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투명 전도성 산화물 필라를 이용한 고감도 센서 제조 방법(METHOD OF MANUFACTURING HIGH-SENSITIVE SENSOR USING TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE PILLAR)

  • 기술번호 : KST2016013374
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 투명 전도성 산화물 필라를 이용한 고감도 센서 제조 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 고감도 센서 제조 방법은 유리 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 단계; 상기 포토레지스트가 도포된 유리 기판에 대하여, 노광, 현상 및 식각을 포함하는 포토리소그래피 공정으로 내부가 비어 있는 형태의 필라 패턴을 형성하는 단계; 상기 내부가 비어 있는 형태의 필라 패턴에 투명 전도성 산화물을 증착하여, 투명 전도성 산화물 필라를 형성하는 단계; 상기 투명 전도성 산화물 필라가 형성된 유리 기판을 스트립(Strip) 용액에 담궈 상기 포토레지스트를 제거하는 단계; 상기 투명 전도성 산화물 필라에 전자빔을 조사하는 단계; 및 나노와이어, 나노로드, 나노튜브, 나노섬유 중에서 1종 이상 선택되는 형태의 1차원 전도성 또는 반도성 물질로 상기 투명 전도성 산화물 필라들을 전기적으로 연결하는 단계;를 포함하고, 투명 전도성 산화물 필라 형성시 혹은 형성 후에 전자빔 조사를 수행하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL C03C 15/00 (2006.01) G01N 27/04 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) G01N 27/00 (2006.01) C03C 17/09 (2006.01) C23C 24/00 (2006.01)
CPC G01N 27/00(2013.01) G01N 27/00(2013.01) G01N 27/00(2013.01) G01N 27/00(2013.01) G01N 27/00(2013.01) G01N 27/00(2013.01) G01N 27/00(2013.01)
출원번호/일자 1020140194191 (2014.12.30)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1660402-0000 (2016.09.21)
공개번호/일자 10-2016-0083335 (2016.07.12) 문서열기
공고번호/일자 (20160928) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.12.30)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤영준 대한민국 경기도 용인시 수지구
2 김창열 대한민국 경기도 안양시 만안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-1281318-81
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2016.01.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2016.03.10 수리 (Accepted) 9-1-2016-0013068-07
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0236023-65
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.05.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0517527-86
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2016-0517516-84
8 등록결정서
Decision to grant		 2016.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0619256-13
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번호 청구항
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유리 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 단계;상기 포토레지스트가 도포된 유리 기판에 대하여, 노광, 현상 및 식각을 포함하는 포토리소그래피 공정을 수행하되, 상기 식각시 필라 패턴이 형성되도록 함과 더불어 필라 패턴의 내부 부분을 식각하여, 내부가 비어 있는 형태의 필라 패턴을 형성하는 단계; 상기 내부가 비어 있는 형태의 필라 패턴에 투명 전도성 산화물을 증착하여, 투명 전도성 산화물 필라를 형성하는 단계; 상기 투명 전도성 산화물 필라가 형성된 유리 기판을 스트립(Strip) 용액에 담궈 상기 포토레지스트를 제거하는 단계;상기 투명 전도성 산화물 필라에 전자빔을 조사하는 단계; 및나노와이어, 나노로드, 나노튜브, 나노섬유 중에서 1종 이상 선택되는 형태의 1차원 전도성 또는 반도성 물질로 상기 투명 전도성 산화물 필라들을 전기적으로 연결하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 센서 제조 방법
2 2
유리 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 단계;상기 포토레지스트가 도포된 유리 기판에 대하여, 노광, 현상 및 식각을 포함하는 포토리소그래피 공정을 수행하되, 상기 식각시 필라 패턴이 형성되도록 함과 더불어 필라 패턴의 내부 부분을 식각하여, 내부가 비어 있는 형태의 필라 패턴을 형성하는 단계; 전자빔 조사 하에서, 상기 내부가 비어 있는 형태의 필라 패턴에 투명 전도성 산화물을 증착하여, 투명 전도성 산화물 필라를 형성하는 단계; 상기 투명 전도성 산화물 필라가 형성된 유리 기판을 스트립(Strip) 용액에 담궈 상기 포토레지스트를 제거하는 단계; 및나노와이어, 나노로드, 나노튜브, 나노섬유 중에서 1종 이상 선택되는 형태의 1차원 전도성 또는 반도성 물질로 상기 투명 전도성 산화물 필라들을 전기적으로 연결하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 센서 제조 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 투명 전도성 산화물 필라들의 높이가 10nm 이상이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 고감도 센서 제조 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 1차원 전도성 또는 반도성 물질은 전기영동(electrophoresis), 유전영동(dielectrophoresis), 전기방사(electrospinning), 스프레이(spray) 코팅, EHD(electrohydrodynamic) 코팅, 화학기상증착(CVD) 및 스핀코팅 중에서 선택되는 방법으로 상기 투명 전도성 산화물 필라들 사이에 배열되는 것을 특징으로 하는 고감도 센서 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.