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플렉서블 투명 기판 상부에 격자 형태의 메탈메쉬를 형성하는 단계; 탄소나노튜브 현탁액을 형성하기 위해 용매에 해리되어 이온화되는 질산마그네슘(Mg(NO3)2), 질산마그네슘수화물(Mg(NO3)2·6H2O), 염화마그네슘(MgCl2) 및 염화니켈(NiCl2) 중에서 선택된 1종 이상의 물질과 탄소나노튜브를 용매에 혼합하는 단계;탄소나노튜브 현탁액 내에서 상기 탄소나노튜브는 상기 질산마그네슘(Mg(NO3)2), 질산마그네슘수화물(Mg(NO3)2·6H2O), 염화마그네슘(MgCl2) 및 염화니켈(NiCl2) 중에서 선택된 1종 이상의 물질로부터 공급된 이온화된 양이온을 흡수하여 양전하로 대전되는 단계; 상기 메탈메쉬가 형성된 플렉서블 투명 기판과 전도성의 상대전극을 상기 탄소나노튜브 현탁액에 담그는 단계; 및 상기 메탈메쉬에 음전압을 인가하고 상기 상대전극에 양전압을 인가하는 전기영동법으로 상기 메탈메쉬 상부에 선택적으로 탄소나노튜브를 코팅하는 단계를 포함하며, 상기 탄소나노튜브와 상기 질산마그네슘(Mg(NO3)2), 질산마그네슘수화물(Mg(NO3)2·6H2O), 염화마그네슘(MgCl2) 및 염화니켈(NiCl2) 중에서 선택된 1종 이상의 물질은 1:0
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제4항에 있어서, 상기 메탈메쉬의 격자 간격은 10∼1,000㎛를 이루고, 상기 메탈메쉬의 선폭은 2∼15㎛를 이루며, 상기 메탈메쉬의 두께는 10∼300nm를 이루게 상기 메탈메쉬를 형성하는 것을 특징으로 하는 메탈메쉬-탄소나노튜브 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 플렉서블 투명 기판은 유연성을 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르 설폰(polyether sulfone), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리스티렌(polystylene), 폴리프로필렌(polypropylene), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate) 또는 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane)으로 이루어진 기판을 사용하는 것을 특징으로 하는 메탈메쉬-탄소나노튜브 플렉서블 투명전극의 제조방법
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