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1
하기 화학식 1로 표시되는 피롤 유도체
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2
제 1항에 있어서,상기 화학식 1은 하기 화학식 2 또는 3으로 표시되는 피롤 유도체
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3
제 2항에 있어서,상기 화학식 2 또는 3에서 R2 내지 R3은 서로 독립적으로 수소, 할로겐, (C1~C7)알킬, (C6~C12)아릴이며, R2 과 R3은 서로 연결되어 (C5-C8)지환족 고리를 형성할 수 있으며;R4는 (C6~C12)아릴 또는 (C3~C12)헤테로아릴이며; m은 0 내지 1의 정수이며;o는 1 내지 5의 정수로, R2 과 R3의 아릴 및 R4의 아릴 및 헤테로아릴은 할로겐, 할로(C1~C7)알킬, (C1~C7)알킬, (C1~C7)알콕시에서 선택되는 하나이상으로 더 치환될 수 있는 피롤 유도체
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4
제 1항에 있어서,상기 하기 화학식 1은 하기 화합물로부터 선택되는 피롤 유도체
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5
하기 화학식 4로 표시되는 피롤 유도체
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6
제 5항에 있어서,상기 화학식 4는 하기 화학식 5로 표시되는 피롤 유도체
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7
제 6항에 있어서,R5 내지 R6은 서로 독립적으로 수소 또는 (C6~C12)아릴이며;n은 0 내지 1의 정수이며;R14 및 R15는 서로 독립적으로 수소, 할로겐, (C1~C7)알킬 또는 (C1~C7)알콕시이며;Z는 O 또는 S이며;q는 1 내지 5의 정수이며;r은 1 내지 3의 정수이며; R5 내지 R6의 아릴은 할로겐, (C1~C7)알킬, 할로(C1~C7)알킬, (C1~C7)알콕시에서 선택되는 하나이상으로 더 치환될 수 있는 피롤 유도체
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8
제 5항에 있어서,상기 피롤 유도체는 하기 화합물에서 선택되는 것인 피롤 유도체
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9
로듐 촉매존재하에 하기 화학식 11로 표시되는 트리아졸 유도체와 하기 화학식 12를 반응시켜 하기 화학식 2을 제조하는 단계;를 포함하는 하기 화학식 2로 표시되는 피롤 유도체의 제조방법
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10
로듐 촉매존재하에 하기 화학식 13으로 표시되는 트리아졸 유도체와 하기 화학식 14를 반응시켜 하기 화학식 4를 제조하는 단계;를 포함하는 하기 화학식 4로 표시되는 피롤 유도체의 제조방법
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11
로듐 촉매 존재하에 하기 화학식 13으로 표시되는 유도체와 하기 화학식 16를 반응시켜 제조된 생성물에 산에 첨가하여 하기 화학식 3을 제조하는 단계;를 포함하는 하기 화학식 3으로 표시되는 피롤 유도체의 제조방법
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12
제 9항 내지 제 11항에서 선택되는 어느 한항 있어서,상기 로듐 촉매는 Rh2(OAc)4, Rh2(Oct)4, Rh2(TFA)4, Rh2(pfb)4, Rh2(esp)2, Rh2(R-DOSP)4, Rh2(S-DOSP)4, Rh2(S-PTAD)4, Rh2(R-PTAD)4, Rh2(R-BTPCP)4 및 Rh2(S-BTPCP)4로 이루어진 군에서 선택되는 하나이상인 제조방법
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13
제 12항에 있어서,상기 로듐 촉매는 상기 트리아졸 유도체에 대해 1 내지 10몰%로 사용되는 제조방법
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14
제 9항 내지 제 11항에서 선택되는 어느 한항 있어서,상기 화학식 12는 상기 화학식 11, 1당량에 대해 1
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15
제 9항에 있어서,로듐 촉매존재하에 상기 화학식 11로 표시되는 트리아졸 유도체와 상기 화학식 12를 반응시킨 후 루이스 산을 추가하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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16
제 15항에 있어서,상기 루이스산은 TMSOTf, BF3ㆍOEt2, Yb(OTf)3, Cu(OTf)2로 이루어진 군중에서 선택되는 하나 또는 둘이상인 것을 특징으로 하는 제조방법
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17
제 11항에 있어서,상기 산은 AcOH, TFA, PivOH 및 TfOH로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 둘이상인 것을 특징으로 하는 제조방법
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18
제 15항 또는 제 17항에 있어서,상기 루이스산은 상기 화학식 11에 대하여 1내지 10몰%로 사용되며, 상기 산은 상기 화학식 13의 화합물에 대하여 1내지 20몰%로 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법
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