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제1투명탄성기판과 제2투명탄성기판;서로 대향하여 구비되며, 상기 제1투명탄성기판 상에 형성된 제1투명전극과상기 제2투명탄성기판 상에 형성된 제2투명전극; 및상기 제1투명전극과 상기 제2투명전극 사이에 구비되는 유무기복합발광층;을 포함하며,상기 유무기복합발광층은 상기 제1투명전극 및 상기 제2투명전극에 전원 공급에 의한 전기발광과 역학적외력에 의한 기계발광이 모두 가능한 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자
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제 1 항에 있어서,상기 유무기복합발광층은 투명고분자탄성체에 금속코팅형광체가 분산되어 있는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자
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제 2 항에 있어서,상기 투명고분자탄성체는 폴리다이메틸실록세인(polydimethylsiloxane, 이하 PDMS) 또는 PEDOT:PSS으로 이루어진 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자
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제 3 항에 있어서,상기 금속코팅형광체는 ZnS:Cu, ZnS:Mn, ZnS:Cu,Mn, ZnS:Cu,Al, ZnS:(Cu,Al,Mn), (Y,Eu)2O3:Eu, (Sr,Mg)3(PO4)2:Sn, (Ba,Mg)2Al16O27:Eu 및 CaWO4:Pb로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 형광체에 금속이 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자
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제 4 항에 있어서, 상기 유무기복합발광층은 20㎛ 내지 50㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1투명탄성기판과 제2투명탄성기판은 PDMS, 투명우레탄 및 PEDOT:PSS로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자
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제 6 항에 있어서, 상기 제1투명탄성기판과 제2투명탄성기판은 250 내지 800㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1투명전극과 제2투명전극은 투명전도성산화물(TCO), 산화물/금속/산화물(OMO: Oxide Metal Oxide), 그래핀(graphene), 메탈메쉬그리드(metal mesh grid) 및 PEDOT:PSS로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자
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제 8 항에 있어서, 상기 제1투명전극과 제2투명전극은 300 내지 800㎚의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자
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제1투명전극이 형성된 제1투명탄성기판과 제2투명전극이 형성된 제2투명탄성기판 및 유무기복합발광필름을 각각 준비하는 제1단계;서로 대향하는 상기 제1투명전극과 상기 제2투명전극 사이에 상기 유무기복합발광필름이 위치하도록 발광소자를 배치한 후 상기 발광소자를 가압하는 제2단계; 및가압상태의 상기 발광소자를 오븐에서 열처리하는 하는 제3단계;를 포함하며, 상기 제1단계에서 상기 제1투명탄성기판과 상기 제2투명탄성기판은 각각PDMS와 경화제를 혼합하여 기판원료를 제조하는 1-1단계;상기 기판원료를 오븐에서 열처리하여 투명탄성기판을 제조하는 1-2단계; 및투명전도성산화물(TCO), 산화물/금속/산화물(OMO: Oxide Metal Oxide), 그래핀(graphene), 메탈메쉬그리드(metal mesh grid) 및 PEDOT:PSS로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 소재를 사용하여 상기 투명탄성기판 상에 투명전극을 증착하는 1-3단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 11 항에 있어서, 상기 PDMS와 상기 경화제는 9:1의 무게비로 혼합되고, 상기 기판원료는 60 내지 80℃의 범위에서 열처리되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 12 항에 있어서, 상기 투명탄성기판은 250 내지 800㎛의 두께로 형성되며, 상기 투명전극은 300 내지 800㎚의 두께로 증착되는 것을 특징으로되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 11 항에 있어서,상기 제1단계에서 상기 유무기복합발광필름은 PDMS 또는 PEDOT:PSS으로 이루어진 투명고분자탄성체와, ZnS:Cu, ZnS:Mn, ZnS:Cu,Mn, ZnS:Cu,Al, ZnS:(Cu,Al,Mn), (Y,Eu)2O3:Eu, (Sr,Mg)3(PO4)2:Sn, (Ba,Mg)2Al16O27:Eu 및 CaWO4:Pb로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 형광체에 금속이 코팅되어 있는 금속코팅형광체를 혼합하여 제조하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 14 항에 있어서,상기 제1단계에서 상기 유무기복합발광필름은상기 투명고분자탄성체와 상기 금속코팅형광체는 3:7의 무게비로 혼합되고, 상기 투명고분자탄성체와와 상기 경화제는 9:1의 무게비로 혼합되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 15 항에 있어서, 상기 유무기복합발광필름은 20㎛ 내지 50㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 11 항에 있어서, 상기 제3단계에서 상기 발광소자는 60 내지 80℃의 범위에서 열처리되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 11 항에 있어서, 상기 제1투명전극과 상기 제2투명전극에 전원을 연결하는 제4단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제1투명전극이 형성된 제1투명탄성기판과 제2투명전극이 형성된 제2투명탄성기판 및 유무기복합발광필름소재를 각각 준비하는 제1단계;상기 제1투명전극 또는 상기 제2투명전극 상면에 준비된 상기 유무기복합발광필름소재를 도포하는 제2단계;상기 제1투명전극과 상기 제2투명전극을 서로 대향하도록 발광소자를 배치한 후 상기 발광소자를 가압하는 제3단계; 및가압상태의 상기 발광소자를 오븐에서 열처리하는 하는 제4단계;를 포함하며,상기 제1단계에서 상기 제1투명탄성기판과 상기 제2투명탄성기판은 각각PDMS와 경화제를 혼합하여 기판원료를 제조하는 1-1단계;상기 기판원료를 오븐에서 열처리하여 투명탄성기판을 제조하는 1-2단계; 및투명전도성산화물(TCO), 산화물/금속/산화물(OMO: Oxide Metal Oxide), 그래핀(graphene), 메탈메쉬그리드(metal mesh grid) 및 PEDOT:PSS로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 소재를 사용하여 상기 투명탄성기판 상에 투명전극을 증착하는 1-3단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 20 항에 있어서, 상기 PDMS와 상기 경화제는 9:1의 무게비로 혼합되고, 상기 기판원료는 60 내지 80℃의 범위에서 열처리되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 21 항에 있어서, 상기 투명탄성기판은 250 내지 800㎛의 두께로 형성되며, 상기 투명전극은 300 내지 800㎚의 두께로 증착되는 것을 특징으로되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 20 항에 있어서,상기 제1단계에서 상기 유무기복합발광필름소재는 PDMS 또는 PEDOT:PSS으로 이루어진 투명고분자탄성체와, ZnS:Cu, ZnS:Mn, ZnS:Cu,Mn, ZnS:Cu,Al, ZnS:(Cu,Al,Mn), (Y,Eu)2O3:Eu, (Sr,Mg)3(PO4)2:Sn, (Ba,Mg)2Al16O27:Eu 및 CaWO4:Pb로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 형광체에 금속이 코팅되어 있는 금속코팅형광체를 혼합하여 제조하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 23 항에 있어서,상기 제1단계에서 상기 유무기복합발광필름소재는상기 투명고분자탄성체와 상기 금속코팅형광체는 3:7의 무게비로 혼합되고, 상기 투명고분자탄성체와와 상기 경화제는 9:1의 무게비로 혼합되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 24 항에 있어서, 상기 제3단계에서 상기 유무기복합발광필름소재의 두께가 20㎛ 내지 50㎛의 두께로 형성되도록 가압하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 20 항에 있어서, 상기 제4단계에서 상기 발광소자는 60 내지 80℃의 범위에서 열처리되는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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제 20 항에 있어서, 상기 제1투명전극과 상기 제2투명전극에 전원을 연결하는 제5단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유무기 복합 발광소자의 제조방법
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