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아크 증발부 및 상기 아크 증발부로부터 발생된 하전입자를 기판으로 유도하기 위한 플라즈마 덕트부를 포함하는 진공 아크 증착 장치에 있어서,상기 아크 증발부는,제1타겟부재 및 상기 제1타겟부재와 인접하여 위치하는 제2타겟부재를 포함하고, 상기 제1타겟부재를 커버하는 제1커버부재 및 상기 제2타겟부재를 커버하는 제2커버부재를 포함하는 진공 아크 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제1타겟부재를 지지하기 위한 제1음극체 및 상기 제2타겟부재를 지지하기 위한 제2음극체를 더 포함하고, 상기 아크 증발부는 몸체부를 더 포함하며, 상기 몸체부는 상기 제1음극체 및 제2음극체를 지지하는 진공 아크 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 아크 증발부는 상기 제1타겟부재 및 상기 제2타겟부재의 외측에 위치하여, 상기 제1타겟부재 및 상기 제2타겟부재의 각각의 아크발생면에서 아크의 운동을 조절하는 아크조절 자장원을 더 포함하는 진공 아크 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 덕트부는 상기 제1타겟부재의 끝단과 인접하여 위치하는 제1배플부재 및 상기 제2타겟부재의 끝단과 인접하여 위치하는 제2배플부재를 포함하는 진공 아크 증착 장치
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제 4 항에 있어서,상기 플라즈마 덕트부는, 상기 제1배플부재를 지지하기 위한 제1배플부재 지지부 및 상기 제2배플부재를 지지하기 위한 제2배플부재 지지부를 더 포함하는 진공 아크 증착 장치
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제 5 항에 있어서,상기 제1배플부재 지지부는 상기 제1커버부재와 일체로 형성되고, 상기 제2배플부재 지지부는 상기 제2커버부재와 일체로 형성되는 진공 아크 증착 장치
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제 4 항에 있어서,상기 플라즈마 덕트부는,상기 아크 증발부와 동일 선상에 위치하는 직선부 및 상기 직선부로부터 휘어진 굴곡부를 포함하는 플라즈마 덕트를 포함하며,상기 플라즈마 덕트의 굴곡부의 내측에 위치하고, 아크 증발물질의 일부를 흡착 제거하기 위한 배플을 더 포함하는 진공 아크 증착 장치
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제 7 항에 있어서,상기 제1배플부재 및 상기 제2배플부재는 상기 플라즈마 덕트의 직선부의 내측에 위치하는 진공 아크 장치
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제 8 항에 있어서,상기 제1배플부재와 연속적으로 배치되고, 상기 플라즈마 덕트의 굴곡부의 내측에 위치하는 제1보조배플부재 및 상기 제2배플부재와 연속적으로 배치되고, 상기 플라즈마 덕트의 굴곡부의 내측에 위치하는 제2보조배플부재를 더 포함하는 진공 아크 장치
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제 9 항에 있어서,상기 제1보조배플부재를 지지하기 위한 제1보조배플부재 지지부 및 상기 제2보조배플부재를 지지하기 위한 제2보조배플부재 지지부를 더 포함하는 진공 아크 장치
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11
제 1 항에 있어서,상기 제1커버부재 및 상기 제2커버부재는 원통형인 것을 특징으로 하는 진공 아크 장치
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12
제 1 항에 있어서,상기 제1커버부재 및 상기 제2커버부재는 반원통형인 것을 특징으로 하는 진공 아크 장치
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13
제 1 항에 있어서,상기 제1커버부재 및 상기 제2커버부재는 플레이트 형태인 것을 특징으로 하는 진공 아크 장치
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아크 증발부 및 상기 아크 증발부로부터 발생된 하전입자를 기판으로 유도하기 위한 플라즈마 덕트부를 포함하는 진공 아크 증착 장치에 있어서,상기 아크 증발부는,제1타겟부재 및 상기 제1타겟부재와 인접하여 위치하는 제2타겟부재를 포함하고, 상기 제1타겟부재와 상기 제2타겟부재의 사이에 위치하는 커버부재를 포함하는 진공 아크 증착 장치
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제 14 항에 있어서,상기 커버부재는 원통형, 반원통형 또는 플레이트 형태인 것을 특징으로 하는 진공 아크 장치
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