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지지기판과 그래핀이 결합된 그래핀 적층체를 준비하는 단계; 및상기 그래핀 적층체와 전사 대상 기판을 진공 열처리하여 상기 그래핀 적층체의 그래핀을 상기 전사 대상 기판으로 전사하는 단계를 포함하되,상기 진공 열처리는 10-7torr 내지 10-2torr의 진공 분위기하에 150℃ 내지 250℃의 온도에서 수행되고,상기 전사는 그래핀과 전사 대상 기판 사이의 자발적인 본딩(bonding)에 의해 진행되는 것을 특징으로 하는 그래핀의 전사방법
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제1항에 있어서,상기 지지기판은 하나 이상의 이격 공간을 가지고 있으며, 상기 그래핀은 상기 지지기판의 이격 공간에 배치되는 것을 특징으로 하는 그래핀의 전사방법
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제1항 및 제2항 중 어느 한 항에 있어서,상기 지지기판은 pH 3 이하의 내산성 또는 pH 10 이상의 내염기성; 및 100℃ 내지 300℃에서의 내열성을 갖는 기판인 것을 특징으로 하는 그래핀의 전사방법
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제1항에 있어서,상기 지지기판과 상기 그래핀을 결합시키는 접착부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀의 전사방법
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제4항에 있어서,상기 접착부재를 상기 그래핀 일면 또는 상기 지지기판의 일면에 도포한 후, 상기 도포된 접착부재를 경화하여 상기 지지기판과 상기 그래핀을 접착시키는 것을 특징으로 하는 그래핀의 전사방법
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제 5항에 있어서,상기 접착부재는 pH 3 이하의 내산성 또는 pH 10 이상의 내염기성; 및 100℃ 내지 300℃에서의 내열성을 갖는 접착부재인 것을 특징으로 하는 그래핀의 전사방법
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진공 챔버 내에,일측에 배치된 그래핀을 제공하는 그래핀 공급부;상기 그래핀 공급부와 이격하여 위치하며 상기 그래핀이 전사될 전사 대상 기판을 제공하는 전사 대상 기판 공급부; 및상기 전사 대상 기판 공급부의 하부에 위치하며 상기 전사 대상 기판에 열을 제공하는 열 공급부를 포함하고,상기 그래핀 공급부는,상기 그래핀이 접착부재에 의해 지지기판에 부착되어 그래핀/접착부재/지지기판으로 구성되는 것을 특징으로 하는 그래핀 전사장치
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제8항에 있어서,상기 그래핀 전사장치는,상기 열 공급부 및 상기 전사 대상 기판 공급부의 측면에 위치 제어 장치가 배치되는 것을 더 포함하고,상기 위치 제어 장치에 의해 상기 그래핀 공급부와 상기 전사 대상 기판 공급부의 이격 거리가 조절되는 것을 특징으로 하는 그래핀 전사 장치
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제8항에 있어서,상기 그래핀 전사장치는,상기 열 공급부의 하부에 스테이지 이동 장치가 배치되는 것을 더 포함하고,상기 스테이지 이동 장치에 의해 상기 전사 대상 기판 공급부의 3차원 이동이 이루어지는 것을 특징으로 하는 그래핀 전사 장치
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제10항에 있어서,상기 그래핀 전사장치는,상기 그래핀 공급부의 일면을 가압하여 상기 그래핀 공급부와 상기 전사 대상 기판 공급부를 접합시키는 제1 롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 전사 장치
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제8항에 있어서,상기 그래핀 전사장치는,상기 그래핀 공급부 및 상기 전사 대상 기판 공급부를 연속적으로 공급하는 컨베이어 벨트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 전사장치
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제13항에 있어서,상기 그래핀 전사장치는,상기 그래핀 공급부의 일면을 가압하여 상기 그래핀 공급부와 상기 전사 대상 기판 공급부를 접합시키는 제1 롤러 및 상기 전사 대상 기판 공급부의 일면을 가압하는 제2 롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 전사장치
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