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대상 시료가 놓여지는 시편과,상기 대상 시료를 측정하기 위한 서로 다른 해상도를 가지는 복수의 AFM(Atomic Force Microscope) 탐침을 구비하는 탐침부와, 상기 시편 또는 상기 탐침부에 연결되어, 상기 시편 또는 상기 복수의 AFM 탐침을 이동시키는 모터부와,상기 복수의 AFM 탐침 중 어느 하나의 AFM 탐침으로부터 측정된 영상의 화질이 기설정된 해상도 이하로 저하되는 경우 해당 AFM 탐침에 대한 크리닝을 수행하는 탐침 크리닝용 시편을 포함하며,상기 크리닝용 시편은, 상기 시편과 소정 거리 내에 위치하여, 상기 모터부에 의해 상기 복수의 탐침이 도달하고, 상기 탐침부는, 상기 대상 시료에 대한 제1 측정을 수행하여 상기 시편상 상기 대상 시료의 위치와 형태를 측정하는 제1 AFM 탐침과, 상기 제1 AFM 탐침과 기설정된 제1 거리로 이격되고, 상기 대상 시료에 대한 제2 측정을 수행하여 상기 대상 시료의 3차원 형상을 측정하는 제2 AFM 탐침을 포함하고, 상기 제1 AFM 탐침을 이용하여 상기 시편을 스캔하여 상기 대상 시료를 선정하고, 상기 대상 시료를 요청된 방향으로 회전시키거나 상기 대상 시료를 지지하고 있는 바인딩 분자층을 조절하면서 상기 대상 시료를 다시 스캔하여 상기 대상 시료의 위치와 형태를 측정하는복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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대상 시료가 놓여지는 시편과,상기 대상 시료를 측정하기 위한 서로 다른 해상도를 가지는 복수의 AFM(Atomic Force Microscope) 탐침을 구비하는 탐침부와, 상기 시편 또는 상기 탐침부에 연결되어, 상기 시편 또는 상기 복수의 AFM 탐침을 이동시키는 모터부와,상기 복수의 AFM 탐침 중 어느 하나의 AFM 탐침으로부터 측정된 영상의 화질이 기설정된 해상도 이하로 저하되는 경우 해당 AFM 탐침에 대한 크리닝을 수행하는 탐침 크리닝용 시편을 포함하며,상기 크리닝용 시편은, 상기 시편과 소정 거리 내에 위치하여, 상기 모터부에 의해 상기 복수의 탐침이 도달하고,상기 탐침부는, 상기 대상 시료에 대한 제1 측정을 수행하여 상기 시편상 상기 대상 시료의 위치와 형태를 측정하는 제1 AFM 탐침과, 상기 제1 AFM 탐침과 기설정된 제1 거리로 이격되고, 상기 대상 시료에 대한 제2 측정을 수행하여 상기 대상 시료의 3차원 형상을 측정하는 제2 AFM 탐침을 포함하고, 상기 제1 AFM 탐침을 통해 상기 대상 시료에 대한 위치와 형태를 확인한 경우, 상기 대상 시료의 위치로 상기 제2 AFM 탐침을 이동시키고, 상기 제2 AFM 탐침을 이용하여 상기 대상 시료에 대해 스캔하여 상기 대상 시료에 대한 3차원 형상을 측정하는 복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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제 1 항에 있어서,상기 탐침부는,상기 바인딩 분자층의 조절 시 레이저 조사장치를 통해 상기 바인딩 분자층을 이루고 있는 바인딩 분자의 진동 주파수 또는 전자 여기 에너지에 해당하는 특정 파장의 레이저를 조사하여 상기 바인딩 분자층을 분자층 단위로 선택적으로 제거시키는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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제 4 항에 있어서,상기 레이저 조사장치는,상기 제1 AFM 탐침의 외부에 위치하거나 또는 near-field scanning optical microscope 형태로 제작되어 상기 제1 AFM 탐침의 내부에 위치되는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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제 2 항에 있어서,상기 탐침부는,상기 대상 시료의 위치로 상기 제2 AFM 탐침을 이동시킴에 있어서, 광학현미경을 이용하여 상기 제1 AFM 탐침과 상기 대상 시료간 제1 위치관계 영상을 촬영한 후, 제2 AFM 탐침을 상기 대상 시료로 이동시키면서 상기 제2 AFM 탐침과 상기 대상 시료간 제2 위치관계 영상을 촬영하여 상기 제2 위치관계 영상이 상기 제1 위치관계 영상과 일치하는 위치로 상기 제2 AFM 탐침을 이동시키는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 탐침부는,상기 제1 AFM 탐침을 상하로 이동시키는 제1 모터와,상기 제2 AFM 탐침을 상하로 이동시키는 제2 모터를 더 포함하며, 상기 제1 측정 또는 제2 측정 수행 시 상기 제1 모터 또는 제2 모터를 통해 상기 제1 AFM 탐침 또는 제2 AFM 탐침을 상기 시편의 상부에서 상기 대상 시료의 측정에 필요한 기설정된 높이로 이동시키는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 탐침부는,상기 제1 AFM 탐침과 제2 AFM 탐침 각각에 연결되어 상기 제1 AFM 탐침과 상기 제2 AFM 탐침을 통해 측정된 상기 대상 시료에 대한 스캔 영상을 생성하는 스캐너를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 스캔 장치는,상기 대상 시료에 대한 실제 측정전에 상기 제1 AFM 탐침과 제2 AFM 탐침간 상대 위치에 대한 캘리브레이션을 수행하는 캘리브레이션부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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제 11 항에 있어서,상기 캘리브레이션부는,상기 캘리브레이션의 수행에 있어서, 상기 제1 AFM 탐침으로 상기 대상 시료의 특정 위치를 측정하여 기준이 되는 제1 영상을 정한 후, 상기 제1 거리를 이용하여 상기 제2 AFM 탐침을 상기 제1 영상이 촬영된 위치로 이동시켜 제2 영상을 촬영하도록 한 후, 상기 제2 영상이 제1 영상과 동일한 영상이 되도록 상기 제1 거리에 대한 캘리브레이션을 수행하는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 제1 AFM 탐침을 크리닝하기 위한 제1 시료가 놓여지는 제1 시편과,상기 제2 AFM 탐침을 크리닝하기 위한 제2 시료가 놓여지는 제2 시편을 포함하며, 상기 제1 시편과 제2 시편은 상기 대상 시료가 놓여지는 시편을 중심으로 좌우에 배치되는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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제 13 항에 있어서,상기 제1 AFM 탐침 및 제2 AFM 탐침은,상기 제1 AFM 탐침 또는 제2 AFM 탐침으로부터 측정된 영상의 화질이 기설정된 해상도 이하로 저하되는 경우 상기 제1 시편 또는 제2 시편으로 각각 이동되어 상기 제1 시료 또는 제2 시료를 통한 크리닝 과정이 수행되는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 가지는 나노 구조체 스캔장치
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시편의 상부에 측정이 필요한 대상 시료를 위치시키는 단계와,서로 다른 해상도를 가지는 복수의 AFM 탐침 중 제1 AFM 탐침을 이용하여 상기 시편상 상기 대상 시료의 위치와 형태를 측정하는 제1 측정 단계와,상기 복수의 AFM 탐침 중 제2 AFM 탐침을 이용하여 상기 대상 시료의 3차원 형상을 측정하는 제2 측정 단계와,상기 제1 AFM 탐침 또는 제2 AFM 탐침으로부터 측정된 영상의 화질이 기설정된 해상도 이하로 저하되는 경우 해당 AFM 탐침에 대한 크리닝을 수행하는 단계를 포함하고,상기 제1 측정 단계는,상기 제1 AFM 탐침을 이용하여 상기 시편을 스캔하여 상기 대상 시료를 선정하는 단계와, 상기 대상 시료를 요청된 방향으로 회전시키거나 상기 대상 시료를 지지하고 있는 바인딩 분자층을 조절하는 단계와상기 대상 시료를 스캔하여 상기 대상 시료의 위치와 형태를 측정하는 단계를 포함하는 복수의 AFM 탐침을 이용한 스캔 방법
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제 15 항에 있어서,상기 분자층을 조절하는 단계는,상기 바인딩 분자층을 이루고 있는 바인딩 분자의 진동 주파수 또는 전자 여기 에너지에 해당하는 특정 파장의 레이저를 조사하여 상기 바인딩 분자층을 분자층 단위로 선택적으로 제거시키는 단계인 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 이용한 스캔 방법
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제 17 항에 있어서,상기 레이저는,상기 제1 AFM 탐침의 외부에 위치되거나 또는 near-field scanning optical microscope 형태로 제작되어 상기 제1 AFM 탐침의 내부에 위치된 레이저 조사장치로부터 조사되는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 이용한 스캔 방법
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제 15 항에 있어서,상기 제2 측정 단계는,상기 제2 AFM 탐침을 이용하여 상기 대상 시료에 대해 스캔하여 상기 대상 시료에 대한 3차원 형상을 측정하는 단계인 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 이용한 스캔 방법
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제 15 항에 있어서,상기 제1 측정 단계를 수행하기 전에, 상기 제1 AFM 탐침과 제2 AFM 탐침간 상대 위치에 대한 캘리브레이션을 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 이용한 스캔 방법
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제 20 항에 있어서,상기 캘리브레이션을 수행하는 단계는,상기 제1 AFM 탐침으로 상기 대상 시료의 특정 위치를 측정하여 기준이 되는 제1 영상을 정하는 단계와,상기 제1 AFM 탐침과 제2 AFM 탐침간 기설정된 이격 거리를 이용하여 상기 제2 AFM 탐침을 상기 제1 영상이 촬영된 위치로 이동시키는 단계와,상기 이동시키는 위치에서 상기 제2 AFM 탐침으로 제2 영상을 촬영하는 단계와,상기 제2 영상이 제1 영상과 동일한 영상이 되도록 상기 이격 거리에 대한 캘리브레이션을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 이용한 스캔 방법
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제 15 항에 있어서,상기 크리닝을 수행하는 단계는,상기 제1 AFM 탐침을 크리닝하기 위한 제1 시료가 놓여진 제1 시편으로 이동시켜 크리닝하는 단계와,상기 제2 AFM 탐침을 크리닝하기 위한 제2 시료가 놓여진 제2 시편으로 이동시켜 크리닝하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 이용한 스캔 방법
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제 23 항에 있어서,상기 제1 시편과 제2 시편은 상기 대상 시료가 놓여지는 시편을 중심으로 좌우에 상기 제1 AFM 탐침과 제2 AFM 탐침이 수평 모터를 통해 이동되어 접근이 가능한 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 복수의 AFM 탐침을 이용한 스캔 방법
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