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제1 광 펄스열을 생성하는 제1 레이저;제2 광 펄스열을 생성하는 제2 레이저;상기 제1 광 펄스열 및 상기 제2 광 펄스열 사이의 타이밍 오차에 기초하여 제1 출력 신호를 생성하는 균형 광 상호상관기;상기 제1 출력 신호를 통과시켜 제2 출력 신호를 생성하는 루프 필터; 및상기 제1 출력 신호로부터 획득한 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 환산하여 잠금 대역폭 주파수보다 높은 푸리에 주파수에서의 제1 타이밍 잡음을 측정하고, 상기 제2 출력 신호로부터 획득한 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 환산하여 상기 잠금 대역폭 주파수보다 낮은 푸리에 주파수에서의 제2 타이밍 잡음을 측정하는 측정부를 포함하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 제2 레이저는 반복률 조정부를 더 포함하고,상기 반복률 조정부는 상기 제2 출력 신호에 기초하여 상기 제1 레이저 및 상기 제2 레이저의 반복률을 동기화하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 장치
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3 |
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제2항에 있어서,상기 반복률 조정부는 압전소자를 포함하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 측정부는, 상기 제2 출력 신호로부터 획득한 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 수학식 을 이용하여 위상 잡음 스펙트럼 밀도로 환산하고, 상기 위상 잡음 스펙트럼 밀도를 수학식 를 이용하여 상기 제2 타이밍 잡음에 대응하는 타이밍 잡음 스펙트럼 밀도로 변환하고,여기서 는 반복률 주파수에서의 위상 잡음 스펙트럼 밀도를 나타내고, 는 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 나타내고, 는 타이밍 잡음 스펙트럼 밀도를 나타내고, f는 푸리에 주파수를 나타내고 fR 은 반복률 주파수를 나타내는,펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 장치
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삭제
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제1항에 있어서,상기 제1 타이밍 잡음 및 상기 제2 타이밍 잡음에 기초하여 전체 타이밍 잡음을 출력하는 출력부를 더 포함하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 장치
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7
제1 레이저를 이용하여 제1 광 펄스열을 생성하는 단계;제2 레이저를 이용하여 제2 광 펄스열을 생성하는 단계;균형 광 상호상관기를 이용하여 상기 제1 광 펄스열 및 상기 제2 광 펄스열 사이의 타이밍 오차에 기초하여 제1 출력 신호를 생성하는 단계;상기 제1 출력 신호를 루프 필터에 통과시켜 제2 출력 신호를 생성하는 단계;상기 제1 출력 신호로부터 획득한 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 환산하여 잠금 대역폭 주파수보다 높은 푸리에 주파수에서의 제1 타이밍 잡음을 측정하는 단계; 및상기 제2 출력 신호로부터 획득한 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 환산하여 상기 잠금 대역폭 주파수보다 낮은 푸리에 주파수에서의 제2 타이밍 잡음을 측정하는 단계를 포함하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 방법
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8
제7항에 있어서,상기 제2 출력 신호에 기초하여 상기 제1 레이저 및 상기 제2 레이저의 반복률을 동기화하는 단계를 더 포함하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 방법
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9
제8항에 있어서,상기 동기화하는 단계는 상기 제2 레이저에 포함된 압전소자를 이용하는 단계를 포함하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 방법
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10
제7항에 있어서,상기 제2 타이밍 잡음을 측정하는 단계는,상기 제2 출력 신호로부터 획득한 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 수학식 을 이용하여 위상 잡음 스펙트럼 밀도로 환산하는 단계; 및상기 위상 잡음 스펙트럼 밀도를 수학식 를 이용하여 상기 제2 타이밍 잡음에 대응하는 타이밍 잡음 스펙트럼 밀도로 변환하는 단계를 포함하고,여기서 는 반복률 주파수에서의 위상 잡음 스펙트럼 밀도를 나타내고, 는 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 나타내고, 는 타이밍 잡음 스펙트럼 밀도를 나타내고, f는 푸리에 주파수를 나타내고 fR 은 반복률 주파수를 나타내는,펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 방법
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삭제
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제7항에 있어서,상기 제1 타이밍 잡음 및 상기 제2 타이밍 잡음에 기초하여 전체 타이밍 잡음을 출력하는 단계를 더 포함하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 방법
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측정 대상 레이저에서 생성된 광 펄스열 및 레퍼런스 레이저에서 생성된 광 펄스열 사이의 타이밍 오차에 기초하여 제1 출력 신호를 생성하는 균형 광 상호상관기;상기 제1 출력 신호를 입력 받아 제2 출력 신호를 생성하고, 상기 제2 출력 신호를 반복률 조정부로 출력하는 루프 필터;상기 제1 출력 신호로부터 획득한 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 환산하여 잠금 대역폭 주파수보다 높은 푸리에 주파수에서의 제1 타이밍 잡음을 획득하는 제1 측정부;상기 제2 출력 신호로부터 획득한 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 위상 잡음 스펙트럼 밀도로 환산하고, 상기 위상 잡음 스펙트럼 밀도를 제2 타이밍 잡음으로 변환하는 제2 측정부; 및상기 제1 타이밍 잡음 및 상기 제2 타이밍 잡음에 기초하여 상기 측정 대상 레이저의 타이밍 잡음을 출력하는 출력부를 포함하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 장치
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제13항에 있어서,상기 레퍼런스 레이저의 타이밍 잡음은 상기 측정 대상 레이저의 타이밍 잡음보다 낮거나 같은 것을 특징으로 하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 장치
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균형 광 상호상관기를 이용하여, 측정 대상 레이저에서 생성된 광 펄스열 및 레퍼런스 레이저에서 생성된 광 펄스열 사이의 타이밍 오차에 기초하여 제1 출력 신호를 생성하는 단계;상기 제1 출력 신호를 루프 필터에 통과시켜 반복률 조정부에 제공되는 제2 출력 신호를 생성하는 단계;상기 제1 출력 신호로부터 획득한 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 환산하여 잠금 대역폭 주파수보다 높은 푸리에 주파수에서의 제1 타이밍 잡음을 획득하는 단계;상기 제2 출력 신호로부터 획득한 주파수 잡음 스펙트럼 밀도를 위상 잡음 스펙트럼 밀도로 환산하고, 상기 위상 잡음 스펙트럼 밀도를 상기 잠금 대역폭 주파수보다 낮은 푸리에 주파수에서의 제2 타이밍 잡음으로 변환하는 단계; 및상기 제1 타이밍 잡음 및 상기 제2 타이밍 잡음에 기초하여 상기 측정 대상 레이저의 타이밍 잡음을 출력하는 단계를 포함하는, 펨토초 레이저의 타이밍 잡음 측정 방법
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