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광을 출사하는 광원부; 및상기 광원부에서 출사된 광의 위상 및 진폭 중 적어도 하나를 변조하여 홀로그램 영상을 출력하는 공간 광 변조기를 포함하고,상기 공간 광 변조기는,기판; 및상기 기판 상에 적층된 복수의 광 변조층들을 포함하고, 상기 복수의 광 변조층들은 굴절률, 두께, 및 투명도 중 적어도 하나가 서로 상이한 홀로그래픽 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 공간 광 변조기는 각각이 입사된 광을 변조하는 복수의 화소들을 포함하고, 상기 광 변조층들 각각은 상기 화소들 각각에 대응하는 광 변조 소자를 포함하는 홀로그래픽 표시 장치
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제2항에 있어서,상기 광 변조층들은 순차적으로 적층된 M (M은 2 이상의 자연수)개의 층들로 이루어지고, 상기 화소들 각각은 입사된 광을 2M 개의 변조 광들 중 어느 하나로 변조하는 홀로그래픽 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 광 변조층들은 투명 산화막 또는 투명 감광막으로 형성되는 홀로그래픽 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 광 변조층들 전체의 두께는 0
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제1항에 있어서,상기 광 변조층들은 서로 상이한 굴절률을 갖고, 서로 동일한 두께 및 투명도를 갖는 홀로그래픽 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 광 변조층들은 서로 상이한 투명도를 갖고, 서로 동일한 두께 및 굴절률을 갖는 홀로그래픽 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 광 변조층들은 제1 내지 제4 광 변조층들을 포함하고, 상기 제1 및 제2 광 변조층들은 서로 다른 굴절률을 갖고, 서로 동일한 두께 및 투명도를 갖고,상기 제3 및 제4 광 변조층들은 서로 다른 투명도를 갖고, 서로 동일한 두께 및 굴절률을 갖는 홀로그래픽 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 광 변조층들은 서로 상이한 두께를 갖고, 서로 동일한 굴절률 및 투명도를 갖는 홀로그래픽 표시 장치
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제9항에 있어서,상기 광 변조층들은 서로 동일한 물질로 이루어진 홀로그래픽 표시 장치
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제9항에 있어서,상기 광 변조층들은 제1 내지 제4 광 변조층들을 포함하고,상기 제1 내지 제4 광 변조층들의 두께는 순차적으로 두 배씩 증가하는 홀로그래픽 표시 장치
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제1항에 있어서,상기 공간 광 변조기는 상기 기판과 상기 광 변조층들 사이에 배치된 식각 방지막을 더 포함하는 홀로그래픽 표시 장치
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제12항에 있어서,상기 광 변조층들은 서로 동일한 물질로 이루어진 홀로그래픽 표시 장치
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광을 출사하는 광원부 및 상기 광원부에서 출사된 광의 위상 및 진폭 중 적어도 하나를 변조하여 홀로그램 영상을 출력하는 공간 광 변조기를 포함하는 홀로그래픽 표시 장치의 제조 방법에 있어서,기판을 제공하는 단계;상기 기판 상에 제1 광 변조층을 형성하는 단계; 및상기 제1 광 변조층이 형성된 기판 상에 상기 제1 광 변조층과 굴절률, 두께, 및 투명도 중 적어도 하나가 서로 상이한 제2 광 변조층을 형성하는 단계를 포함하는 홀로그래픽 표시 장치의 제조 방법
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제14항에 있어서,상기 제1 광 변조층 및 상기 제2 광 변조층은 증착 공정 또는 나노 임프린트 공정을 통해 형성하는 홀로그래픽 표시 장치의 제조 방법
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제14항에 있어서,상기 제1 광 변조층이 형성된 기판 상에 식각 방지막을 형성하는 단계를 더 포함하는 홀로그래픽 표시 장치의 제조 방법
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