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기판;상기 기판상에 위치하는 복수의 금속 박막; 및상기 복수의 금속 박막 각각에 위치된 액체 상태의 금속 용액을 냉각시켜 반구형으로 형성한 복수의 금속 표적을 포함하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치용 표적 장치
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제1항에 있어서,상기 액체 상태의 금속 용액은,동일한 양으로 상기 복수의 금속 박막 각각에 위치되는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치용 표적 장치
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제1항에 있어서,상기 X선 발생장치용 표적 장치는,상기 액체 상태의 금속 용액이 냉각되어 반구형으로 변한 후, 소정 두께를 갖도록 상기 기판상에 형성된 코팅체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치용 표적 장치
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제3항에 있어서,상기 코팅체는,상기 복수의 금속 표적의 밀도보다 작은 밀도를 갖는 물질로 구성된 것을 특징으로 하는 X선 발생장치용 표적 장치
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제1항에 있어서,상기 기판은,실리콘, 유리, 알루미늄, 탄소 및 고분자 필름 중 적어도 하나로 구성된 것을 특징으로 하는 X선 발생장치용 표적 장치
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제1항에 있어서,상기 복수의 금속 박막은,니켈, 크롬 및 티타늄 중 적어도 하나로 구성된 것을 특징으로 하는 X선 발생장치용 표적 장치
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제1항에 있어서,상기 복수의 금속 표적은,금, 은, 아연, 인듐, 구리, 주석, 납 및 비스무스 중 적어도 하나로 구성된 것을 특징으로 하는 X선 발생장치용 표적 장치
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제1항에 있어서,상기 복수의 금속 박막 각각은,동일한 이격 거리를 가지고 상기 기판상에 위치되는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치용 표적 장치
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X선 발생장치용 표적 장치의 제조 방법에 있어서,기판상에 복수의 금속 박막을 위치시키는 단계;복수의 금속체를 상기 복수의 금속 박막 각각에 위치시킨 후, 상기 복수의 금속체를 가열하는 단계; 및상기 복수의 금속체가 가열되어 용융되면, 용융되어 생성된 금속 용액을 냉각시켜, 반구형의 복수의 금속 표적을 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치용 표적 장치의 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 X선 발생장치용 표적 장치의 제조 방법은,상기 복수의 금속 표적이 생성된 후, 상기 기판상에 소정 두께의 코팅체를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 X선 발생장치용 표적 장치의 제조 방법
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