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감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 및 그 제조 방법, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저 장치, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저(Optical waveguide type saturable absorber using evanescent field interaction and manufacturing method thereof, pulse laser apparatus using the same, and pulse laser using the same)

  • 기술번호 : KST2016014557
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광도파로형 포화 흡수체에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 펨토초 레이저 공진기(cavity)내에 모드 잠금(mode-locking) 구현을 위해 설치되어 사용되는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 및 그 제조 방법 그리고 이를 이용한 펨토초 레이저에 관한 것이다.이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 감쇠장과 상호 작용하는 광도파로형 포화 흡수체를 제조하는 방법으로서, (a) 웨이퍼 상에 배열식 광도파로를 제작하는 단계; (b) 단계 (a)에서 제작된 배열식 광도파로를 진행하는 빛의 감쇠장이 표면에 누설되도록 상기 배열식 광도파로의 상부를 일정한 간격을 두고 선택적으로 제거하고, 상기 제거된 부분을 포함한 일정한 간격을 가지는 배열식 광도파로 상부에 포화 흡수 물질을 코팅하여 일정한 간격을 가지는 배열식 포화 흡수체를 제작하는 단계; 및 (c) 단계 (b)에서 제작된 배열식 포화 흡수체를 다이싱하여 개별 분리시키는 단계를 포함한다.
Int. CL H01S 3/11 (2006.01)
CPC H01S 3/1118(2013.01)
출원번호/일자 1020150088966 (2015.06.23)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0094247 (2016.08.09) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020150015043   |   2015.01.30
법적상태 취하
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.06.23)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김정원 대한민국 대전광역시 유성구
2 김철 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장수현 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***, *층(양재동, 영진빌딩)(두리암특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-0606851-95
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.12.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.02.05 수리 (Accepted) 9-1-2016-0007129-08
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
1 1
감쇠장과 상호 작용하는 광도파로형 포화 흡수체를 제조하는 방법으로서,(a) 웨이퍼 상에 배열식 광도파로를 제작하는 단계;(b) 단계 (a)에서 제작된 배열식 광도파로를 진행하는 빛의 감쇠장이 표면에 누설되도록 상기 배열식 광도파로의 상부를 일정한 간격을 두고 선택적으로 제거하고, 상기 제거된 부분을 포함한 배열식 광도파로 상부에 포화 흡수 물질을 코팅하여 일정한 간격을 가지는 배열식 포화 흡수체를 제작하는 단계; 및(c) 단계 (b)에서 제작된 일정한 간격을 가지는 배열식 포화 흡수체를 다이싱하여 개별 분리시키는 단계;를 포함하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 제조 방법
2 2
청구항 1에 있어서,상기 단계 (a)는(Ⅰ) 웨이퍼를 준비하는 단계;(Ⅱ) 단계 (Ⅰ)에서 준비된 웨이퍼 상에 상기 웨이퍼의 굴절률보다 높은 굴절률을 갖는 코어층을 증착하는 단계;(Ⅲ) 단계 (Ⅱ)에서 증착된 코어층을 포토리소그래피(photolithography) 및 에칭(etching) 공정을 통해 배열식 광도파로 코어를 제작하는 단계; 및(Ⅳ) 단계 (Ⅲ)에서 제작된 배열식 광도파로 코어를 포함한 웨이퍼 상에 상기 코어층보다 낮은 굴절률을 갖는 클래딩층을 증착하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 제조 방법
3 3
청구항 2에 있어서,상기 단계 (Ⅱ)에서 상기 단계 (Ⅰ)에서 준비된 웨이퍼의 굴절률이 상기 코어층의 굴절률보다 높을 경우, 상기 웨이퍼 상에 상기 코어층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖는 클래딩층을 증착하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 제조 방법
4 4
청구항 1에 있어서,상기 포화 흡수 물질은 물질에 입력되는 빛의 세기가 증가함에 따라 빛이 겪는 손실률이 감소하는 비선형 손실을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 제조 방법
5 5
청구항 4에 있어서,상기 비선형 손실을 갖는 물질은 탄소 나노 구조물 또는 위상학적 절연체 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 제조 방법
6 6
청구항 5에 있어서,상기 탄소 나노 구조물은 그래핀 또는 탄소 나노관 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 제조 방법
7 7
청구항 5에 있어서,상기 위상학적 절연체는 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 제조 방법
8 8
청구항 1에 있어서,상기 웨이퍼는 실리콘 또는 실리카 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체 제조 방법
9 9
감쇠장과 상호 작용하는 광도파로형 포화 흡수체로서,기판;상기 기판 상의 일면에 도파로 형태로 형성된 코어층;상기 코어층을 포함한 기판 상에 형성되며 상기 코어층을 도파하는 빛의 감쇠장이 표면에 누설되도록 형성된 클래딩층; 및상기 클래딩층 상에 형성되며 상기 클래딩층 표면에 누설된 빛의 감쇠장과 상호 작용하는 포화 흡수층;을 포함하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체
10 10
청구항 9에 있어서,상기 기판은 상기 코어층의 굴절률보다 낮은 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체
11 11
청구항 9에 있어서,상기 기판이 상기 코어층의 굴절률보다 높을 경우, 상기 코어층의 굴절률보다 낮은 하부 클래딩층;을 더 포함하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체
12 12
청구항 9에 있어서,상기 포화 흡수층은 물질에 입력되는 빛의 세기가 증가함에 따라 빛이 겪는 손실률이 감소하는 비선형 손실을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체
13 13
청구항 12에 있어서,상기 비선형 손실을 갖는 물질은 탄소 나노 구조물 또는 위상학적 절연체 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체
14 14
청구항 13에 있어서,상기 탄소 나노 구조물은 그래핀 또는 탄소 나노관 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체
15 15
청구항 14에 있어서,상기 위상학적 절연체는 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체
16 16
청구항 9 또는 15에 기재된 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체는 기판 공정시 일정한 간격을 가지는 직사각형 형태의 배열식으로 구성되어 개별 분리하도록 제작된 배열식 포화 흡수체
17 17
청구항 9 또는 15에 기재된 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체를 이용하여 광섬유 기반으로 제작된 펄스 레이저 장치
18 18
청구항 9 또는 15에 기재된 감쇠장 상호 작용을 이용한 광도파로형 포화 흡수체를 이용하여 광도파로 기반으로 제작된 펄스 레이저 장치
19 19
청구항 17 또는 18에 기재된 펄스 레이저 장치를 이용한 펄스 레이저
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101787209 KR 대한민국 FAMILY
2 WO2016122056 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 KR101787209 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
2 KR20160094269 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
3 WO2016122056 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 KAIST 거대과학연구개발사업 - 우주핵심기술개발사업 - 우주기초연구 칩-스케일, 초저잡음 레이저 발진기와 이를 이용한 초정밀, 장거리 자유공간 동기화에 관한 기초연구(2차년)