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영상을 입력받는 영상 모듈(module);상기 영상 모듈이 입력받은 영상을 복수 개의 영역으로 구별하여 지역 정상점을 검출하는 지역 정상점 검출 모듈;상기 영상 모듈이 입력받은 영상의 전역 정상점을 검출하는 전역 정상점 검출 모듈;상기 지역 정상점 검출 모듈이 처리한 영상과 상기 전역 정상점 검출 모듈이 처리한 영상을 앤드(AND) 연산 처리하는 합성 모듈;을 포함하는 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 영상은 유방을 촬영한 X선 영상인 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제2항에 있어서,상기 합성 모듈이 처리한 영상 내에서 미소 석회 침착 예상점을 검출하는 미소 석회 침착 검출 모듈;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제3항에 있어서,상기 미소 석회 침착 검출 모듈은상기 합성 모듈이 처리한 영상 내에서 후보 점들을 추출하고,이러한 후보 점들을 가우시안(gaussian) 혼합 모델(model)로 피팅(fitting)하여 미소 석회 침착 예상점을 검출하는 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제3항에 있어서,미소 석회 침착의 형태들을 저장하고 있는 형태 저장 모듈;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제5항에 있어서,상기 미소 석회 침착 검출 모듈이 검출한 미소 석회 침착 예상점을 상기 형태 저장 모듈에 저장되어 있는 형태들과 비교하여 미소 석회 침착인지 여부를 판정하는 미소 석회 침착 판단 모듈;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 지역 정상점 검출 모듈은상기 영상 모듈이 입력받은 영상을 복수개의 서브 영역들로 구별하는 영상 분할 서브 모듈;상기 영상 분할 서브 모듈이 구별한 각각의 서브 영역들의 잡음을 제거하는 잡음 제거 서브 모듈;상기 잡음 제거 서브 모듈을 통하여 잡음이 제거된 각각의 서브 영역들의 화소들 중 기설정된 일정 밝기 값 이하의 화소들을 제거하는 제1 스레숄딩(thresholding) 서브 모듈;상기 스레숄딩 서브 모듈이 처리한 각각의 서브 영역들의 밝기를 표준화하는 밝기 값 표준화 서브 모듈;상기 밝기 값 표준화 서브 모듈이 처리한 각각의 서브 영역들의 화소들 중 기설정된 일정 밝기 값 이하의 화소들을 제거하는 제2 스레숄딩 서브 모듈;상기 제2 스레숄딩 서브 모듈을 통한 각각의 서브 영역들에서 기설정된 일정 밝기 값 이상의 화소들을 유효점들로 판단하고, 상기 유효점들과 주변의 화소들과 밝기 값 비교를 통하여 지역 정상점을 검출하는 밝기 값 비교 모듈;을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제7항에 있어서,상기 잡음 제거 서브 모듈은 메디안 필터(median filter)인 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제7항에 있어서,상기 밝기 값 비교 모듈은 상기 유효점들 주변의 8 화소와의 밝기 값 비교를 통하여 지역 정상점을 검출하는 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 전역 정상점 검출 모듈은상기 영상 모듈이 입력받은 영상을 탑햇 변환하는 탑햇(top hat) 변환 서브 모듈;상기 탑햇 변환 서브 모듈이 처리한 영상으로부터 잡음을 제거하는 잡음 처리 서브 모듈;상기 잡음 처리 서브 모듈이 처리한 영상을 스레숄딩 처리하는 이진화 서브 모듈;을 포함하는 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제10항에 있어서,상기 탑햇 변환은 상기 영상 모듈이 입력받은 영상을 개방 처리하여 개방 처리 영상을 만들고, 상기 영상 모듈이 입력받은 영상에서 상기 개방 처리 영상을 뺌으로서 변환되는 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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제10항에 있어서,상기 잡음 처리 서브 모듈은 4 레벨(level) 웨이블릿(wavelet) 분해를 통하여 잡음을 제거하는 것을 특징으로 하는 영상 처리 장치
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영상이 입력되는 단계;입력된 영상이 복수 개의 서브 영역들로 구분되는 단계;상기 서브 영역들의 잡음이 제거되는 단계;상기 서브 영역들의 화소들 중 기설정된 일정 밝기 값 이하의 화소들이 제거되는 단계;상기 서브 영역들의 밝기가 표준화되는 단계;상기 서브 영역들의 화소들 중 기설정된 일정 밝기 값 이하의 화소들이 제거되는 단계;상기 서브 영역들에서 기설정된 일정 밝기 값 이상의 화소들이 유효점으로 판단되는 단계;상기 유효점들과 주변의 화소들의 밝기 값 비교를 통하여 지역 정상점이 검출되는 단계;상기 지역 정상점이 검출된 영상이 저장되는 단계;가 포함되는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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영상이 입력되는 단계;입력된 영상이 탑햇 변환되는 단계;탑햇 변환된 영상의 잡음이 제거되는 단계;잡음이 제거된 영상이 스레숄딩 처리되어 이진화되는 단계;이진화된 영상이 저장되는 단계;가 포함되는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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영상이 입력되는 단계;입력받은 영상이 지역 정상점 처리 모듈과 전역 정상점 처리 모듈로 입력되는 단계;상기 지역 정상점 처리 모듈에서 지역 정상점을 검출한 영상이 출력되어 합성 모듈에 인가되는 단계;상기 전역 정상점 처리 모듈에서 전역 정상점을 검출한 영상이 출력되어 합성 모듈에 인가되는 단계;상기 합성 모듈을 통하여 지역 정상점을 검출한 영상과 전역 정상점을 검출한 영상을 앤드(AND) 연산한 영상이 생성되는 단계;가 포함되는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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제15항에 있어서,상기 합성 모듈을 통하여 지역 정상점을 검출한 영상과 전역 정상점을 검출한 영상을 앤드(AND) 연산한 영상이 생성되는 단계 이후에,미소 석회 침착 검출 모듈을 통하여 상기 앤드(AND) 영상을 처리한 영상에서 미소 석회 침착 예상점을 검출되는 단계;가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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제16항에 있어서,미소 석회 침착 검출 모듈을 통하여 상기 앤드(AND) 영상을 처리한 영상에서 미소 석회 침착 예상점을 검출되는 단계는 상기 합성 모듈이 앤드 연산한 영상 내에서 후보 점들을 추출되고,이러한 후보 점들을 가우시안 혼합 모델로 피팅됨으로써 미소 석회 침착 예상점이 검출되는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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제16항에 있어서,미소 석회 침착 검출 모듈을 통하여 상기 앤드(AND) 영상을 처리한 영상에서 미소 석회 침착 예상점을 검출되는 단계 이후에,상기 미소 석회 침착 예상점을 기저장되어있는 형태들과 비교하여 미소 석회인지 여부가 판정되는 단계;가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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제15항에 있어서,상기 지역 정상점 처리 모듈에서 지역 정상점을 검출한 영상이 출력되어 합성 모듈에 인가되는 단계는입력된 영상이 복수개의 서브 영역들로 구분되는 단계;상기 서브 영역들의 잡음이 제거되는 단계;상기 서브 영역들의 화소들 중 기설정된 일정 밝기 값 이하의 화소들이 제거되는 단계;상기 서브 영역들의 밝기가 표준화되는 단계;상기 서브 영역들의 화소들 중 기설정된 일정 밝기 값 이하의 화소들이 제거되는 단계;상기 유효점들과 주변의 화소들의 밝기 값 비교를 통하여 지역 정상점들이 검출되는 단계;상기 지역 정상점들이 검출된 영상이 상기 합성 모듈에 인가되는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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제19항에 있어서,상기 서브 영역들의 잡음이 제거되는 단계는 메디안 필터를 통하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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제19항에 있어서,상기 유효점들과 주변의 화소들의 밝기 값 비교를 통하여 지역 정상점이 검출되는 단계는상기 유효점들 주변의 8 화소와의 밝기 값 비교를 통하여 지역 정상점이 검출되는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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제15항에 있어서, 상기 전역 정상점 처리 모듈에서 전역 정상점을 검출한 영상이 출력되어 합성 모듈에 인가되는 단계는입력된 영상이 탑햇 변환되는 단계;탑햇 변환된 영상의 잡음이 제거되는 단계;잡음이 제거된 영상이 스레숄딩 처리되어 이진화되는 단계;이진화된 영상이 상기 합성 모듈에 인가되는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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제22항에 있어서,상기 탑햇 변환은 상기 영상 모듈이 입력받은 영상을 개방 처리하여 개방 처리 영상을 만들어지고, 입력된 영상에서 상기 개방 처리 영상을 뺌으로서 변환되는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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제22항에 있어서,탑햇 변환된 영상의 잡음이 제거되는 단계는4 레벨 웨이블릿 분해를 통하여 잡음이 제거되는 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,상기 영상은 유방을 촬영한 X선 영상인 것을 특징으로 하는 영상 처리 방법
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