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스퍼터링 챔버 내부의 전극면에 접착되는 불소계고분자 복합 타겟으로서, 상기 불소계고분자 복합 타겟은 불소계고분자와 전도성입자, 전도성고분자, 금속성분 및 금속화합물에서 선택되는 하나 이상의 기능화제를 포함하는 혼합물을 성형하여 제조되는 RF 스퍼터링용 불소계고분자 복합 타겟
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제1항에 있어서, 상기 금속화합물은 금속유기물, 금속산화물, 금속탄소체, 금속수산화물, 금속카보네이트, 금속바이카보네이트, 금속질화물 및 금속불화물에서 선택되는 하나이상인 RF 스퍼터링용 불소계고분자 복합 타겟
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제1항에 있어서, 상기 금속성분은 Cu, Al, Ag, Au, W, Mg, Ni, Mo, V, Nb, Ti, Pt, Cr 및 Ta 에서 선택되는 하나 이상이며, 상기 금속화합물은 SiO2, Al2O3, ITO, IGZO, ZnO, In2O3, SnO2, TiO2, AZO, ATO, SrTiO3, CeO2, MgO, NiO, CaO, ZrO2, Y2O3, Al2O3, MgF2, CuF2, Si3N4, CuN 및 AlN에서 선택되는 하나 이상인 RF 스퍼터링용 불소계고분자 복합 타겟
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제1항에 있어서,상기 불소계고분자 복합 타겟은 불소계고분자 100 중량부에 대하여 상기 기능화제 0
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제1항에 있어서,상기 불소계고분자 복합 타겟은 두께 방향으로 상기 기능화제의 함량 구배를 가지도록 제조되는 것인 RF 스퍼터링용 불소계고분자 복합 타겟
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제5항에 있어서,상기 구배(gradient)는 전극면을 향하여 기능화제의 함량이 높고, 피착체의 방향으로는 기능화제의 함량이 감소되도록 전극면상에 접착되는 것이거나 또는 그 반대로 접착된 것인 RF 스퍼터링용 불소계고분자 복합 타겟
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제 6항에 있어서,상기 불소계고분자 복합 타겟의 구배는 2 단 이상의 복합 타겟이 적층된 형태로 열성형되어 제조되거나 연속적인 함량의 구배를 가지는 것인 RF 스퍼터링용 불소계고분자 복합 타겟
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제1항에 있어서,상기 전도성입자는 카본나노튜브, 카본나노섬유, 카본블랙, 그래핀(Graphene), 그라파이트 및 탄소섬유에서 선택되는 하나 이상인 RF 스퍼터링용 불소계고분자 복합 타겟
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스퍼터링 챔버 내부의 전극면에 접착되는 불소계고분자 복합 타겟으로서, 상기 불소계고분자 복합 타겟은 불소계고분자 100 중량부에 대하여 0
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제9항에 있어서, 상기 기능화제는 전도성입자, 전도성고분자, 금속성분 및 금속화합물에서 선택되는 어느 하나 이상의 성분을 포함하는 것인 RF 스퍼터링용 불소계고분자 복합 타겟
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제10항에 있어서, 상기 금속성분은 Cu, Al, Ag, Au, W, Mg, Ni, Mo, V, Nb, Ti, Pt, Cr 및 Ta 에서 선택되는 하나 이상이고, 상기 금속화합물은 SiO2, Al2O3, ITO, IGZO, ZnO, In2O3, SnO2, TiO2, AZO, ATO, SrTiO3, CeO2, MgO, NiO, CaO, ZrO2, Y2O3, Al2O3, MgF2, CuF2, Si3N4, CuN 및 AlN에서 선택되는 어느 하나 이상이며, 상기 전도성입자는 카본나노튜브, 카본나노섬유
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스퍼터링 챔버, 상기 챔버 내부에 형성되는 제 1전극 인가부, 상기 제 1전극인가부 상부면에 위치하는 상기 청구항 제1항 내지 제11항에서 선택되는 어느 한 항의 RF 스퍼터링용 불소계고분자 복합 타겟, 제 2전극 인가부, 상기 불소계고분자 복합 타겟과 제 2전극 인가부 상이에 위치하는 피착체를 포함하는 RF 스퍼터링 증착시스템
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제1항 내지 제11항에서 선택되는 어느 한 항의 RF 스퍼터링용 불소계고분자 복합 타겟에 의해 제조되는 성형체
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