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상변화 메모리소자의 세트시간 및 데이터 유지시간의 예측방법(Predicting method for SET time and DATA retention time of PcRAM)

  • 기술번호 : KST2016014233
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판 및 상기 기판의 적어도 일면 상에 상변화물질의 피막이 형성된 부재를 승온시키면서 상기 기판의 곡률변화를 측정하는 단계; 상기 측정된 곡률변화로부터 상기 상변화물질의 결정화 온도(Tx) 및 과냉액상온도구역(Tx-Tg)을 도출하는 단계; 및 상기 결정화 온도(Tx) 및 상기 과냉액상온도구역(Tx-Tg)을 매핑하여 세트시간 및 데이터 유지시간을 예측하는 단계;를 포함하거나, 기판 및 상기 기판의 적어도 일면 상에 상변화물질의 피막이 형성된 부재를 승온시키면서 상기 기판의 곡률변화를 측정하는 단계; 상기 측정된 곡률변화로부터 상기 상변화물질의 결정화 온도(Tx) 및 프래질리티(fragility)를 도출하는 단계; 및 상기 결정화 온도(Tx) 및 상기 프래질리티의 역수를 매핑하여 세트시간 및 데이터 유지시간을 예측하는 단계;를 포함하는, 상변화 메모리소자의 세트시간 및 데이터 유지시간의 예측방법을 제공한다.
Int. CL G11C 29/08 (2015.01) G11C 29/12 (2015.01) G11C 29/50 (2006.01) G11C 11/56 (2006.01) G11C 29/02 (2006.01) G11C 29/56 (2015.01) G11C 29/04 (2006.01) G11C 7/04 (2006.01)
CPC G11C 29/12015(2013.01) G11C 29/12015(2013.01) G11C 29/12015(2013.01) G11C 29/12015(2013.01) G11C 29/12015(2013.01) G11C 29/12015(2013.01) G11C 29/12015(2013.01)
출원번호/일자 1020150009790 (2015.01.21)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1650481-0000 (2016.08.17)
공개번호/일자 10-2016-0090034 (2016.07.29) 문서열기
공고번호/일자 (20160823) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.01.21)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 주영창 대한민국 서울특별시 강남구
2 조주영 대한민국 서울특별시 동작구
3 박용진 대한민국 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교 산학협력단 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2015-0062765-51
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.08.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.10.08 수리 (Accepted) 9-1-2015-0063536-34
6 등록결정서
Decision to grant
2016.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0359703-00
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 및 상기 기판의 적어도 일면 상에 상변화물질의 피막이 형성된 부재를 승온시키면서 상기 기판의 곡률변화를 측정하는 단계;상기 측정된 곡률변화로부터 상기 상변화물질의 결정화 온도(Tx) 및 과냉액상온도구역(Tx-Tg)을 도출하는 단계; 및상기 결정화 온도(Tx) 및 상기 과냉액상온도구역(Tx-Tg)을 매핑하여 세트시간 및 데이터 유지시간을 예측하는 단계;를 포함하는,상변화 메모리소자의 세트시간 및 데이터 유지시간의 예측방법
2 2
기판 및 상기 기판의 적어도 일면 상에 상변화물질의 피막이 형성된 부재를 승온시키면서 상기 기판의 곡률변화를 측정하는 단계;상기 측정된 곡률변화로부터 상기 상변화물질의 결정화 온도(Tx) 및 프래질리티(fragility)를 도출하는 단계; 및상기 결정화 온도(Tx) 및 상기 프래질리티의 역수를 매핑하여 세트시간 및 데이터 유지시간을 예측하는 단계;를 포함하는,상변화 메모리소자의 세트시간 및 데이터 유지시간의 예측방법
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 상변화물질은 Ge2Sb2Te5를 포함하는,상변화 메모리소자의 세트시간 및 데이터 유지시간의 예측방법
4 4
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 상변화물질은 알루미늄(Al), 비스무트(Bi), 탄소(C) 및 질소(N) 중 적어도 어느 하나가 도핑된,상변화 메모리소자의 세트시간 및 데이터 유지시간의 예측방법
5 5
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 기판은 실리콘(Si) 또는 이산화규소(SiO2)를 포함하는,상변화 메모리소자의 세트시간 및 데이터 유지시간의 예측방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 삼성전자(주) 산업융합원천기술개발사업 MLC-PRAM용 상변화 재료 및 고성능 메모리 기술개발