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임플란트 모재가 되는 베이스층;상기 베이스층의 적어도 일면에 형성된 산화막층; 및상기 산화막층의 적어도 일면에 증착된 고분자 나노층;을 포함하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료
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제1항에 있어서,상기 임플란트 모재가 되는 베이스층은 티타늄, 산화티타늄 및 티타늄 합금으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료
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제1항에 있어서,상기 고분자 나노층은 개시화학기상증착법(Initiated Chemical Vapor Deposition: iCVD)에 의해 증착된 것임을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료
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제1항에 있어서,상기 고분자 나노층은 폴리글리시딜 메타크릴레이트(Polyglycidyl methacrylate: pGMA)층인 것을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료
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제1항에 있어서,상기 고분자 나노층의 두께는 50 ~ 500nm인 것을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료
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제1항에 있어서,상기 고분자 나노층은 양각부와 음각부를 포함하는 소정의 형상으로 패터닝된 것임을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료
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고분자 나노층이 형성된 생체재료의 제조방법에 있어서,ⅰ) 임플란트 모재를 양극산화(Anodizing)하여 산화막층을 형성하는 단계;및ⅱ) 상기 산화막층의 적어도 일면에 고분자 나노층을 증착하는 단계;를 포함하며,상기 고분자 나노층은 고분자 단량체(Monomer)를 개시화학기상증착법(Initiated Chemical Vapor Deposition: iCVD)으로 증착시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 ⅰ) 단계 수행시,상기 산화막층은 양극산화에 의해 상기 임플란트 모재 표면에 산화막이 피복되어 요철이 형성되는 것을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 ⅱ) 단계 수행시,상기 개시화학기상증착법(iCVD)으로 증착되는 고분자 나노층을 중합하기 위한 고분자 단량체(Monomer)는 글리시딜 메타크릴레이트(Glycidyl methacrylate: GMA)인 것을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 ⅱ) 단계 수행시,상기 개시화학기상증착법(iCVD)을 실시하기 위한 개시제(Initiator)는 tert-부틸 퍼옥사이드(tert-Butyl Peroxide: TBPO)인 것을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 ⅱ) 단계 수행시,상기 개시화학기상증착법(iCVD)으로 증착되는 고분자 나노층의 두께는 50 ~ 500nm인 것을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 ⅱ) 단계 수행시,상기 고분자 나노층은 양각부와 음각부를 포함하는 소정의 형상으로 패터닝되어 증착되는 것을 특징으로 하는 고분자 나노층이 형성된 생체재료의 제조방법
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