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형광체 플레이트; 및상기 형광체 플레이트 표면 중 하나 이상의 표면에 형성된 그래핀층;을 포함하는데, 상기 형광체 플레이트는 글래스 및 투명세라믹 중 하나 이상을 포함하는 무기소재와 형광체가 균일하게 배합된 상태로 열처리되어 형성되거나, 형광체만을 소성하여 형성된 판상형 플레이트이고,상기 형광체는 (Y,Tb)3Al5O12:Ce3+, (Sr,Ba,Ca)2Si5N8:Eu2+, CaAlSiN3:Eu2+, BaMgAl10O17:Eu2+, BaMgAl10O17:Eu2+,Mn2+, Ca-alpha-SiAlON:Eu2+, Beta-SiAlON:Eu2+, (Ca,Sr,Ba)2P2O7:Eu2+, (Ca,Sr,Ba)2P2O7:Eu2+,Mn2+, (Ca,Sr,Ba)5(PO4)3Cl:Eu2+, Lu2SiO5:Ce3+, (Ca,Sr,Ba)3SiO5:Eu2+, (Ca,Sr,Ba)2SiO4:Eu2+, Zn2SiO4:Mn2+, BaAl12O19:Mn2+, BaMgAl14O23:Mn2+, SrAl12O19:Mn2+, CaAl12O19:Mn2+, YBO3:Tb3+, LuBO3:Tb3+, Y2O3:Eu3+, Y2SiO5:Eu3+, Y3Al5O12:Eu3+, YBO3:Eu3+, Y0
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형광체 플레이트를 준비하는 단계; 및상기 준비된 형광체플레이트 표면 중 하나 이상의 표면에 그래핀층을 형성하는 단계;를 포함하는데, 상기 형광체 플레이트를 준비하는 단계는 무기소재분말과 형광체를 균일하게 혼합하거나 형광체만으로 반응물을 준비하는 단계, 상기 준비된 반응물을 가압한 후 열처리하여 형광체 플레이트를 성형하는 단계, 및 상기 성형된 형광체 플레이트의 표면을 폴리싱 처리하는 단계를 포함하고, 상기 형광체는 (Y,Tb)3Al5O12:Ce3+, (Sr,Ba,Ca)2Si5N8:Eu2+, CaAlSiN3:Eu2+, BaMgAl10O17:Eu2+, BaMgAl10O17:Eu2+,Mn2+, Ca-alpha-SiAlON:Eu2+, Beta-SiAlON:Eu2+, (Ca,Sr,Ba)2P2O7:Eu2+, (Ca,Sr,Ba)2P2O7:Eu2+,Mn2+, (Ca,Sr,Ba)5(PO4)3Cl:Eu2+, Lu2SiO5:Ce3+, (Ca,Sr,Ba)3SiO5:Eu2+, (Ca,Sr,Ba)2SiO4:Eu2+, Zn2SiO4:Mn2+, BaAl12O19:Mn2+, BaMgAl14O23:Mn2+, SrAl12O19:Mn2+, CaAl12O19:Mn2+, YBO3:Tb3+, LuBO3:Tb3+, Y2O3:Eu3+, Y2SiO5:Eu3+, Y3Al5O12:Eu3+, YBO3:Eu3+, Y0
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