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미세패턴 제조장치에서 초점심도를 조절하기 위한 초점심도 조절장치에 있어서, 레이저빔이 입사되어 일부를 반사시켜 제1레이저빔을 출사시키고, 나머지는 투과시켜 제2레이저빔을 출사시키는 편광빔스플리터로 구성된 빔스플리터;상기 빔스플리터에서 출사된 제1레이저빔을 반사시켜 상기 빔스플리터로 다시 입사시키는 평면미러;상기 빔스플리터에서 출사된 제2레이저빔을 반사시켜 제1특정폭보다 작은 제2특정폭을 갖는 제2레이저빔을 상기 빔스플리터로 다시 입사시키고, 곡률의 변경이 가능한 변형미러유닛; 상기 제1특정폭을 갖는 제1레이저빔과 상기 제2특정폭을 갖는 제2레이저빔이 입사되는 검광기;상기 레이저발생부와 상기 편광빔스플리터 사이에 구비되어 상기 레이저발생부에서 발생된 레이저빔이 투과되어 편광방향이 서로 수직인 S파 및 P파로 편광시키는 편광판; 및상기 편광빔스플리터와 상기 평면미러 사이 및 상기 편광빔스플리터와 상기 변경미러유닛 사이 각각에 구비되어 입사되는 광을 45°만큼 편광시키는 쿼터파장판을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 노광법 기판 미세패턴 제조장치에 구비되는 초점심도 조절장치
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제 1항에 있어서, 상기 변형미러 유닛은, 플렉시블한 변형미러와, 베이스와 및 상기 변형미러와 상기 베이스 사이에 구비되어 상기 변형미러의 곡률을 변화시키는 다수의 액추에이터를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 노광법 기판 미세패턴 제조장치에 구비되는 초점심도 조절장치
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제 2항에 있어서, 상기 액추에이터는, 구동기와, 상기 구동기와 상기 변형미러 사이에 구비되는 플랙셔를 포함하고, 상기 플랙셔는 상기 변형미러가 평면방향과 수직된 방향으로 힘이 전달되도록 변형되는 것을 특징으로 하는 레이저 노광법 기판 미세패턴 제조장치에 구비되는 초점심도 조절장치
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제 3항에 있어서, 다수의 상기 액추에이터 각각에 구비된 구동기 각각을 제어하여, 설정된 곡률로 상기 변형미러를 변형시키도록 조절하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 노광법 기판 미세패턴 제조장치에 구비되는 초점심도 조절장치
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제 4항에 있어서, 상기 플랙셔는, 상부플랜지와, 중단플랜지와, 하부플랜지와, 상기 상부플랜지와 상기 중단플랜지 사이에 형성된 제1웹부와, 상기 중단플랜지와 상기 하부플랜지 사이에 구비되며 상기 제1웹부와 수직방향인 제2웹부를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 노광법 기판 미세패턴 제조장치에 구비되는 초점심도 조절장치
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미세패턴 제조장치에 있어서, 제1특정폭을 갖는 레이저빔을 발생시키는 레이저 발생부;발생된 상기 레이저빔이 입사되어 일부를 반사시켜 제1레이저빔을 출사시키고, 나머지는 투과시켜 제2레이저빔을 출사시키는 편광빔스플리터로 구성된 빔스플리터와, 상기 빔스플리터에서 출사된 제1레이저빔을 반사시켜 상기 빔스플리터로 다시 입사시키는 평면미러와, 상기 빔스플리터에서 출사된 제2레이저빔을 반사시켜 제1특정폭보다 작은 제2특정폭을 갖는 제2레이저빔을 상기 빔스플리터로 다시 입사시키고 곡률이 변경되는 변형미러유닛과, 상기 제1특정폭을 갖는 제1레이저빔과 상기 제2특정폭을 갖는 제2레이저빔이 입사되는 검광기와, 상기 레이저발생부와 상기 편광빔스플리터 사이에 구비되어 상기 레이저발생부에서 발생된 레이저빔이 투과되어 편광방향이 서로 수직인 S파 및 P파로 편광시키는 편광판과, 상기 편광빔스플리터와 상기 평면미러 사이 및 상기 편광빔스플리터와 상기 구면미러 사이 각각에 구비되어 입사되는 광을 45°만큼 편광시키는 쿼터파장판을 갖는 초점심도 조절부; 및상기 검광기를 투과한 상기 제1레이저빔과 상기 제2레이저빔을 투과시켜 기판에 코팅된 감광막에 상기 제1레이저빔과 상기 제2레이저빔이 간섭된 간섭레이저빔을 주사시키는 노광렌즈를 포함하고, 기판에 코팅된 상기 감광막은 2 이상이 적층된 다중층으로 구성되고, 상기 노광렌즈의 초점부근에서 상기 제1레이저빔과 상기 제2레이저빔이 높이방향의 간섭무늬방향을 갖도록 간섭되는 것을 특징으로 하는 초점심도 조절이 가능한 레이저 노광법 기반 미세패턴 제조장치
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제 6항에 있어서, 내부에 상기 초점심도조절부 및 상기 노광렌즈가 설치되는 노광헤드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초점심도 조절이 가능한 레이저 노광법 기반 미세패턴 제조장치
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제 6항에 있어서, 상기 변형미러 유닛은, 플렉시블한 변형미러와, 베이스와 및 상기 변형미러와 상기 베이스 사이에 구비되어 상기 변형미러의 곡률을 변화시키는 다수의 액추에이터를 포함하고,상기 액추에이터는, 구동기와, 상기 구동기와 상기 변형미러 사이에 구비되는 플랙셔를 포함하고, 상기 플랙셔는 상기 변형미러가 평면방향과 수직된 방향으로 힘이 전달되도록 변형되는 것을 특징으로 하는 초점심도 조절이 가능한 레이저 노광법 기반 미세패턴 제조장치
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제 8항에 있어서, 다수의 상기 액추에이터 각각에 구비된 구동기 각각을 제어하여, 설정된 곡률로 상기 변형미러를 변형시키도록 조절하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초점심도 조절이 가능한 레이저 노광법 기반 미세패턴 제조장치
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미세패턴을 제조하기 위한 시스템에 있어서, 제 6항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 따른 초점심도 조절이 가능한 레이저 노광법 기반 미세패턴 제조장치; 상기 미세패턴 제조장치의 일구성인 노광헤드를 평면방향의 일축인 X축 방향으로 이동시키는 X 스테이지; 기판이 설치되는 기판 설치부; 평면방향이고 상기 X축과 수직인 Y축 방향으로 상기 기판설치부를 이동시키는 Y스테이지; 및변형미러 유닛에 구비되는 다수의 액추에이터 각각에 구비된 구동기 각각을 제어하여, 설정된 곡률로 상기 변형미러를 변형시키도록 조절하고, 상기 X 스테이지, Y스테이지 중 적어도 어느 하나를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 초점심도 조절이 가능한 레이저 노광법 기반 미세패턴 제조 시스템
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제 10항에 있어서, 상기 기판 설치부를 수직축인 Z 축 중심으로 회전시키는 회전스테이지를 더 포함하고, 상기 제어부는 상기 회전스테이지를 제어하는 것을 특징으로 하는 초점심도 조절이 가능한 레이저 노광법 기반 미세패턴 제조 시스템
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제 11항에 있어서, 상기 노광렌즈와 감광막 사이의 간격을 조절하여 상기 노광렌즈의 초점을 조절하는 초점조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초점심도 조절이 가능한 레이저 노광법 기반 미세패턴 제조 시스템
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회절소자에 있어서, 제 10항의 미세패턴 제조시스템에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 회절소자
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회절소자에 있어서, 제 10항의 미세패턴 제조시스템에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 삼각패턴 형태의 회절소자
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제 14항에 있어서, 상기 회절소자의 기판과 감광막은 특정곡률을 갖는 형태이고, 상기 기판은 투명기판으로 구성되는 것을 특징으로 하는 삼각패턴 형태의 회절소자
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