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내부에 유동화 가스를 주입하여 유동화 영역을 형성하며, 상기 유동화 영역에 분말 형태의 양극재 원료를 투입하고 상기 양극재 원료의 표면 처리를 위한 코팅 용액을 분무하여 상기 양극재 원료의 표면을 코팅 시키는 반응 챔버; 상기 양극재 원료의 표면에 코팅된 상기 코팅 용액의 용매 증발 성분과 상기 유동화 가스를 배기하는 배기 챔버; 및 상기 반응 챔버의 하부로부터 고르게 상기 유동화 가스를 도입하는 복수의 가스 도입구와 가장자리에 상부로 연장된 격벽이 형성된 가스 분배판을 포함하되,상기 복수의 가스 도입구는 상기 가스 분배판의 하부로부터 관통하여 유동화 영역 측으로 돌출된 상부까지 직경이 점차 좁아지도록 연장 형성하고, 상기 유동화 영역에서 표면코팅 처리된 양극재는 상기 가스 분배판 상면에 돌출된 복수의 가스 도입구로 인해 형성된 역사다리꼴 단면 형상의 오목한 적재공간에 누적 적재되는 것을 특징으로 하는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 배기 챔버로부터 배기된 상기 용매 증발 성분을 응축하여 용매를 회수하는 용매 회수기를 더 포함하는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 반응 챔버는,상기 반응 챔버의 일측부에 설치되어 상기 유동화 영역에 양극재 원료를 투입하는 적어도 하나의 원료 투입부;상기 코팅 용액을 무화 상태로 상기 유동화 영역에 분무하여 양극재 원료와 함께 유동화 시키는 분무 노즐부; 및상기 반응 챔버의 하부에서 상기 양극재 원료 및 코팅 용액을 유동화 시키기 위한 상기 유동화 가스를 주입하는 가스 주입부를 포함하는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 3 항에 있어서,상기 분무 노즐부는,상기 반응 챔버의 일측부를 관통하는 분무관을 통해 상기 유동화 영역의 중앙에 돌출된 형태로 배치되는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 3 항에 있어서,상기 분무 노즐부는, 원통의 외주면에 형성된 복수의 노즐를 포함하여 분무관에서 유입되는 코팅 용액을 상기 유동화 영역에 방사상으로 분무하는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 3 항에 있어서,상기 가스 주입부는,고온으로 가열된 유동화 가스를 주입하여 상기 양극재 원료에 코팅된 코팅 용액의 용매 성분이 증발하도록 건조시키는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 3 항에 있어서,상기 가스 주입부는,상기 반응 챔버의 하부에 연결되는 가스 주입관;상기 가스 주입관에 설치되어 상기 유동화 가스를 가열하는 가열부; 및 상기 가스 주입관에서 유입되는 가스를 분배하여 상기 반응 챔버의 내부로 도입시키는 가스 분배판을 포함하는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 배기 챔버는,상기 반응 챔버와의 경계면에 설치되어 상기 양극재 원료는 걸러내고 상기 용매 증발 성분과 유동화 가스를 통과시키는 시브부(Sieve); 및상기 용매 증발 성분과 유동화 가스를 용매 회수기로 공급하는 배기관을 포함하는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 10 항에 있어서,상기 배기 챔버는,상기 반응 챔버와의 경계면으로부터 폭이 증가하는 스커트 영역을 포함하며, 상기 스커트 영역에는 상기 용매 증발 성분이 운집되어 상기 배기관으로 유입되는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 양극재 원료는 NMC, NCA, LMO, LTO 중 어느 하나를 선택적으로 사용하는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 코팅 용액의 용매는 물, 에탄올, 메탄올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 아세톤 중 어느 하나를 사용하고, 상기 코팅 용액에 포함되는 코팅 물질은 Al, Cu, Fe, Mg, Mn, Zn, Zr, Ag, Al, Cu, Ge, Mg, Mn, Ba 이나 이들의 조합에서 선택되는 금속의 질산염, 황산염 중 어느 하나를 사용하는 리튬 이차 전지용 양극재 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 코팅 용액의 농도는 0
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