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다음의 단계를 포함하는 고전도성 금속 막(metallic films) 또는 패턴(patterns)의 저온-소결 제조방법:(a) 탄소 코팅된 금속 나노입자와 용매를 혼합시키는 단계;(b) 상기 혼합물을 이용하여 기판 위에 전도성 막을 도포시키는 단계;(c) 산화 분위기에서 5분 내지 10분 동안 200℃ 이상 250℃ 이하의 온도에서 상기 단계 (b)의 탄소 코팅된 금속 나노입자를 소결시키는 단계; 및(d) 수소(H2)가 포함된 혼합 가스의 환원 분위기에서 5분 내지 30분 동안 200℃ 이상 250℃ 이하의 온도에서 상기 단계 (c)의 금속 나노입자를 소결시키는 단계
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제1항에 있어서, 상기 탄소 코팅된 금속 나노입자는 비정질 탄소 코팅 층(amorphorous carbon coating layer)을 가지는 금속 나노입자인 것인 저온-소결 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 (a)의 탄소 코팅된 금속 나노입자는 전기폭발법에 의해 제조되는 것인 저온-소결 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 나노입자는 200-250℃에서 서로 넥킹(necking)될 수 있는 금속 나노입자인 것인 저온-소결 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 금속은 Cu, Ni, Fe, Al, Zn, Co, Au, Ag, Pt 또는 이의 조합물인 것인 저온-소결 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 용매는 글리콜계 또는 알코올계 용액인 것인 저온-소결 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 (b)의 기판은 유연기판인 것인 저온-소결 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 (b)의 도포는 스크린 프린팅에 의해 실시되는 것인 저온-소결 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 (c)의 산화 분위기는 산소를 포함하는 가스 분위기(gas atmosphere)인 것인 저온-소결 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 (c)의 소결은 탄소 층을 제거하고 상기 금속 나노입자 간의 넥킹(necking)을 유발시키며 소결 과정에 따라 상기 넥킹된 금속 나노입자 표면이 금속 산화물로 둘러싸여지는 것인 저온-소결 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 (d)의 소결은 상기 단계 (c)에서 형성된 금속 산화물 층(metal oxide layer)을 환원시키는 것인 저온-소결 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 (d)의 반응 시간은 5분 내지 10분인 것인 저온-소결 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 막은 2
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