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평판형 저온 플라즈마 장치 및 이를 포함하는 유해가스처리장치(Low-temperature plasma device and purification device including the same)

  • 기술번호 : KST2016014663
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고가의 재료 없이도 정화효과가 뛰어난 평판형 플라즈마 장치 및 이를 포함하는 유해가스처리장치를 위하여, 두 개의 전극과, 상기 전극 사이에 구비되어 상기 두 개의 전극 사이에 기체가 유동하는 통로를 형성하는 스페이서와, 상기 스페이서와 상기 두 개의 전극 중 어느 하나 사이에 구비되며 소다라임계 유리를 포함하는 유리층을 포함하는 평판형 저온 플라즈마 장치를 제공한다.
Int. CL B01D 53/32 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
CPC H05H 1/24(2013.01) H05H 1/24(2013.01)
출원번호/일자 1020150014278 (2015.01.29)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0093778 (2016.08.09) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.01.29)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김홍집 대한민국 대전광역시 유성구
2 김용구 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 추혁 대한민국 경기도 화성시 동탄대로 ***-** 효성아이씨티타워 ****호(지엠국제특허)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2015-0099749-86
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116889-90
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116888-44
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.10.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.12.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0075717-27
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0048414-04
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.03.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0262231-63
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.03.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0262258-95
9 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2016.07.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0493511-40
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.09.07 무효 (Invalidation) 1-1-2016-0871437-89
11 보정요구서
Request for Amendment
2016.09.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0138868-98
12 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation
2016.11.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0159734-15
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2017.03.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0179652-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
두 개의 전극;상기 전극 사이에 구비되어 상기 두 개의 전극 사이에 기체가 유동하는 통로를 형성하는 스페이서; 및상기 스페이서와 상기 두 개의 전극 중 어느 하나 사이에 구비되며, 소다라임계 유리를 포함하는 유리층;을 포함하는, 평판형 저온 플라즈마 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 두 개의 전극의 간격은 4mm~6mm 인 , 평판형 저온 플라즈마 장치
3 3
제1항에 있어서,상기 전극은 오스테나이트계 스테인리스강을 포함하는, 평판형 저온 플라즈마 장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 스페이서는 베이클라이트를 포함하는, 평판형 저온 플라즈마 장치
5 5
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 평판형 저온 플라즈마 장치를 포함하는, 유해가스처리장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.