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기판 상에 탄소나노튜브 층을 형성하는 단계(단계 1); 및상기 탄소나노튜브 층에, 파장이 100 nm 내지 3000 nm, FWHM가 1 fs 내지 1 ms 및 펄스 에너지가 1 mJ/㎠ 내지 10 J/㎠인 레이저를 조사하여 상기 탄소나노튜브의 구조를 변형시키는 단계(단계 2)를 포함하는, 탄소나노튜브 간에 공유 결합이 형성된 탄소나노튜브의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 탄소나노튜브는 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브 또는 다중벽 탄소나노튜브인 것을 특징으로 하는, 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 레이저의 파장이 200 nm 내지 1200 nm인 것을 특징으로 하는, 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 레이저의 FWHM가 1 fs 내지 1 ps인 것을 특징으로 하는, 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 레이저의 펄스 에너지가 10 mJ/㎠ 내지 200 mJ/㎠인 것을 특징으로 하는, 제조 방법
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 탄소나노튜브 간에 공유 결합이 형성된 탄소나노튜브는, 탄소나노튜브 간에 탄소 사슬로 연결된 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는,제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 탄소나노튜브 간에 공유 결합이 형성된 탄소나노튜브는, 단일벽 탄소나노튜브 또는 이중벽 탄소나노튜브 또는 다중벽 탄소나노튜브의 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는, 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 이중벽 탄소나노튜브 또는 다중벽 탄소나노튜브 내의 탄소나노튜브 간에 탄소 사슬로 연결된 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는,제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브 또는 다중벽 탄소나노튜브 사이의 서로 다른 탄소나노튜브 간에 탄소 사슬로 연결된 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는,제조 방법
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