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MEMS 기반 노즐 헤드 제조방법 및 그 노즐 헤드(METHOD FOR MANUFACTURING NOZZLE HEAD BASED ON MEMS AND THE NOZZLE HEAD)

  • 기술번호 : KST2016012075
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 MEMS 기반 노즐 헤드 제조방법 및 그 노즐 헤드에 관한 것으로서, 노즐 홀이 형성될 실리콘 기판의 일면을 식각하여 유입홈을 형성하는 제1단계, 상기 실리콘 기판의 타면에 보호막을 형성하는 제2단계, 상기 보호막에, 노즐 홀을 포함하는 노즐 팁과 상기 노즐 팁 둘레의 회피홈에 해당하는 영역의 패터닝을 수행하는 제3단계, 상기 패터닝이 이루어진 보호막 위에 포토 레지스트를 도포하고 노즐 홀에 대응하는 부분의 패터닝을 수행하는 제4단계, 1차 식각을 통해 상기 실리콘 기판에 노즐 홈을 형성하는 제5단계, 실리콘 기판으로부터 상기 포토 레지스트를 제거하는 제6단계, 2차 식각을 통해 노즐 홀과 노즐 팁 둘레의 회피홈을 형성하는 제7단계, 및 상기 보호막을 제거하는 제8단계를 포함하는 것을 특징으로 하므로, 액체 줄기가 미세하게, 그리고 연속적으로 분사될 수 있도록 미세한 구조의 노즐을 정밀도 높게 제조할 수 있다는 이점이 있다.
Int. CL H01L 21/02 (2006.01) H01L 51/56 (2006.01)
CPC H01L 51/56(2013.01) H01L 51/56(2013.01) H01L 51/56(2013.01) H01L 51/56(2013.01)
출원번호/일자 1020140180605 (2014.12.15)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1649340-0000 (2016.08.11)
공개번호/일자 10-2016-0072924 (2016.06.24) 문서열기
공고번호/일자 (20160819) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.12.15)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이상호 대한민국 서울특별시 관악구
2 신권용 대한민국 경기도 의왕시 평의길 **,
3 강경태 대한민국 서울특별시 서초구
4 강희석 대한민국 서울특별시 강남구
5 황준영 대한민국 경기도 용인시 수지구
6 조관현 대한민국 경기도 수원시 장안구
7 강민규 대한민국 서울특별시 강서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 정안 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로 *** ***층(논현동,썬라이더빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.12.15 수리 (Accepted) 1-1-2014-1217571-81
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.11.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0812963-78
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.01.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0081191-89
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.01.25 수리 (Accepted) 1-1-2016-0081143-08
6 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2016.05.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0349287-17
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.05.31 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0525497-36
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.05.31 수리 (Accepted) 1-1-2016-0525482-52
9 등록결정서
Decision to grant
2016.07.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0505651-50
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
MEMS 기반 노즐 헤드 제조방법에 있어서,노즐 홀이 형성될 실리콘 기판의 일면을 식각하여 유입홈을 형성하는 제1단계;상기 실리콘 기판의 타면에 보호막을 형성하는 제2단계;상기 보호막에, 노즐 홀을 포함하는 노즐 팁과 상기 노즐 팁 둘레의 회피홈에 해당하는 영역의 패터닝을 수행하는 제3단계;상기 패터닝이 이루어진 보호막 위에 포토 레지스트를 도포하고 노즐 홀에 대응하는 부분의 패터닝을 수행하는 제4단계;1차 식각을 통해 상기 실리콘 기판에 노즐 홈을 형성하는 제5단계;실리콘 기판으로부터 상기 포토 레지스트를 제거하는 제6단계;2차 식각을 통해 노즐 홀과 노즐 팁 둘레의 회피홈을 형성하는 제7단계;상기 보호막을 제거하는 제8단계;상기 제8단계 후, 상기 회피홈 둘레의 상기 실리콘 기판의 타면에 글래스를 본딩하는 제9단계를 추가적으로 포함하며,상기 제4단계에서 포토 레지스트의 노즐 홀에 대응하는 부분의 직경은 패터닝된 상기 보호막의 노즐 홀에 대응하는 부분의 직경보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 MEMS 기반 노즐 헤드 제조방법
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,제9단계 후, 상기 노즐 팁의 표면, 회피홈의 바닥 및 글래스의 표면에 소수성 코팅층을 형성하는 단계를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 기반 노즐 헤드 제조방법
5 5
삭제
6 6
제1항 또는 제4항에 있어서,상기 노즐 홈의 바닥으로부터 상기 유입홈의 천정까지의 높이는 상기 회피홈의 깊이와 동일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 MEMS 기반 노즐 헤드 제조방법
7 7
제1항 또는 제4항에 있어서,상기 1차 식각과 2차 식각은 이방성 식각인 것을 특징으로 하는 MEMS 기반 노즐 헤드 제조방법
8 8
제1항 또는 제4항에 있어서,상기 보호막은 TEOS(TetraEthyl OrthoSilicate)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 MEMS 기반 노즐 헤드 제조방법
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제1항 또는 제4항의 제조방법에 의해 제조된 노즐 헤드
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN106170876 CN 중국 FAMILY
2 KR101639774 KR 대한민국 FAMILY
3 TW201620722 TW 대만 FAMILY
4 WO2016098984 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN106170876 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN106170876 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 TW201620722 TW 대만 DOCDBFAMILY
4 TWI613094 TW 대만 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국생산기술연구원 융합연구사업 : 융합실용화 연구사업 스트림젯 공정을 이용한 유기 전자 박막 코팅 시스템 개발