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a)로듐촉매 및 첨가제 존재하에 하기 화학식 3 및 화학식 4를 반응시켜 하기 화학식 2를 제조하는 단계; 및b)상기단계에서 제조된 화학식 2에 PhI(OAc)2인 산화제를 첨가하여 하기 화학식 1을 제조하는 단계;를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 벤조트리아졸의 제조방법
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제 9항에 있어서,로듐촉매는 무수 로듐(III) 클로라이드, 로듐(III) 클로라이드 하이드레이트, 로듐(III) 나이트레이트 하이드레이트, 로듐(III) 아세틸아세토네이트, 로듐(III) 옥사이드, 로듐(III) 옥사이드 하이드레이트, 로듐(III) 브로마이드 하이드레이트, 트리클로로트리스(에틸렌다이아민)로듐(III), 클로로비스(2-페닐피리딘)로듐(III) 다이머, 다이클로로(다이메틸글리옥심아토)(다이메틸글로옥심)로듐(III), 트리클로로[1,1,1-트리스(다이페닐포스핀오메틸)에탄]로듐(III), 로듐(III) 아이오다이드, 로듐(III) 옥사이드 펜타하이드레이트, 로듐(III) 2,4-펜탄다이오레이트, 로듐(III) 설페이트 테트라하이드레이트 및 펜타메틸사이클로펜타다이에닐 로듐(III) 다이클로라이드 다이머중에서 선택되는 하나이상인 제조방법
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제 11항에 있어서,상기 로듐 촉매는 상기 화학식 4에 대하여 4 내지 20몰%로 사용되는 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 첨가제는 AgSbF6, AgNTf2, AgBF4, AgPF6, AgOTf, AgOAc, Cu(OAc)2, Cu(OAc)2H2O 에서 선택되는 하나이상인 제조방법
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제 13항에 있어서상기 첨가제는 상기 화학식 4, 1몰에 대하여 8 내지 32몰%로 사용되는 제조방법
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제 9항에 있어서상기 산화제는 상기 화학식 4에 대하여 1
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