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전기활성 포토마스크(ELECTRIC ACTIVE PHOTO-MASK)

  • 기술번호 : KST2016012293
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 전기활성 포토마스크가 개시된다. 본 발명의 일실시예의 포토마스크는, 하부기판; 상기 하부기판과 소정 간격을 두고 대향하여 배치되는 상부기판; 상기 하부기판과 상부기판 사이에 채워지며, 복수의 액정을 포함하는 액정층; 상기 액정층과 상기 상부기판의 계면에 배치되는 배향막; 상기 배향막과 상기 상부기판의 계면에 배치되는 제1전극; 및 상기 하부기판과 상기 액정층의 계면에 배치되는, 금속재질로서 도트(dot) 형상의 구조물을 포함한다.
Int. CL H01L 21/033 (2006.01.01) G02F 1/1337 (2006.01.01) G02F 1/1343 (2006.01.01) G03F 7/20 (2006.01.01) H01L 21/308 (2006.01.01)
CPC H01L 21/0332(2013.01)H01L 21/0332(2013.01)H01L 21/0332(2013.01)H01L 21/0332(2013.01)H01L 21/0332(2013.01)
출원번호/일자 1020140183161 (2014.12.18)
출원인 한국전자기술연구원, 전북대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0074181 (2016.06.28) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.12.17)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김미영 대한민국 전라북도 전주시 완산구
2 이승희 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
3 조송진 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
4 이범주 대한민국 경기도 성남시 분당구
5 신진국 대한민국 서울특별시 강남구
6 임영진 대한민국 전라북도 전주시 덕진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
3 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.12.18 수리 (Accepted) 1-1-2014-1232101-43
2 보정요구서
Request for Amendment
2015.01.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0004056-43
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.02.09 수리 (Accepted) 1-1-2015-0135798-47
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2016-5013206-34
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2019-5038917-11
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146985-61
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146986-17
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5219602-91
9 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.12.17 수리 (Accepted) 1-1-2019-1301664-16
10 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.04.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
11 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.06.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2020-0168908-23
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149086-79
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
14 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.11.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0786580-02
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하부기판;상기 하부기판과 소정 간격을 두고 대향하여 배치되는 상부기판;상기 하부기판과 상부기판 사이에 채워지며, 복수의 액정을 포함하는 액정층;상기 액정층과 상기 상부기판의 계면에 배치되는 배향막;상기 배향막과 상기 상부기판의 계면에 배치되는 제1전극; 및상기 하부기판과 상기 액정층의 계면에 배치되는, 금속재질로서 도트(dot) 형상의 구조물을 포함하는 전기활성 포토마스크
2 2
제1항에 있어서, 상기 도트 형상의 구조물은, 투명한 금속재질인 전기활성 포토마스크
3 3
제1항에 있어서, 상기 도트 형상의 구조물은, 나노 또는 마이크로 크기인 전기활성 포토마스크
4 4
제1항에 있어서,상기 하부기판과 상기 도트 형상의 구조물 사이에 배치되는 제2전극을 더 포함하는 전기활성 포토마스크
5 5
하부기판;상기 하부기판과 소정 간격을 두고 대향하여 배치되는 상부기판;상기 하부기판과 상부기판 사이에 채워지며, 복수의 액정을 포함하는 액정층;상기 액정층과 상기 상부기판의 계면에 배치되는 배향막;상기 배향막과 상기 상부기판의 계면에 배치되는 전극; 상기 하부기판과 상기 액정층의 계면에 배치되며, 소정 패턴 형상의 절연막; 및상기 절연막의 사이에서, 상기 하부기판이 노출되는 부분에 형성되는 금속재질의 구조물을 포함하는 전기활성 포토마스크
6 6
제5항에 있어서, 상기 구조물은, 전도성 잉크가 주입되어 형성되는 전기활성 포토마스크
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 전자부품연구원 신성장산업 연구개발사업 Hemisphere Type의 고굴절 Nano-dot이 적용된 고효율 용액형 OLED 소자 공정 기술 개발