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포화 흡수체 및 그 제조 방법, 그리고 이를 이용한 펄스 레이저 장치(Saturable absorber and manufacturing method thereof, and pulse laser device using the same)

  • 기술번호 : KST2016014559
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 포화 흡수체 제조 방법은 웨이퍼 상에 복수의 광도파로를 포함하는 광도파로 어레이를 형성하는 단계, 상기 복수의 광도파로 각각의 적어도 일부를 감싸는 오버클래딩층을 형성하는 단계, 상기 복수의 광도파로 각각의 적어도 일부를 도파하는 빛의 감쇠장과 상호작용할 수 있는 영역에 포화 흡수 물질을 배치하는 단계, 및 상기 웨이퍼를 절단하여 상기 복수의 광도파로 각각에 대응하는 복수의 광도파로형 포화 흡수체로 분리하는 단계를 포함한다.
Int. CL G02F 1/35 (2006.01) H01S 3/11 (2006.01)
CPC H01S 3/1118(2013.01) H01S 3/1118(2013.01)
출원번호/일자 1020150191566 (2015.12.31)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0094269 (2016.08.09) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020150015043   |   2015.01.30
대한민국  |   1020150088966   |   2015.06.23
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.12.31)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김정원 대한민국 대전광역시 유성구
2 김철 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2015-1294896-87
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0917626-15
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.02.20 수리 (Accepted) 1-1-2017-0172441-45
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.02.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0172440-00
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2017.06.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0435691-35
6 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2017.07.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2017-0706859-41
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2017-0706860-98
8 등록결정서
Decision to Grant Registration
2017.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0610499-81
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
웨이퍼 상에 서로 일정한 간격으로 이격되어 배치되는 복수의 광도파로를 포함하는 광도파로 어레이를 형성하는 단계; 상기 복수의 광도파로 각각의 수직 경계면 - 상기 수직 경계면은 상기 웨이퍼가 연장하는 평면에 대하여 수직 방향으로 형성됨 - 의 적어도 일부를 감싸는 오버클래딩층을 형성하는 단계; 상기 복수의 광도파로 각각의 적어도 일부를 도파하는 빛의 감쇠장과 상호작용할 수 있는 영역으로서 상기 수직 경계면에 인접한 영역에 포화 흡수 물질을 배치하는 단계; 및 상기 웨이퍼를 절단하여 상기 복수의 광도파로 각각에 대응하는 복수의 광도파로형 포화 흡수체로 분리하는 단계를 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 오버클래딩층의 일부를 제거하여 상기 빛의 감쇠장과 상호작용할 수 있는 영역을 형성하는 단계를 더 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 광도파로 어레이를 형성하는 단계는, 상기 웨이퍼 상에 코어층을 형성하는 단계; 및 상기 코어층의 적어도 일부를 제거하여 상기 복수의 광도파로를 형성하는 단계를 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
5 5
제4항에 있어서,상기 코어층은 상기 웨이퍼보다 높은 굴절률을 가지는 물질을 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 광도파로 어레이를 형성하는 단계는, 상기 웨이퍼 상에 패터닝된 마스크를 형성하는 단계; 및이온 교환 공정을 통해 상기 복수의 광도파로를 형성하는 단계를 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 복수의 광도파로 각각은 직사각형 형태의 단면을 가지고 연장하는, 포화 흡수체 제조 방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 포화 흡수 물질은 탄소 나노 구조물 또는 위상학적 절연체 중 적어도 하나를 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
9 9
웨이퍼;상기 웨이퍼의 일면 상에 형성된 서로 일정한 간격으로 이격되어 배치되는 복수의 광도파로를 포함하는 광도파로 어레이;상기 복수의 광도파로 각각의 수직 경계면 - 상기 수직 경계면은 상기 웨이퍼가 연장하는 평면에 대하여 수직 방향으로 형성됨 - 의 적어도 일부를 감싸는 오버클래딩층; 및 상기 복수의 광도파로 각각의 적어도 일부를 도파하는 빛의 감쇠장과 상호작용할 수 있는 영역으로서 상기 수직 경계면에 인접한 영역에 배치된 포화 흡수 물질을 포함하는 포화 흡수체 어레이
10 10
웨이퍼 상에 서로 일정한 간격으로 이격되어 배치되는 복수의 광도파로를 포함하는 광도파로 어레이를 형성하는 단계; 상기 복수의 광도파로 각각을 도파하는 빛이 투과할 수 있는 영역으로서 상기 복수의 광도파로 각각의 수직 경계면 - 상기 수직 경계면은 상기 웨이퍼가 연장하는 평면에 대하여 수직 방향으로 형성됨 - 의 적어도 일부에 인접한 영역에 포화 흡수 물질을 배치하는 단계; 및 상기 웨이퍼를 절단하여 상기 복수의 광도파로 각각에 대응하는 복수의 광도파로형 포화 흡수체로 분리하는 단계를 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
11 11
제10항에 있어서, 상기 복수의 광도파로 각각의 적어도 일부를 제거하여 상기 복수의 광도파로 각각을 도파하는 빛이 투과할 수 있는 영역을 형성하는 단계를 더 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
12 12
삭제
13 13
제10항에 있어서, 상기 광도파로 어레이를 형성하는 단계는, 상기 웨이퍼 상에 코어층을 형성하는 단계; 및 상기 코어층의 적어도 일부를 제거하여 상기 복수의 광도파로를 형성하는 단계를 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
14 14
제13항에 있어서,상기 코어층은 상기 웨이퍼보다 높은 굴절률을 가지는 물질을 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
15 15
제10항에 있어서, 상기 광도파로 어레이를 형성하는 단계는, 상기 웨이퍼 상에 패터닝된 마스크를 형성하는 단계; 및이온 교환 공정을 통해 상기 복수의 광도파로를 형성하는 단계를 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
16 16
제10항에 있어서, 상기 복수의 광도파로 각각은 직사각형 형태의 단면을 가지고 연장하는, 포화 흡수체 제조 방법
17 17
제10항에 있어서, 상기 포화 흡수 물질은 탄소 나노 구조물 또는 위상학적 절연체 중 적어도 하나를 포함하는, 포화 흡수체 제조 방법
18 18
웨이퍼;상기 웨이퍼의 일면 상에 형성된 서로 일정한 간격으로 이격되어 배치되는 복수의 광도파로를 포함하는 광도파로 어레이; 및 상기 복수의 광도파로 각각을 도파하는 빛이 투과할 수 있는 영역으로서 상기 복수의 광도파로 각각의 수직 경계면 - 상기 수직 경계면은 상기 웨이퍼가 연장하는 평면에 대하여 수직 방향으로 형성됨 - 의 적어도 일부에 인접한 영역에 배치된 포화 흡수 물질을 포함하는 포화 흡수체 어레이
19 19
제1항 또는 제10항에 기재된 포화 흡수체 제조 방법을 이용하여 제조된 포화 흡수체를 포함하는, 광섬유 기반의 펄스 레이저 장치
20 20
제1항 또는 제10항에 기재된 포화 흡수체 제조 방법을 이용하여 제조된 포화 흡수체를 포함하는, 광도파로 기반의 펄스 레이저 장치
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2 WO2016122056 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국과학기술원 대과학연구개발사업 - 우주핵심기술개발사업 - 우주기초연구 칩- 스케일, 초저잡음 레이저 발진기와 이를 이용한 초정밀, 장거리 자유공간 동기화에 관한 기초연구(2차년)