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기판;상기 기판 상에 배치된 나노 구조체들, 상기 나노 구조체들 상에 배치된 박막, 및 상기 나노 구조체들 사이에 배치되는 에어 갭을 포함하는 광 산란 구조체;상기 박막을 덮고, 상기 박막보다 더 큰 두께를 갖는 평탄층;상기 평탄층 상에 배치된 제 1 전극;상기 제 1 전극 상에 배치된 유기 발광층; 및상기 유기 발광층 상에 배치된 제 2 전극을 포함하는 유기발광 다이오드
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제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체들은 입자 형태 또는 라인 형태를 갖는 유기발광 다이오드
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제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체들의 폭은 50nm 내지 3000nm이고, 상기 나노 구조체들 사이의 거리는 50nm 내지 3000nm인 유기발광 다이오드
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제 1 항에 있어서,상기 박막은 그래핀, 이황화 몰리브덴 및 황화텅스텐 중 어느 하나를 포함하는 유기발광 다이오드
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제 1 항에 있어서,상기 박막은 0
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기판 상에 나노 구조체들을 형성하는 것;상기 나노 구조체들 상에 박막을 전사하여, 상기 나노 구조체들 사이에 에어 갭을 형성하는 것; 상기 박막을 덮는 평탄층을 형성하는 것;상기 평탄층 상에 제 1 전극을 형성하는 것; 및상기 제 1 전극 상에 유기 발광층을 형성하는 것을 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 나노 구조체들 상에 상기 박막을 전사하는 것은:씨드막에 상기 박막을 성장시키는 것;상기 박막을 씨드막으로부터 분리하는 것;상기 나노 구조체들 상에 상기 박막을 전사하는 것; 및상기 박막에 열처리하는 것을 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 평탄층은 상기 박막보다 두껍게 형성되는 유기발광 다이오드의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 박막은 그래핀, 이황화 몰리브덴 및 황화텅스텐 중 어느 하나를 포함하는 유기발광 다이오드의 제조 방법
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