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초미세수용성입자측정장치를 포함하는 대기측정시스템에 있어서,상기 초미세수용성입자측정장치는, 외부로부터 초미세수용성입자가 포함된 대기가 유입되는 유입구 및 외부로 대기가 토출되는 토출구가 형성된 챔버;상기 챔버와 연결되어 상기 챔버 내부로 수증기를 공급하는 히터부;상기 토출구에 설치되어 상기 초미세수용성입자가 상기 수증기에 응집되어 성장한 성장분진액을 포집하는 포집부; 및상기 토출구 부분에 설치되어 상기 챔버 내부의 기체를 상기 유입구로부터 상기 토출구로 이동시키는 기체이송부;를 포함하는 대기측정시스템
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제 1 항에 있어서,상기 히터부 및 상기 포집부 중 적어도 하나에 물을 공급 및 상기 챔버에 연결되어 상기 챔버 내부 및 상기 챔버 저면의 수분 및 초미세수용성입자 중 적어도 하나를 외부로 배출 중 적어도 하나를 수행하는 액체제어분배펌프;를 더 포함하는 대기측정시스템
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제 2 항에 있어서, 상기 액체제어분배펌프에서 공급된 물이 공급된 상기 성장분진액이 낙하하여 일시적으로 저장되는 기포제거부;를 더 포함하는 대기측정시스템
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제 3 항에 있어서, 상기 액체제어분배펌프는 상기 기포제거부 내부의 기체를 외부로 배출시키는 대기측정시스템
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제 3 항에 있어서, 상기 기포제거부와 연결되어 상기 기포제거부의 내부의 유체 중 상기 초미세수용성입자 중 유기탄소농도를 분석하는 총유기탄소분석부;를 더 포함하는 대기측정시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 포집부는, 상기 토출구에 설치되며 상기 챔버 내부로 일부가 돌출되도록 형성된 충돌판;상기 충돌판의 돌출된 부분에 설치되는 필터부; 및상기 토출구와 상기 충돌판 사이 및 상기 토출구와 상기 필터부 사이 중 적어도 하나에 설치되는 실링부;를 포함하는 대기측정시스템
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제 6 항에 있어서, 상기 충돌판 중 적어도 일부분은 요철이 형성된 대기측정시스템
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제 6 항에 있어서,상기 필터부는 상기 충돌판의 돌출된 부분의 외주면을 감싸도록 설치되어 상기 충돌판의 돌출된 부분으로부터 상기 챔버의 길이 방향으로 일부가 돌출되도록 배치되는 대기측정시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 토출구는,길이 방향 단면적이 작아지도록 형성된 가속부;상기 가속부의 끝단으로부터 이격되도록 형성되며, 상기 챔버 내부로 돌출되도록 형성되는 돌기부;를 포함하는 대기측정시스템
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제 9 항에 있어서,상기 돌기부는 양단이 경사지도록 형성되는 대기측정시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 초미세수용성입자측정장치는,상기 유입구로 유입되는 기체 중 휘발성유기화합물(Volatile Organic Compounds, VCOs)를 제거하는 제1 카본디누더;를 더 포함하는 대기측정시스템
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제 11 항에 있어서,상기 초미세수용성입자측정장치는,상기 제1 카본디누더와 상기 유입구 사이에 설치되는 제1 싸이클론부;를 더 포함하는 대기측정시스템
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제 11 항에 있어서, 상기 초미세수용성입자측정장치는,상기 제1 카본디누더로 유입되는 기체를 건조시키는 제1 건조부;를 더 포함하는 대기측정시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 초미세수용성입자측정장치로 유입되는 기체가 분지되어 공급되어 상기 기체를 분석하는 여과지포집장치;를 더 포함하는 대기측정시스템
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제 14 항에 있어서,상기 여과지포집장치는, 공급되는 상기 기체를 건조하는 제2 건조부;상기 제2 건조부에서 토출되는 기체에서 가스상 물질을 제거하는 제2 카본 디누더; 상기 제2 카본 디누더로부터 토출되는 기체가 공급되는 제2 싸이클론부; 및 상기 기체를 여과지에 포집하는 여과포집부;를 더 포함하는 대기측정시스템
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제 15 항에 있어서, 상기 여과포집부는 테프론 여과지 및 석영 여과지 중 적어도 하나를 포함하는 대기측정시스템
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