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챔버;실리콘 용탕을 수용하도록 상기 챔버의 내부에 설치되는 도가니;상기 실리콘 용탕을 가열할 수 있도록 상기 도가니를 가열하는 히터;상기 실리콘 용탕으로부터 성장되는 실리콘 잉곳을 인상할 수 있도록 상기 챔버에 설치되는 인상 장치;상기 도가니의 일측에 실리콘을 주입할 수 있도록 상기 챔버에 설치되는 제 1 실리콘 공급기; 및상기 도가니의 타측에 실리콘을 주입할 수 있도록 상기 챔버에 설치되는 제 2 실리콘 공급기;를 포함하고,상기 제 1 실리콘 공급기는,상기 도가니의 중심에서 제 1 방향으로 제 1 거리만큼 떨어진 위치에 실리콘을 공급하는 제 1 노즐을 포함하고,상기 제 2 실리콘 공급기는,상기 도가니의 중심에서 제 2 방향으로 상기 제 1 거리만큼 떨어진 위치에 상기 실리콘을 공급하는 제 2 노즐을 포함하고,상기 제 1 방향과 상기 제 2 방향은 대칭되도록 서로 180도 각도를 이루는 것이고,상기 도가니는,실리콘을 상기 제 1 실리콘 공급기 및 제 2 실리콘 공급기로부터 공급받을 수 있도록 상기 도가니의 내부의 외측에 형성된 실리콘 수용부;공급받은 상기 실리콘을 잉곳으로 성장시키도록 상기 도가니의 내부의 내측에 형성된 잉곳 성장부; 상기 도가니 내부의 외측과 내측을 구분하도록 상기 도가니 내부에 형성되는 차단벽부; 및상기 실리콘 용탕이 상기 실리콘 수용부에서 상기 잉곳 성장부로 이동 가능하도록 상기 차단벽부에 복수개로 형성되는 실리콘 이동통로;를 포함하고,상기 실리콘 이동통로는 방사형으로 형성되고 등각 배치되는 것인, 실리콘 잉곳 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 실리콘 공급기는,실리콘을 공급하도록 상기 챔버의 외부에서 내부로 연결된 제 1 주입관; 및상기 실리콘을 상기 도가니에 공급하도록 상기 제 1 주입관의 선단에 형성되는 제 1 노즐;을 포함하는, 실리콘 잉곳 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 도가니의 다른 타측에 실리콘을 주입할 수 있도록 상기 챔버에 설치되는 제 3 실리콘 공급기; 및상기 도가니의 또 다른 타측에 실리콘을 주입할 수 있도록 상기 챔버에 설치되는 제 4 실리콘 공급기;를 더 포함하는, 실리콘 잉곳 제조 장치
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 실리콘 공급기는,상기 도가니의 중심에서 제 1 방향으로 제 1 거리만큼 떨어진 위치에 실리콘을 공급하는 제 1 노즐을 포함하고,상기 제 2 실리콘 공급기는,상기 도가니의 중심에서 제 2 방향으로 상기 제 1 거리만큼 떨어진 위치에 상기 실리콘을 공급하는 제 2 노즐을 포함하고,상기 제 3 실리콘 공급기는,상기 도가니의 중심에서 제 3 방향으로 상기 제 1 거리만큼 떨어진 위치에 상기 실리콘을 공급하는 제 3 노즐을 포함하고,상기 제 4 실리콘 공급기는,상기 도가니의 중심에서 제 4 방향으로 상기 제 1 거리만큼 떨어진 위치에 상기 실리콘을 공급하며,상기 제 1 방향과 상기 제 2 방향과 상기 제 3 방향 및 상기 제 4 방향은 등각 대칭되도록 서로 90도 각도를 이루는 것인, 실리콘 잉곳 제조 장치
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제 1 항에 있어서,상기 실리콘 잉곳을 냉각할 수 있도록 상기 실리콘 잉곳의 주변에 설치되는 냉각 장치;상기 실리콘 용탕으로부터 방사되는 열을 차단하도록 상기 실리콘 잉곳 주변을 둘러싸고 상기 실리콘 잉곳과 상기 도가니 사이에 설치되는 실드;상기 실리콘 용탕과 상기 실리콘 잉곳의 경계면인 고액계면을 확인할 수 있도록 상기 챔버의 일측에 설치되는 센서; 및상기 도가니를 회전시키도록 상기 도가니의 하부에 설치되는 회전 장치;를 더 포함하는, 실리콘 잉곳 제조 장치
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