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집속이온빔 적용 재전사가 가능한 나노 패턴 쉐도우 마스크 제조 방법 및 나노 패턴 쉐도우 마스크를 재사용하는 패턴 전사 방법(MANUFACTURING METHOD FOR NANO-PATTERNED SHADOW MASK AND USING METHOD OF THE MASK)

  • 기술번호 : KST2016014906
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 재사용이 가능하고 공정 방식에 따른 사용 제한이 없는 나노 쉐도우 마스크를 제조하는 방법에 관한 것으로, 기판 표면에 희생층을 형성하는 단계; 상기 희생층 위에 폴리머 막을 형성하는 단계; 상기 폴리머 막에 집속이온빔으로 나노 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 희생층을 제거하는 방법으로 상기 나노 패턴이 형성된 폴리머 막을 상기 기판에서 분리하여 나노 쉐도우 마스크를 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명은, 집속이온빔을 이용하여 나노 패턴을 형성한 쉐도우 마스크를 전사하여 사용함으로써, 패턴의 크기 및 형상의 제어가 편리한 집속이온빔 장치로 마스크를 제조하여 증착 공정의 종류에 무관하게 적용이 가능한 쉐도우 마스크를 제조할 수 있는 효과가 있다. 또한, 쉐도우 마스크의 손상 없이 전사함으로써 재전사가 가능하기 때문에서, 반복적인 증착 공정에 하나의 쉐도우 마스크를 재전사하여 사용할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL H01L 21/033 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01)
CPC H01L 21/0332(2013.01) H01L 21/0332(2013.01) H01L 21/0332(2013.01)
출원번호/일자 1020150013472 (2015.01.28)
출원인 한국산업기술대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1689153-0000 (2016.12.19)
공개번호/일자 10-2016-0092730 (2016.08.05) 문서열기
공고번호/일자 (20161223) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.01.28)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국산업기술대학교산학협력단 대한민국 경기도 시흥시 산기대학로

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이성의 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 차지민 대한민국 경기도 김포시
3 문성철 대한민국 경기도 부천시 원미구
4 김현석 대한민국 경기도 시흥시 복지로***번
5 윤영우 대한민국 충청북도 청주시 서원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다울 대한민국 서울 강남구 봉은사로 ***, ***호(역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국산업기술대학교 산학협력단 경기도 시흥시 산기대학로
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2015-0093840-04
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.07.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.08.07 수리 (Accepted) 9-1-2015-0052281-39
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.01.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0028003-84
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.03.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0242536-14
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.03.14 수리 (Accepted) 1-1-2016-0242513-75
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.07.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0518318-65
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.09.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0895495-78
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.09.13 수리 (Accepted) 1-1-2016-0895502-11
10 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2016.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0698949-20
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2016-1138175-07
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.11.22 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2016-1138167-31
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.11.23 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-1143933-16
14 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2016.11.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0168868-35
15 [반려요청]서류반려요청(반환신청)서
[Request for Return] Request for Return of Document		 2016.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-1161430-85
16 서류반려통지서
Notice for Return of Document		 2016.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0171353-16
17 등록결정서
Decision to grant		 2016.12.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0899389-76
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
디바이스 표면에 전사하여 나노구조 형성에 사용하는 쉐도우 마스크를 제조하는 방법으로서,기판 표면에 희생층을 형성하는 단계;상기 희생층 위에 폴리머 막을 형성하는 단계;상기 폴리머 막에 집속이온빔으로 나노 패턴을 형성하는 단계; 및상기 희생층을 제거하는 방법으로 상기 나노 패턴이 형성된 폴리머 막을 상기 기판에서 분리하여 나노 쉐도우 마스크를 제조하는 단계를 포함하며,상기 희생층이 수용성 재질이고, 상기 나노 쉐도우 마스크를 제조하는 단계에서 상기 희생층을 물에 녹여서 분리하는 것을 특징으로 하는 재전사가 가능한 나노 패턴 쉐도우 마스크 제조 방법
3 3
디바이스 표면에 전사하여 나노구조 형성에 사용하는 쉐도우 마스크를 제조하는 방법으로서,기판 표면에 희생층을 형성하는 단계;상기 희생층 위에 폴리머 막을 형성하는 단계;상기 폴리머 막에 집속이온빔으로 나노 패턴을 형성하는 단계; 상기 나노 패턴이 형성된 폴리머 막의 표면에 상기 폴리머 막의 변형을 방지하기 위한 보호층을 형성하는 단계; 및상기 보호층이 부착된 상태에서 상기 희생층을 제거하는 방법으로 상기 나노 패턴이 형성된 폴리머 막을 상기 기판에서 분리하여 나노 쉐도우 마스크를 제조하는 단계를 포함하며,상기 보호층은 상기 나노 쉐도우 마스크를 디바이스 표면에 전사한 뒤에 제거되는 것을 특징으로 하는 재전사가 가능한 나노 패턴 쉐도우 마스크 제조 방법
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청구항 3에 있어서,상기 보호층이 포지형 포토레지스트 재질인 것을 특징으로 하는 재전사가 가능한 나노 패턴 쉐도우 마스크 제조 방법
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청구항 4의 방법으로 보호층이 부착된 쉐도우 마스크를 제조하는 단계;보호층이 위쪽을 향하도록 쉐도우 마스크를 디바이스 표면에 부착하는 단계; 상기 보호층에 노광처리한 뒤에 보호층을 제거하는 단계; 및상기 보호층이 제거된 쉐도우 마스크를 사용하여 디바이스 표면에 나노 구조을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크를 재사용하는 패턴 전사 방법
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청구항 5에 있어서,상기 나노 패턴을 증착하는 단계가 포토 리소그래피 또는 스퍼터링 공정으로 수행되는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크를 재사용하는 패턴 전사 방법
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청구항 5에 있어서,상기 나노 패턴을 증착하는 단계 이후에,상기 쉐도우 마스크를 디바이스 표면에서 분리하는 단계;상기 분리된 쉐도우 마스크를 두 번째 디바이스의 표면에 부착하는 단계; 상기 쉐도우 마스크를 사용하여 상기 두 번째 디바이스 표면에 나노 패턴을 증착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 쉐도우 마스크를 재사용하는 패턴 전사 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국산업기술대학교 산학협력단 기업연계형 연구개발 인력양성사업 융합정보기기소재부품 분야 연구개발 인력양성사업