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분말의 플라즈마 처리를 위한 장치로서,절연층, 상기 절연층의 일면에 놓이는 판형 제2 전극; 상기 절연층의 타면에 놓이고 한 개 이상의 바형상으로 서로 이격 되어 병렬로 배열되거나 격자 배열된 제1 전극을 포함하는 판형 면방전 소스; 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 전압차를 인가하는 전압인가수단; 및상기 제1 전극을 상기 제2 전극 상에서 이동시키는 이동수단을 포함하고,상기 이동수단과 연결된 상기 제1 전극은 상기 절연층으로부터 일정 거리 이격된 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 장치는 챔버를 더 포함하고,상기 판형 면방전 소스는 상기 챔버 내에 수용되고,상기 이동수단은 상기 챔버의 내부 또는 외부에 위치하여 상기 판형 면방전 소스를 운동시키도록 연결된 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리 장치
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제3항에 있어서,상기 챔버는,상기 챔버 내로 상기 분말을 공급하는 하나 이상의 분말 공급부; 및상기 챔버 내에서 상기 분말이 배출되도록 하는 하나 이상의 분말 배출부를 포함하고,상기 판형 면방전 소스는 상기 분말 공급부의 아래에 위치하는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리 장치
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제3항에 있어서,상기 챔버는 상기 판형 면방전 소스의 아래로 냉각유체를 공급하는 냉각 유체 주입구를 포함하는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리 장치
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제1항, 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 이동수단은 서로 이격 된 바형상 전극 전체 또는 격자형상 전극 전체를 일 방향으로 왕복 이동시키거나 회전시키도록 구성된 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리 장치
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제1항, 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 절연층은 상기 제2 전극을 에워싸고,상기 절연층으로 에워싸인 전극은 판형상인 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리 장치
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