09D 5/16 (2006.01.01) C09K 3/18 (2006.01.01) C09D 7/00 (2018.01.01) C09D 1/00 (2020.01.01) C08J 3/00 (2006.01.01)
CPC C09D 5/1681(2013.01) C09D 5/1681(2013.01) C09D 5/1681(2013.01) C09D 5/1681(2013.01) C09D 5/1681(2013.01)
출원번호/일자 1020140163101 (2014.11.21)
출원인 한국전기연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0060913 (2016.05.31) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.11.06)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 대한민국 경상남도 창원시 성산구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이대호 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 한세원 대한민국 경상남도 창원시 성산구
3 정진 대한민국 부산광역시 동래구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인부경 대한민국 부산광역시 연제구 법원남로**번길 **, *층 (거제동, 대한타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-1122925-45
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.04 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006987-25
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2019-1139778-00
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.07.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.09.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2020-0178621-15
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0808706-74
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번호 청구항
1 1
초발수 표면 제조방법에 있어서,나노입자 분산액을 준비하는 단계와;상기 나노입자 분산액에 유전상수(Solvent relative permittivty, ε) 20 이하의 용매 추가를 통해 상기 나노입자 분산액의 유전상수 값을 조절하여 나노입자를 응집하는 단계와;응집된 상기 나노입자 분산액을 코팅대상 표면에 코팅하는 단계와;코팅된 상기 코팅대상 표면을 표면소수화 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 초발수 표면 제조방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 나노입자 분산액의 유전상수 값을 조절하여 나노입자를 응집하는 단계는,상기 나노입자 분산액이 30 이하의 유전상수 값을 갖도록 조절하는 것을 특징으로 하는 초발수 표면 제조방법
3 3
제 1항에 있어서,상기 용매는,상기 나노입자가 나노 사이즈 및 마이크로 사이즈로 불규칙하게 응집되도록 유전상수 5 미만의 비극성 용매, 유전상수 5 내지 20의 저극성 용매 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 초발수 표면 제조방법
4 4
제 3항에 있어서,상기 비극성 용매는,톨루엔(Toluene), 자일렌(Xylene), 벤젠(Benzene), 헥산(Hexane), 클로로폼(Chloroform), 카본테트라클로라이드(Carbon tetrachloride) 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택되며,상기 저극성 용매는,이소프로필알콜(Isopropyl alcohol), 부틸알콜(Butyl alcohol), t-부틸알콜(t-Butyl alcohol), 펜틸알콜(Pentyl alcohol), 벤질알콜(Benzyl alcohol) 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 초발수 표면 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 나노입자 분산액을 준비하는 단계에서,상기 나노입자는 졸-겔(Sol-gel) 기법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 초발수 표면 제조방법
6 6
제 1항에 있어서,상기 나노입자는 산화실리콘(SiO2), 산화티타늄(TiO2), 산화주석(SnO2), 산화알루미늄(Al2O3) 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 초발수 표면 제조방법
7 7
제 6항에 있어서,상기 나노입자는 10nm 내지 1㎛의 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 초발수 표면 제조방법
8 8
제 1항에 있어서,상기 나노입자 분산액을 준비하는 단계에서,상기 분산액은 물 및 극성 유기용매의 혼합액이며,상기 극성 유기용매는 메틸알콜(Metyl alcohol), 에틸알콜(Ethyl alcohol), 프로필알콜(Propyl alcohol) 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 초발수 표면 제조방법
9 9
제 1항에 있어서,상기 코팅대상 표면을 표면소수화 처리하는 단계는,상기 코팅대상 표면을 소수성 실란을 포함하는 소수성 용매에 함침하는 단계와;질소 분위기 내에서 소수화 반응하는 단계와;상기 코팅대상 표면을 상기 소수성 용매로부터 꺼내어 세척하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 초발수 표면 제조방법
10 10
제 9항에 있어서,상기 소수성 실란은,옥타데실트리클로로실란(Octadecyltrichlorosilane), 옥틸트리클로로실란(Octyltrichlorosilane), 헥실트리클로로실란(Hexyltrichlorosilane), 옥타데실트리에톡시실란(Octadecyltriethoxysilane), 옥틸트리메톡시실란(Octyltrimethoxysilane), 헥실트리에톡시실란(Hexyltriethoxysilane), 퍼플루오로옥틸트리에톡시실란(Perfluorooctyltriethoxysilane) 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 초발수 표면 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.