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적어도 하나의 분석 대상 반도체 소자가 안착되는 막 형상의 필름 바디;상기 필름 바디 내에 배열되는 적어도 하나의 열선; 및상기 필름 바디 내에 설치되는 적어도 하나의 온도 센서;를 포함하는,반도체 소자 분석용 히팅 필름
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제1항에 있어서,상기 필름 바디 내에는 상기 히팅 필름에 균일 온도 제어를 적용하기 위한 단일 열선 및 단일 온도 센서가 구비되는,반도체 소자 분석용 히팅 필름
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제1항에 있어서,상기 필름 바디 내에는 복수의 열선이 배열되며, 상기 필름 바디는 상기 복수의 열선에 대응하여 독립적인 온도 제어가 수행되는 복수의 가열 영역으로 구분되는,반도체 소자 분석용 히팅 필름
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제3항에 있어서,상기 복수의 가열 영역 각각에는 하나의 온도 센서가 구비되는,반도체 소자 분석용 히팅 필름
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외부 환경과 분리된 챔버를 제공하는 케이싱;상기 케이싱 내에 배치되는 히팅 필름 지지판;상기 히팅 필름 지지판 상에 놓여지는 적어도 하나의 히팅 필름; 및상기 케이싱 내에 설치되며, 상기 히팅 필름 상에 안착되는 적어도 하나의 반도체 소자의 분석을 위한 적어도 하나의 프로브;를 포함하는,프로브 스테이션
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제5항에 있어서,상기 히팅 필름은,적어도 하나의 분석 대상 반도체 소자가 안착되는 막 형상의 필름 바디;상기 필름 바디 내에 배열되는 적어도 하나의 열선; 및상기 필름 바디 내에 설치되는 적어도 하나의 온도 센서;를 포함하는,프로브 스테이션
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제5항에 있어서,상기 히팅 필름은 상기 히팅 필름 지지판 상의 안착홈에 단순 삽입되거나 임시 부착되는,프로브 스테이션
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제5항에 있어서,상기 히팅 필름 지지판에는 복수의 히팅 필름이 장착 가능한,프로브 스테이션
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