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위조 방지 패턴이 형성된 대상물에서 상기 위조 방지 패턴이 방향성을 갖는 복수의 미세 패턴부를 포함하고, 각각의 미세 패턴부는 동일한 방향으로 연장된 복수의 미세 요철을 구비할 때, 대상물로부터 위조 방지 패턴을 감지하는 장치에 있어서,레이저 빔을 방출하는 레이저 발진부,상기 레이저 빔이 지나가는 경로에 위치하는 빔 스플리터,상기 빔 스플리터를 통과한 레이저 빔이 상기 위조 방지 패턴에 반사되면서 회절된 인식 패턴을 촬영하는 촬영기,상기 촬영된 인식 패턴을 이미지로 변환하여 광 스팟 정렬각도를 산출하는 이미지 변환부, 상기 이미지 변환부와 연결되며, 미리 설정된 가공 회전 정밀도를 기준으로 상기 산출된 광 스팟 정렬각도가 오차 범위 내에 속하는지 판단하는 오차 확인부, 및 상기 오차 확인부와 연결되며, 미리 설정된 식별 기호 대응 기준에 따라 상기 산출된 광 스팟 정렬각도에 대응되는 식별기호를 산출하는 식별기호 산출부를 포함하는 감지기를 포함하고,상기 위조 방지 패턴에 반사되면서 회절된 인식 패턴은 상기 빔 스플리터에 반사된 후 렌즈를 통해서 상기 촬영기로 전달되는 위조 방지 패턴 감지 장치
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제1항에서,상기 위조 방지 패턴은 상기 빔 스플리터를 통과한 레이저 빔이 상기 위조 방지 패턴에 대해서 수직하게 입사되도록 배치하는 위조 방지 패턴 감지 장치
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제1항에서,상기 레이저 발진부는 상기 미세 패턴부와 각각 대응하는 레이저 빔을 발생시키는 복수의 빔 발진기를 포함하는 위조 방지 패턴 감지 장치
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제1항에서,상기 대상물을 지지하면서 이동 가능하도록 구성된 스테이지를 더 포함하는 위조 방지 패턴 감지 장치
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삭제
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제1항에서,상기 이미지 변환부는, 상기 위조 방지 패턴에 포함된 기준 패턴부를 감지하여 상기 광 스팟 정렬 각도의 측정 기준선을 제공하는 위조 방지 패턴 감지 장치
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제1항에서,상기 레이저 발진부는 상기 미세 패턴부와 각각 대응하는 복수의 레이저 발진기를 포함하는 위조 방지 패턴 감지 장치
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위조 방지 패턴이 형성된 대상물에서 상기 위조 방지 패턴이 방향성을 갖는 복수의 미세 패턴부를 포함하고, 각각의 미세 패턴부는 동일한 방향으로 연장된 복수의 미세 요철을 구비할 때, 대상물로부터 위조 방지 패턴을 감지하는 장치에 있어서,레이저 빔을 방출하는 레이저 발진부,상기 레이저 빔이 지나가는 경로에 위치하는 빔 스플리터,상기 빔 스플리터를 통과한 레이저 빔이 상기 위조 방지 패턴에 반사되면서 회절된 인식 패턴을 촬영하는 촬영기,상기 촬영된 인식 패턴을 분석하여 식별 기호를 감지하는 감지기, 그리고상기 레이저 발진부와 상기 빔 스플리터 사이에 위치하는 빔 분할부를 포함하고,상기 위조 방지 패턴에 반사되면서 회절된 인식 패턴은 상기 빔 스플리터에 반사된 후 렌즈를 통해서 상기 촬영기로 전달되고,상기 빔 분할부는 상기 미세 패턴부와 각각 대응하도록 상기 레이저 빔을 분할하는 위조 방지 패턴 감지 장치
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제8항에서,상기 빔 분할부는 상기 레이저 발진부로부터 상기 레이저 빔이 출사되는 경로 상에 위치하며, 일직선 상에 위치하는 적어도 하나 이상의 빔 분배 유닛과 하나의 반사 미러를 포함하는 위조 방지 패턴 감지 장치
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제9항에서,상기 레이저 빔은 상기 빔 분배 유닛을 통과하는 제1 레이저 빔과 상기 빔 분배 유닛에 반사되는 제2 레이저 빔으로 분할되고,상기 제1 레이저 빔은 상기 반사 미러 방향으로 진행하고, 상기 제2 레이저 빔은 상기 빔 스플리터 방향으로 진행하는 위조 방지 패턴 감지 장치
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제10항에서,상기 제1 레이저 빔은 상기 반사 미러에 반사 된 후, 상기 빔 스플리터 방향으로 진행하는 위조 방지 패턴 감지 장치
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제11항에서,상기 빔 스플리터와 상기 빔 분배 유닛 사이, 상기 빔 스플리터와 상기 빔 분배 유닛 사이에 각각 위치하는 셔터를 더 포함하는 위조 방지 패턴 감지 장치
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제12항에서,상기 미세 패턴부 중 어느 하나는 상기 반사 미러에서 반사된 레이저 빔이 입사되고,상기 미세 패턴부 중 나머지는 상기 빔 스플리터에서 반사된 레이저 빔이 각각 입사되는 위조 방지 패턴 감지 장치
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제12항에서,상기 셔터 중 어느 하나가 열린 상태일 때, 나머지 셔터는 닫힌 상태인 위조 방지 패턴 감지 장치
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