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가공물 거치부와 스테이지 사이에 구비되는 능동 보정 장치에 있어서,상기 능동 보정 장치는,내부에 수용공간이 형성된 몸체;상기 수용공간의 반경 방향 내측에 구비되며, MR 유체의 점도 변화를 통해 감쇠력이 가변되는 MR 액추에이터; 및상기 수용공간의 반경 방향 외측에 구비되며, 자력에 의해 길이 변위가 발생하는 자기변형소자를 포함하는 자기변형 액추에이터; 를 포함하되,상기 MR 액추에이터는,상기 몸체에 수용되며, 내부에 MR 유체가 충진되는 유체공간이 형성되고, 외부에 상기 MR 유체의 점도를 가변시키도록 자기장 형성을 위한 제1 코일이 권취되는 제1 보빈부; 및상기 제1 보빈부의 내부에 축 방향으로 왕복운동 가능하도록 끼워지되 상기 MR 유체의 점도 변화에 의해 감쇠력이 가변되는 MR 샤프트; 를 포함하고,상기 몸체의 일측이 상기 가공물 거치부 또는 상기 스테이지 중 어느 하나에 고정되며, 상기 샤프트의 타측이 상기 가공물 거치부 또는 상기 스테이지 중 어느 하나에 고정되어, 상기 가공물 거치부에 거치되는 가공물의 채터를 감쇄하는, 열 및 채터 일체형 능동 보정 장치
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제 3항에 있어서,상기 MR 액추에이터는,상기 MR 샤프트의 위치 복원을 위해, 상기 MR 샤프트의 하단과, 하부커버의 하면 사이에 구비되는 MR 포지션 스프링;을 포함하는, 열 및 채터 일체형 능동 보정 장치
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가공물 거치부와 스테이지 사이에 구비되는 능동 보정 장치에 있어서,상기 능동 보정 장치는,내부에 수용공간이 형성된 몸체;상기 수용공간의 반경 방향 내측에 구비되며, MR 유체의 점도 변화를 통해 감쇠력이 가변되는 MR 액추에이터; 및상기 수용공간의 반경 방향 외측에 구비되며, 자력에 의해 길이 변위가 발생하는 자기변형소자를 포함하는 자기변형 액추에이터; 를 포함하되,상기 MR 액추에이터는,상기 몸체에 수용되며, 내부에 MR 유체가 충진되는 유체공간이 형성되고, 외부에 상기 MR 유체의 점도를 가변시키도록 자기장 형성을 위한 제1 코일이 권취되는 제1 보빈부; 및상기 제1 보빈부의 내부에 축 방향으로 왕복운동 가능하도록 끼워지되 상기 MR 유체의 점도 변화에 의해 감쇠력이 가변되는 MR 샤프트; 를 포함하고,상기 자기변형 액추에이터는, 내부에 상기 제1 보빈부가 수용되도록 상기 몸체의 반경방향 외측에 수용되며, 외부에 상기 자기변형소자의 변위를 가변시키도록 자기장 형성을 위한 제2 코일이 권취되는 제2 보빈부; 및상기 코일의 자기장에 의해 일측과 타측 길이방향으로 변위가 발생되도록 상기 제1 보빈부와 상기 제2 보빈부 사이에 구비되는 자기변형소자;를 포함하는, 열 및 채터 일체형 능동 보정 장치
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제 5항에 있어서,상기 몸체는,일측에 일측과 타측 길이방향으로 왕복운동 가능한 상부 커버를 포함하며,상기 자기변형소자의 일단이 상기 상부 커버에 연결되어 상기 자기변형소자의 변위에 의해 상기 가공물 거치부에 거치되는 가공물의 변위를 보정하는, 열 및 채터 일체형 능동 보정 장치
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제 5항에 있어서,상기 자기변형 액추에이터는, 상기 제2 보빈부의 상측에 구비되는 페라이트 소자; 를 더 포함하는, 열 및 채터 일체형 능동 보정 장치
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제 6항에 있어서,상기 자기변형 액추에이터는,상기 상부 커버의 위치 복원을 위해, 상기 제2 보빈부의 상측과 상기 상부 커버의 하면 사이에 구비되는, 자기변형 포지션 스프링;을 포함하는, 열 및 채터 일체형 능동 보정 장치
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제 5항에 있어서, 상기 MR 액추에이터 및 자기변형 액추에이터 일체형 능동 보정 장치는,상기 가공물 거치부에 구비된 채터 감지 센서;상기 가공물 거치부에 구비된 변위 감지 센서; 및상기 채터 감지 센서의 채터 신호를 통해 상기 제1 코일에 가해지는 전류를 제어하며, 상기 가공물 거치부에 구비된 변위 감지 센서의 변위 신호를 통해 상기 제2 코일에 가해지는 전류를 제어하는 제어부;를 포함하는, 열 및 채터 일체형 능동 보정 장치
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제 9항에 있어서,상기 제어부는, 상기 가공물의 열 변형 시뮬레이션을 통해 산출된 상기 가공물의 시간에 따른 변위 신호가 저장된 데이터베이스를 통해 상기 변위 신호를 전달받아 상기 제2 코일에 가해지는 전류를 제어하는, 열 및 채터 일체형 능동 보정 장치
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