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고분자 바인더, 탄소동소체 및 유기용매를 포함하는 하드 마스크 조성물
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제1항에 있어서,상기 고분자 바인더는폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리비닐알코올, 폴리비닐부티랄, 폴리아세탈, 폴리아릴레이트, 폴리아마이드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌에테르, 폴리페닐렌설파이드, 폴리에테르설폰, 폴리에테르케톤, 폴리프탈아마이드, 폴리에테르니트릴, 폴리에테르설폰, 폴리벤즈이미다졸, 폴리카보디이미드, 폴리실록산, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리메타크릴아마이드, 니트릴고무, 아크릴 고무, 폴리에틸렌테트라플루오라이드, 에폭시 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 우레아 수지, 폴리부텐, 폴리펜텐, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-부텐-디엔 공중합체, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 에틸렌-프로필렌-디엔 공중합체, 부틸고무, 폴리메틸펜텐, 폴리스티렌, 스티렌-부타디엔 공중합체, 수첨스티렌-부타디엔 공중합체, 수첨폴리이소프렌 및 수첨폴리부타디엔으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인,하드 마스크 조성물
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제1항에 있어서,상기 고분자 바인더는 결정성 부분을 포함하는 결정성 고분자인,하드 마스크 조성물
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제1항에 있어서,상기 탄소 동소체는그래핀, 그래핀 옥사이드, 카본블랙, 탄소나노튜브 및 풀러렌 중 어느 하나인, 하드 마스크 조성물
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제1항에 있어서,상기 탄소 동소체는유기 용매에 가용성을 가지는 작용기에 의해 그래프팅된(grafting) 탄소 동소체임을 특징으로 하는,하드 마스크 조성물
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제5항에 있어서,상기 작용기는 알킬기, 페닐기, 치환기로서 알킬기를 포함하는 페닐기 또는 아로마틱 고리기를 포함하는,하드 마스크 조성물
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제1항에 있어서,상기 탄소 동소체는 일 방향으로의 길이가 500 nm 이하인 것을 특징으로 하는,하드 마스크 조성물
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제1항에 있어서,상기 유기 용매에 상기 탄소 동소체가 용이하게 분산되도록 하는 계면 활성제를 더 포함하는,하드 마스크 조성물
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고분자 바인더가 유기 용매에 용해되고 상기 유기 용매 내에 탄소동소체가 분산된 용액을 준비하고,상기 용액의 용매를 증발시킴을 포함하는하드 마스크 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 용액은 탄소동소체가 유기용매에 용이하게 분산되도록 하는 계면활성제를 더 포함하는,하드 마크스 제조 방법
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하드 마스크는 결정성 부분을 포함하는 결정성 고분자 또는 탄소동소체를 포함하는 하드 마스크
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제11항에 있어서,상기 탄소 동소체는 그래핀, 그래핀 옥사이드, 카본블랙, 탄소나노튜브 또는 풀러렌 중 어느 하나인,하드 마스크
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제11항에 있어서,상기 탄소 동소체는 이의 장축에 따라 일 방향으로 배향되어 있음을 특징으로 하는,하드 마스크
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제11항에 있어서,상기 하드 마스크는, 플로린 계열의 플라즈마에 내식성을 가짐을 특징으로 하는,하드 마스크
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제11항에 있어서,200 nm 내지 400 nm의 균일한 두께를 갖는 하드 마스크
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제15항에 있어서,상기 탄소 동소체의 일 방향으로의 길이가 500 nm 이하인 것을 특징으로 하는 하드 마스크
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