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질량 분석기 및 그것의 전자빔 주입을 제어하는 방법(MASS SPECTROMETER AND METHOD FOR CONTROLLING INJECTION OF ELECTRON BEAM THEREOF)

  • 기술번호 : KST2016013433
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 질량 분석기의 전자빔 주입 제어에 관한 것이다. 본 발명의 질량 분석기는 정현파 신호를 생성하는 기준 파형 생성기, 정현파 신호를 입력받고, 정현파 신호를 구형파 신호로 변환하는 파형 생성기, 입력되는 제어 신호에 따라 이온 트랩 내부로 주입되는 전자빔의 생성을 위한 자외선(UV) 다이오드의 동작을 제어하는 전자빔 생성기, 및 구형파 신호를 이용하여 제어 신호를 발생하는 제어 회로를 포함한다.
Int. CL G01N 27/62 (2006.01) H01J 49/26 (2006.01)
CPC H01J 49/0054(2013.01) H01J 49/0054(2013.01) H01J 49/0054(2013.01) H01J 49/0054(2013.01) H01J 49/0054(2013.01) H01J 49/0054(2013.01)
출원번호/일자 1020150058163 (2015.04.24)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0083785 (2016.07.12) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020140194552   |   2014.12.31
법적상태 취하
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.04.28)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김승용 대한민국 대전광역시 유성구
2 양모 미국 대전광역시 유성구
3 김현식 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.04.24 수리 (Accepted) 1-1-2015-0403355-00
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2015.04.28 수리 (Accepted) 1-1-2015-0414687-00
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
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번호 청구항
1 1
정현파 신호를 생성하는 기준 파형 생성기;상기 정현파 신호를 입력받고, 상기 정현파 신호를 상기 정현파 신호에 동기된 구형파 신호로 변환하는 파형 생성기;입력되는 제어 신호에 따라 이온 트랩 내부로 주입되는 전자빔의 생성을 위한 자외선(UV) 다이오드의 동작을 제어하는 전자빔 생성기; 및상기 구형파 신호를 이용하여 상기 제어 신호를 발생하는 제어 회로를 포함하는 질량 분석기
2 2
제 1 항에 있어서,상기 정현파 신호는 약 1 메가헤르쯔(MHz) 내지 약 10MHz 범위 내의 단일 주파수를 갖는 질량 분석기
3 3
제 1 항에 있어서,상기 제어 회로는 알에프 트랩핑(RF trapping)을 수행하는 시구간 내에서 상기 제어 신호를 발생하는 질량 분석기
4 4
제 1 항에 있어서,상기 구형파 신호를 구성하는 구형파는 상기 자외선(UV) 다이오드의 온 시간과 동일하며, 상기 구형파의 펄스폭은 약 1마이크로초(usec)에서 약 50밀리초(msec) 범위의 값으로 설정되는 질량 분석기
5 5
제 1 항에 있어서,상기 정현파 신호에 근거하여 상기 이온 트랩 내부에서 질량값에 따라 이온 분자를 이탈시키기 위한 알에프(RF) 전압 신호를 생성하고, 상기 RF 전압 신호를 상기 이온 트랩 내 RF 전극으로 인가하는 RF 모듈을 더 포함하는 질량 분석기
6 6
제 5 항에 있어서,상기 제어 신호는 상기 RF 전극에 인가되는 상기 RF 전압 신호의 파형에 동기화된 신호인 질량 분석기
7 7
제 5 항에 있어서,상기 이온 트랩을 포함하고, 상기 전자빔과 주입된 시료를 충돌시켜 생성된 이온 분자를 상기 RF 전압 신호를 이용하여 질량에 따라 외부로 이탈시키는 이온 트랩 모듈;상기 이탈되는 이온을 검출하는 검출기; 및상기 검출된 이온을 질량 분석하는 데이터 분석기를 더 포함하는 질량 분석기
8 8
질량 분석기의 전자빔 주입 제어 방법에 있어서,정현파 신호를 생성하는 단계;상기 정현파 신호를 구형파로 구성된 구형파 신호로 변환하는 단계;상기 구형파 신호를 이용하여 제어 신호를 발생하는 단계; 및상기 제어 신호에 따라 이온 트랩 내부로 주입되는 전자빔의 생성을 위한 자외선(UV) 다이오드의 동작을 제어하는 단계를 포함하고,상기 제어 신호는 상기 이온 트랩의 알에프(RF) 전극에 인가되는 RF 전압 신호의 파형에 동기화된 신호인 전자빔 주입 제어 방법
9 9
제 8 항에 있어서,상기 정현파 신호는 약 1 메가헤르쯔(MHz) 내지 약 10MHz 범위 내의 단일 주파수를 갖는 전자빔 주입 제어 방법
10 10
제 8 항에 있어서,상기 구형파는 자외선(UV) 다이오드의 온 시간과 동일하며, 상기 구형파의 펄스폭은 약 1마이크로초(usec)에서 약 50밀리초(msec) 범위의 값으로 설정되는 전자빔 주입 제어 방법
11 11
제 8 항에 있어서,상기 제어 신호를 발생하는 단계는RF 트랩핑(RF trapping)을 수행하는 시구간 내에서 상기 제어 신호를 발생하는 단계를 포함하는 전자빔 주입 제어 방법
12 12
제 8 항에 있어서,상기 정현파 신호에 근거하여 상기 이온 트랩 내부에서 질량값에 따라 이온 분자를 이탈시키기 위한 RF 전압 신호를 생성하고, 상기 RF 전압 신호를 상기 RF 전극으로 인가하는 단계를 더 포함하는 전자빔 주입 제어 방법
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2 KR20160083801 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
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