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다공질 유전체를 포함하는 플라즈마 발생원(PLASMA SOURCE COMPRISING POROUS DIELDCTRIC)

  • 기술번호 : KST2016015142
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유전체 장벽 플라즈마(DBD : Dielectric Barrier Discharge)의 두 전극 사이의 플라즈마 발생 영역 내에 액체가 담지된 다공질 유전체를 함유함으로서 오존 및 질소산화물의 발생이 억제되고 히드록시 라디칼 생성이 촉진되는 플라즈마 발생원에 관한 것이다.
Int. CL H05H 1/24 (2006.01) H05H 1/34 (2006.01)
CPC H05H 1/34(2013.01)
출원번호/일자 1020150017875 (2015.02.05)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0096353 (2016.08.16) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.01.16)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 석동찬 대한민국 전라북도 군산시
2 정용호 대한민국 서울특별시 광진구
3 최용섭 대한민국 전라북도 군산시
4 노태협 대한민국 서울특별시 구로구
5 이강일 대한민국 전라북도 군산시
6 정현영 대한민국 전라북도 군산시 서당길 **, ***-**** (

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0124101-09
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2017-0049348-44
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.06.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0391167-46
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.08.08 수리 (Accepted) 1-1-2018-0782093-80
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.08.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0782094-25
6 등록결정서
Decision to grant
2018.12.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0844190-90
7 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2019.03.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-5006540-71
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
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번호 청구항
1 1
플레이트 형 제1 전극; 상기 제1 전극과 이격되어 마주하며 위치하는 플레이트 형 제2 전극;상기 두 전극 사이에 다공질 유전체; 및상기 두 전극에 교류 전압을 인가하는 전압인가수단을 포함하고,상기 다공질 유전체는 물이 담지되어 있으며, 상기 전압인가수단에 의해 두 전극에 전압이 인가되어 두 전극 사이에 플라즈마가 발생되고,상기 다공질 유전체는 상기 플라즈마 발생 영역에 위치하며,공기가 상기 플라즈마 발생 영역으로 주입되어 배출되며, 상기 다공질 유전체가 없는 경우에 비해 오존 및 질소산화물이 억제되고 음이온 발생을 증가시키는,공기 청정용 플라즈마 음이온 발생기
2 2
제1항에 있어서,상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 중 하나 이상의 일면에 위치하는 유전층을 포함하는,공기 청정용 플라즈마 음이온 발생기
3 3
제1항에 있어서,물을 담고 있는 액체공급부를 포함하며,상기 다공질 유전체의 일 말단은 상기 액체공급부에 함침되어 있고, 상기 다공질 유전체에 물을 공급하는,공기 청정용 플라즈마 음이온 발생기
4 4
제2항에 있어서,상기 다공질 유전체는 이의 장축이 마주하는 두 전극의 장축과 수직하게 배치되며,상기 다공질 유전체의 일 단은 상기 유전층 면에 접하는,공기 청정용 플라즈마 음이온 발생기
5 5
제2항에 있어서,상기 다공질 유전체는 이의 장축이 마주하는 두 전극과 수직하게 배치되며,상기 다공질 유전체의 일 단은 상기 유전층 면에 이격되어 있는,공기 청정용 플라즈마 음이온 발생기
6 6
유전층, 상기 유전층의 일면에 놓인 플레이트 형 제1 전극;상기 유전층의 타면에 놓인 제2 전극; 및, 상기 두 전극에 교류 전압을 인가하는 전압인가수단을 포함하고,상기 제2 전극은 바형상으로 서로 이격되어 병렬로 배열되어 있거나, 점형상으로 서로 이격되어 매트릭스로 배열되어 있으며,다공질 유전체가 상기 제2 전극들 사이에 위치하고,상기 전압인가수단에 의해 두 전극에 전압이 인가되어 두 전극 사이에 플라즈마가 발생되고,상기 다공질 유전체는 상기 플라즈마 발생 영역에 위치하고,공기가 상기 플라즈마 발생 영역으로 주입되어 배출되며, 상기 다공질 유전체가 없는 경우에 비해 오존 및 질소산화물이 억제되고 음이온 발생을 증가시키는,공기 청정용 플라즈마 음이온 발생기
7 7
제6항에 있어서,물을 담고 있는 액체공급부를 포함하며,상기 다공질 유전체의 일 말단은 상기 액체공급부에 함침되어 있고, 상기 다공질 유전체에 물을 공급하는다공질 유전체를 포함하는, 공기 청정용 플라즈마 음이온 발생기
8 8
플레이트형 제1 전극층;상기 제1 전극층의 일면측에서 상기 제1 전극층과 이격되어 평행하게 위치하는 제2 전극층;상기 제1 전극층의 타면측에서 상기 제1 전극층과 이격되어 평행하게 위치하는 제3 전극층;상기 제1 전극층과 상기 제2 전극층 사이 공간 및 상기 제1 전극층과 상기 제3 전극층 사이 공간에 위치하는 다공질 유전체; 및상기 제1 전극층과 상기 제2 전극층에 그리고 상기 제3 전극층과 상기 제2 전극층에 교류 전압을 인가하는 전압인가수단을 포함하고,상기 전압인가수단에 의해 제1 전극층과 제2 전극층에 그리고 제3 전극층과 제2 전극층에 전압이 인가되어 전극 사이에 플라즈마가 발생되며,상기 다공질 유전체는 상기 플라즈마 발생 영역에 위치하고,공기가 상기 플라즈마 발생 영역으로 주입되어 배출되며, 상기 다공질 유전체가 없는 경우에 비해 오존 및 질소산화물이 억제되고 음이온 발생을 증가시키는,공기 청정용 플라즈마 음이온 발생기
9 9
원통형 제1 전극층;상기 제1 전극층의 내면과 이격하고, 제1 전극층의 내부 중심에 위치하는 바형 제2 전극;상기 제1 전극층과 상기 제2전극의 이격 공간에 위치하는 원통형 다공질 유전체; 및상기 두 전극에 교류 전압을 인가하는 전압인가수단을 포함하고,상기 전압인가수단에 의해 제 1 전극층과 제2 전극에 전압이 인가되어 전극 사이에 플라즈마가 발생되고, 상기 다공질 유전체는 상기 플라즈마 발생 영역에 위치하고,공기가 상기 플라즈마 발생 영역으로 주입되어 배출되며, 상기 다공질 유전체가 없는 경우에 비해 오존 및 질소산화물이 억제되고 음이온 발생을 증가시키는,공기 청정용 플라즈마 음이온 발생기
10 10
제8항 또는 제9항에 있어서,물을 담고 있는 액체공급부를 포함하며,상기 다공질 유전체의 일 말단은 상기 액체공급부에 함침되어 있고, 상기 다공질 유전체에 물을 공급하는,공기 청정용 플라즈마 음이온 발생기
11 11
삭제
12 12
삭제
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN107211520 CN 중국 FAMILY
2 EP03255960 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP06581661 JP 일본 FAMILY
4 JP30504757 JP 일본 FAMILY
5 WO2016126140 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN107211520 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN107211520 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 EP3255960 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
4 EP3255960 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
5 JP2018504757 JP 일본 DOCDBFAMILY
6 JP6581661 JP 일본 DOCDBFAMILY
7 WO2016126140 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 국가핵융합연구소 플라즈마기술연구사업 플라즈마융합원천연구사업