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초소형 컬럼용 정전 4중극 디플렉터(Electrostatic Quadrupole Deflector for Microcolumn)

  • 기술번호 : KST2016014204
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 초소형 전자 컬럼에서 사용되는 디플렉터에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 정전 4중극 디플렉터에 관한 것이다. 본 발명에 따른 디플렉터는 편향 전극 외에 편향 전압이 인가되지 않는 플로팅 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 한다. 그리하여, 구조적인 안정을 가질 수 있을 뿐만 아니라 구동방식의 단순함을 동시에 구비할 수 있는 것으로 그 특성 또한 우수한 성능을 확보할 수 있다.
Int. CL H01J 37/147 (2006.01.01) H01J 37/06 (2006.01.01) H01J 37/10 (2006.01.01)
CPC H01J 37/1477(2013.01) H01J 37/1477(2013.01) H01J 37/1477(2013.01) H01J 37/1477(2013.01) H01J 37/1477(2013.01)
출원번호/일자 1020150008918 (2015.01.19)
출원인 선문대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1667771-0000 (2016.10.13)
공개번호/일자 10-2016-0089605 (2016.07.28) 문서열기
공고번호/일자 (20161020) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.01.19)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 선문대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오태식 대한민국 충청남도 천안시 동남구
2 김 호 섭 대한민국 인천 서구
3 김대욱 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인아이엠 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***, ***호 (역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 선문대학교 산학협력단 충청남도 아산시
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.01.19 수리 (Accepted) 1-1-2015-0055073-11
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2016.01.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2016.04.11 수리 (Accepted) 9-1-2016-0017992-52
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0387412-19
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.07.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0729061-73
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2016-0729060-27
7 등록결정서
Decision to grant		 2016.09.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0658836-43
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.26 수리 (Accepted) 4-1-2019-5169188-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전자빔이 통과되는 통과공 및 상기 통과공을 통과하는 전자들을 편향시키거나 스캔하도록 상기 통과공 주위에 방사상으로 배치된 다수의 편향 전극들을 포함하는 디플렉터에 있어서, 상기 디플렉터가 상기 편향 전극들 외에 편향 전압이 인가되지 않는 전극으로서의 플로팅 전극을 상기 편향 전극들 사이에 배치되도록 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 디플렉터
2 2
제1항에 있어서, 상기 디플렉터에서 상기 편향 전극의 크기가 상기 플로팅 전극의 크기 보다도 작은 것을 특징으로 하는 디플렉터
3 3
제1항에 있어서, 상기 디플렉터에서 상기 편향 전극과 플로팅 전극이 각각 4개로 대칭적으로 형성되어지는 것을 특징으로 하는 디플렉터
4 4
제3항에 있어서, 상기 디플렉터에서 상기 편향 전극의 형성 각도가 45도 보다 작은 것을 특징으로 하는 디플렉터
5 5
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 편향 전극과 상기 플로팅 전극사이에 형성되어지는 간격이 편향 전극의 크기보다 작으며, 그리고 상기 디플렉터가 MEMS 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 디플렉터
6 6
전자 방출원(Emitter); 소스 렌즈부(source lens); 집속 렌즈부(focusing lens); 및 디플렉터를 포함하는 초소형 전자 광학 컬럼에 있어서, 상기 초소형 전자 광학 컬럼이 전자빔 정열기(Aligner)를 포함하며, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 디플렉터를 구비한 것을 특징으로 하는 초소형 전자 광학 컬럼
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 선문대학교 산학협력단 산업핵심기술개발사업 EUV 마스크 actinic 검사장비 및 멀티전자빔 웨이퍼 검사기술 개발