| 1 |
1
하기의 화학식 1로 표시되는 화합물 또는 이의 이성질체인, 시안화물 검출용 화합물:[화학식 1]여기서, R1은, 각각, 수소; 직쇄 또는 분지쇄, 단환식 또는 다환식 C1-C14알킬; 또는 직쇄 또는 분지쇄 C2-C14알케닐; 이고, n은 0 또는 1 내지 3의 정수이며, R3 및 R4는, 각각, 수소; 직쇄 또는 분지쇄 C1-C14알킬; 또는 직쇄 또는 분지쇄 C2-C14알케닐; 이고, q-는 R2-SO2-O-로 표시되는 술폰산 이온이며, R2는, 수소 중 적어도 하나가 F, Br, I, 또는 Cl로 치환 또는 비치환되고, 직쇄 또는 분지쇄 C1-C14알킬; 직쇄 또는 분지쇄 C2-C14알케닐; 또는 C6-C10아릴; 이다
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 R1은, 각각, 수소; 또는 직쇄 C1-C4알킬; 이고, n은 0, 1 또는 2이며, 상기 R2는, 수소 중 적어도 하나가 F로 치환 또는 비치환되고, 직쇄 C1-C4알킬; 이고, 상기 R3 및 R4는, 각각, 수소; 또는 직쇄 C1-C4알킬; 인 것인, 시안화물 검출용 화합물
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 화학식 1의 화합물은, 화학식 1a로 표시되는 이성질체로 전환되는 것인, 시안화물 검출용 화합물: [화학식 1] [화학식 1a](여기서, R1, R3, R4, n 및 q-는 제1항에 정의된 바와 같다
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 시안화물 검출용 화합물은, 하기의 화합물 (i) 내지 (vi)로 표시되는 화합물 또는 이의 이성질체인 것인, 시안화물 검출용 화합물:[화학식 i][화학식 ii][화학식 iii][화학식 iv][화학식 v][화학식 vi](여기서, q-는 CF3-SO2-O-이다
|
| 5 |
5
n-부틸알콜 및 하기의 화학식 2로 표시되는 화합물을 혼합하는 단계;상기 혼합하는 단계 이후에, 술폰산염(R2-SO3H)을 첨가하여 하기의 화학식 3으로 표시되는 피릴륨 화합물을 합성하는 단계; 및 상기 피릴륨 화합물, 산 무수물, 및 하기의 화학식 4로 표시되는 아마이드 화합물을 반응시켜 제1항의 화합물을 합성하는 단계;를 포함하는, 시안화물 검출용 화합물의 제조방법:[화학식 2][화학식 3][화학식 4] 여기서, R은, F, Cl, Br 또는 I이고, R1은, 각각, 수소; 직쇄 또는 분지쇄, 단환식 또는 다환식 C1-C14알킬; 또는 직쇄 또는 분지쇄 C2-C14알케닐; 이고, n은 0 또는 1 내지 3의 정수이며, R3 및 R4는, 각각, 수소; 직쇄 또는 분지쇄 C1-C14알킬; 또는 직쇄 또는 분지쇄 C2-C14알케닐; 이고q-는, R2-SO2-O-로 표시되는 술폰산 이온이며, R2는, 수소 중 적어도 하나가 F, Br, I, 또는 Cl로 치환 또는 비치환되고, 직쇄 또는 분지쇄 C1-C14알킬; 직쇄 또는 분지쇄 C2-C14알케닐; 또는 C6-C10아릴; 이다
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 R은, Cl이고,상기 R1은, 각각, 수소; 또는 직쇄 C1-C4알킬; 이고, n은 0 또는 1 내지 2이며, 상기 R2는, 수소 중 적어도 하나가 F로 치환 또는 비치환되고, 직쇄 C1-C4알킬; 이고, 상기 R3 및 R4는, 각각, 수소; 또는 직쇄 C1-C4알킬; 인 것인, 제조방법
|
| 7 |
7
제5항에 있어서,상기 피릴륨 화합물을 합성하는 단계 및 상기 제1항의 화합물을 합성하는 단계는, 80 ℃ 내지 120 ℃온도에서 환류하는 것인, 제조방법
|
| 8 |
8
제5항에 있어서,상기 산 무수물은, 아세트산 무수물(acetic anhydride), 헵탄산 무수물(heptanoic anhydride), 벤조산 무수물(Benzoic anhydride), 아세트산 벤조산 무수물(acetic benzoic anhydride) 및 비스(클로로아세트산) 무수물(bis(chloroacetic) anhydride) 중 1종 이상인 것인, 제조방법
|
| 9 |
9
제1항의 시안화물 검출용 화합물; 및 용매를 포함하는, 시안화물 검출용 조성물
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,상기 용매는, 물, 디클로로메탄, 클로로포름, 아세토나이트릴, 디메틸포름아미드, 디메틸설폭사이드 및 에탄올 중 1종 이상인 것인, 조성물
|
| 11 |
11
제9항에 있어서,상기 검출용 화합물은, 1 X 10-5M(몰) 내지 1 X 10-2M(몰)의 농도로 포함하는 것인, 조성물
|
| 12 |
12
제1항의 시안화물 검출용 화합물, 또는 제9항의 시안화물 검출용 조성물에 분석 시료를 접촉시키는 단계; 및 상기 접촉시키는 단계 이후에, 상기 화합물 또는 조성물의 광학적 변화를 확인하는 단계;를 포함하는, 시안화물의 검출 방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 확인하는 단계는, 상기 화합물 또는 조성물의, 색변화, 흡광도 변화 및 형광 강도 변화 중 적어도 어느 하나를 통하여 확인하는 것인, 검출 방법
|
| 14 |
14
시안화물이 포함된 분석시료에 접촉된 제1항의 시안화물 검출용 화합물, 또는 제9항의 시안화물 검출용 조성물에 염산을 가하여 시안화물을 분리하는 단계를 포함하는, 시안화물 검출용 화합물의 재생 방법
|
| 15 |
15
제1항의 시안화물 검출용 화합물, 또는 제9항의 시안화물 검출용 조성물을 포함하는, 시안화물 검출용 화학센서
|
| 16 |
16
제1항의 시안화물 검출용 화합물, 또는 제9항의 시안화물 검출용 조성물을 포함하는, 시안화물 검출용 키트
|
| 17 |
17
제16항에 있어서,상기 키트는, 흡광도, 형광 강도 측정기 또는 이 둘을 더 포함하는 것인, 키트
|
| 18 |
18
제1항의 시안화물 검출용 화합물, 또는 제9항의 시안화물 검출용 조성물을 포함하는,방진복, 보호복, 방역복, 방제복, 장갑, 마스크, 또는 방독면인 것인, 제품
|
| 19 |
19
제16항의 시안화물 검출용 키트를 포함하는,방진복, 보호복, 방역복, 방제복, 장갑, 마스크, 또는 방독면인 것인, 제품
|
| 20 |
20
삭제
|
