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고휘도 극초단 빔 발생 펨토초 레이저 장치(Ultrashort Femtosecond Laser Apparatus For High-Brightness beam)

기술번호 : KST2016011449
담당센터 : 부산기술혁신센터
전화번호 : 051-606-6561

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	공간적으로 서로 수직방향의 Ng, Np, Nm축을 갖는 제 1 레이저 매질; 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행한 Np축, 상기 제 1 레이저 매질의 Np 축에 실질적으로 평행한 Nm축, 상기 제 1 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행한 Ng축을 갖도록 배치된 제 2 레이저 매질; 및 상기 제 1 레이저 매질 및 상기 제 2 레이저 매질에 각각 인접하여 배치된 제 1 레이저 다이오드 및 제 2 레이저 다이오드를 포함하고, 상기 제 1 레이저 매질은, Np축에 평행한 높이(H)가 Nm축에 평행한 폭(W)보다 크거나 작고, 상기 제 2 레이저 매질은, Nm축에 평행한 높이(H)가 Ng축에 평행한 폭(W)보다 작거나 큰 형상을 갖도록 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향에 대해 서로 나란히 배치되는 펨토초 레이저 장치를 제공한다.
Int. CL	H01S 3/102 (2006.01.01)
CPC	H01S 3/102(2013.01) H01S 3/102(2013.01) H01S 3/102(2013.01)
출원번호/일자	1020140170885 (2014.12.02)
출원인	한국전기연구원
등록번호/일자
공개번호/일자	10-2016-0066682 (2016.06.13) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2019.11.19)
심사청구항수	20

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	한국전기연구원	대한민국	경상남도 창원시 성산구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	김광훈	대한민국	부산광역시 수영구
2	강욱	대한민국	서울시 강서구
3	양주희	대한민국	서울시 은평구
4	이병학	대한민국	서울특별시 서초구
5	살 엘레나	러시아	경상남도 창원시 성산구
6	세르게이 치조프	러시아	경상남도 창원시 성산구
7	야쉰 블라디미르	러시아	서울특별시 강서구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	특허법인주원	대한민국	서울특별시 강남구 언주로 **, 층(논현동, 건설회관)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2014.12.02	수리 (Accepted)	1-1-2014-1174220-28
2	[출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment	2014.12.04	수리 (Accepted)	1-1-2014-1182687-68
3	보정요구서 Request for Amendment	2014.12.17	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2014-0231181-76
4	[출원서등 보정]보정서(납부자번호) [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)	2014.12.18	수리 (Accepted)	1-1-2014-1228317-58
5	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.02.04	수리 (Accepted)	4-1-2015-0006987-25
6	[출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment	2015.11.25	수리 (Accepted)	1-1-2015-1151860-80
7	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)	2019.11.19	수리 (Accepted)	1-1-2019-1186034-41
8	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2020.06.15	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
9	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2020.08.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-6-2020-0139888-28
10	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2020.09.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2020-0658121-45
11	[지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서	2020.11.16	보정 (Amendment)	1-1-2020-1224627-11
12	보정요구서 Request for Amendment	2020.11.24	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2020-0176190-59

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 공간적으로 서로 수직방향의 Ng, Np, Nm축을 갖는 제 1 레이저 매질; 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행한 Np축, 상기 제 1 레이저 매질의 Np 축에 실질적으로 평행한 Nm축, 상기 제 1 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행한 Ng축을 갖도록 배치된 제 2 레이저 매질; 및 상기 제 1 레이저 매질 및 상기 제 2 레이저 매질에 각각 인접하여 배치된 제 1 레이저 다이오드 및 제 2 레이저 다이오드를 포함하는 펨토초 레이저 장치에 있어서,상기 제 1 레이저 매질은, Np축에 평행한 높이(H)가 Nm축에 평행한 폭(W)보다 크거나 작고, 상기 제 2 레이저 매질은, Nm축에 평행한 높이(H)가 Ng축에 평행한 폭(W)보다 작거나 큰 형상을 갖도록 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향에 대해 서로 나란히 배치되는 펨토초 레이저 장치
2	2 제 1항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질은, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행하도록 배치되고, 상기 제 2 레이저 매질은, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Np축에 실질적으로 평행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
3	3 제 1항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질은, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향(Elaser)이 상기 제 1 레이저 매질의 Np축에 실질적으로 평행하도록 배치되고, 상기 제 2 레이저 매질은, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향(Elaser)이 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
4	4 제 1항에 있어서, 상기 제 1 레이저 매질은, 상기 제 1 레이저 다이오드로부터 발생된 제 1 펌핑 광의 편광방향이 상기 제 1 레이저 결정의 Nm 축에 대해 실질적으로 평행하도록 하고,상기 제 2 레이저 매질은, 상기 제 2 레이저 다이오드로부터 발생된 제 2 펌핑 광의 편광방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 대해 실질적으로 평행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
5	5 제 1항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질 및 제 2 레이저 매질은 소정의 표면 조도값을 갖는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
6	6 제 1항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질 및 제 2 레이저 매질은 표면이 열전도성 물질로 둘러싸인 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
7	7 제 1항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질 및 제 2 레이저 매질은 냉각유로, 방열판, 공냉을 위한 수단 중 적어도 어느 하나가 형성된 하우징에 의해 둘러싸인 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
8	8 제 1항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 레이저 매질은 각각 Yb:KYW, Yb:KGW, Yb:KLuW, Yb:YCOB, Yb:YAP 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
9	9 제 8항에 있어서,상기 Yb:KYW, Yb:KGW, Yb:KLuW, Yb:YCOB, Yb:YAP 중 Yb의 도핑 농도는 1 ~ 10 at
10	10 제 1항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질 및 제 2 레이저 매질은 각각 상기 레이저 빔의 진행방향에 대하여 직사각형 단면을 갖는 직사각면체 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
11	11 공간적으로 서로 수직방향의 Ng, Np, Nm축을 갖는 제 1 레이저 매질; 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행한 Ng축, 상기 제 1 레이저 매질의 Np 축에 실질적으로 평행한 Nm축, 상기 제 1 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행한 Np축을 갖도록 배치된 제 2 레이저 매질; 및 상기 제 1 레이저 매질 및 상기 제 2 레이저 매질에 각각 인접하여 배치된 제 1레이저 다이오드 및 제 2 레이저 다이오드를 포함하는 펨토초 레이저 장치에 있어서,상기 제 1 레이저 매질은, Np축에 평행한 높이(H)가 Nm축에 평행한 폭(W)보다 작거나 크고, 상기 제 2 레이저 매질은, Nm축에 평행한 높이(H)가 Np축에 평행한 폭(W)보다 크거나 작은 형상을 갖도록 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향에 대해 서로 나란히 배치되는 펨토초 레이저 장치
12	12 제 11항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질은, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 1 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행하도록 배치되고, 상기 제 2 레이저 매질은, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 진행방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Ng축에 실질적으로 평행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
13	13 제 11항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질은, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향(Elaser)이 상기 제 1 레이저 매질의 Np축에 실질적으로 평행하도록 배치되고, 상기 제 2 레이저 매질은, 상기 제 1 및 제 2 레이저 매질로부터 발생된 레이저 빔의 편광방향(Elaser)이 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 실질적으로 평행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
14	14 제 11항에 있어서, 상기 제 1 레이저 매질은, 상기 제 1 레이저 다이오드로부터 발생된 제 1 펌핑 광의 편광방향이 상기 제 1 레이저 결정의 Nm 축에 대해 실질적으로 평행하도록 하고,상기 제 2 레이저 매질은, 상기 제 2 레이저 다이오드로부터 발생된 제 2 펌핑 광의 편광방향이 상기 제 2 레이저 매질의 Nm축에 대해 실질적으로 평행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
15	15 제 11항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질 및 제 2 레이저 매질은 소정의 표면 조도값을 갖는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
16	16 제 11항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질 및 제 2 레이저 매질은 표면이 열전도성 물질로 둘러싸인 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
17	17 제 11항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질 및 제 2 레이저 매질은 냉각유로, 방열판, 공냉을 위한 수단 중 적어도 어느 하나가 형성된 하우징에 의해 둘러싸인 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
18	18 제 11항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 레이저 매질은 각각 Yb:KYW, Yb:KGW, Yb:KLuW, Yb:YCOB, Yb:YAP 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치
19	19 제 18항에 있어서,상기 Yb:KYW, Yb:KGW, Yb:KLuW, Yb:YCOB, Yb:YAP 중 Yb의 도핑 농도는 1 ~ 10 at
20	20 제 11항에 있어서,상기 제 1 레이저 매질 및 제 2 레이저 매질은 각각 상기 레이저 빔의 진행방향에 대하여 직사각형 단면을 갖는 직사각면체 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 펨토초 레이저 장치

순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번	연구부처	주관기관	연구사업	연구과제
1	서울특별시	한국전기연구원	세계유수연구소 유치 지원사업	Russia Science Seoul 유치 지원사업

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2014.12.02	수리 (Accepted)	1-1-2014-1174220-28
2	[출원서등 보정]보정서	2014.12.04	수리 (Accepted)	1-1-2014-1182687-68
3	보정요구서	2014.12.17	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2014-0231181-76
4	[출원서등 보정]보정서(납부자번호)	2014.12.18	수리 (Accepted)	1-1-2014-1228317-58
5	출원인정보변경(경정)신고서	2015.02.04	수리 (Accepted)	4-1-2015-0006987-25
6	[출원서등 보정]보정서	2015.11.25	수리 (Accepted)	1-1-2015-1151860-80
7	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서	2019.11.19	수리 (Accepted)	1-1-2019-1186034-41
8	선행기술조사의뢰서	2020.06.15	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
9	선행기술조사보고서	2020.08.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-6-2020-0139888-28
10	의견제출통지서	2020.09.23	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2020-0658121-45
11	[지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서	2020.11.16	보정 (Amendment)	1-1-2020-1224627-11
12	보정요구서	2020.11.24	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2020-0176190-59


과제고유번호	1711008790
세부과제번호	13-12-N0101-48 13-12-N0101-70
연구과제명	Russia Science Seoul 유치 지원사업
성과구분	출원
부처명	미래창조과학부
연구관리전문기관명
연구주관기관명
성과제출연도	2013
연구기간	201010~201510
기여율	1
연구개발단계명	기타
6T분류명	BT(생명공학기술)

특허성과

[1020140170885]	고휘도 극초단 빔 발생 펨토초 레이저 장치(Ultrashort Femtosecond Laser Apparatus For High-Brightness beam)	새창보기
[1020140168798]	소동물용 형광 영상화 장치 및 방법(Apparatus and method for fluorescence imaging of regions of interest in a samll animal)	새창보기
[1020130081980]	감시림프절의 근적외선 형광 검출 장치 및 방법	새창보기

중요키워드

이전대상기술 뷰 페이지 관련기술 표
[KST2018005099][한국전기연구원]	증폭장치 및 이를 포함하는 레이저 장치(AMPLIFICATION APPARATUS AND LASER APPARATUS INCLUDING THE SAME)	새창보기

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