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동시 스퍼터링을 이용하여 다성분계 박막을 제조하는 박막 증착 장치 및 방법(DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTI-COMPONENT THIN FILM USING CO-SPUTTERING)

  • 기술번호 : KST2016015643
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 박막 증착 장치는, 동시 스퍼터링을 이용하여 다성분계 박막을 형성하기 위한 적어도 하나의 스퍼터링 소스의 스퍼터링을 물리적으로 차단하는 셔터부; 상기 셔터부의 열림 동작 또는 닫힘 동작을 제어하는 제어부; 상기 제어부의 제어에 따라 상기 셔터부의 열림 동작 또는 닫힘 동작 시간을 설정하는 타이머부; 및 상기 셔터부를 열림 또는 닫힘으로 구동하는 액츄에이터부를 포함한다. 이에 따라, 박막에 미량 첨가되는 원소의 양을 매우 미세하게 조절할 수 있을 뿐만 아니라 박막 전체에 고르게 분포시킬 수 있다.
Int. CL C23C 14/54 (2006.01) C23C 14/35 (2006.01)
CPC C23C 14/352(2013.01) C23C 14/352(2013.01)
출원번호/일자 1020150023255 (2015.02.16)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0100611 (2016.08.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.02.16)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김영환 대한민국 서울특별시 성북구
2 김성일 대한민국 서울특별시 성북구
3 김용태 대한민국 서울특별시 성북구
4 김춘근 대한민국 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.02.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0161270-18
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.05.21 수리 (Accepted) 1-1-2015-0488310-71
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.11.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.01.08 수리 (Accepted) 9-1-2016-0001553-14
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.04.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0301640-29
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.06.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0611103-14
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2016-0611095-36
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0778166-42
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.11.21 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-1133297-07
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2016-1133298-42
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.12.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0906618-03
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
동시 스퍼터링을 이용하여 다성분계 박막을 형성하기 위한 적어도 하나의 스퍼터링 소스의 스퍼터링을 물리적으로 차단하는 셔터부;상기 셔터부의 열림 동작 또는 닫힘 동작을 제어하는 제어부;상기 제어부의 제어에 따라 상기 셔터부의 열림 동작 또는 닫힘 동작 시간을 설정하는 타이머부; 및상기 셔터부를 열림 또는 닫힘으로 구동하는 액츄에이터부를 포함하는, 박막 증착 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 셔터부의 열림 동작 또는 닫힘 동작의 시간을 주기적으로 조절하는, 박막 증착 장치
3 3
제1항에 있어서, 상기 타이머부는, 상기 동작 시간을 초 또는 밀리초 단위로 설정할 수 있는, 박막 증착 장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 스퍼터링 소스는, 상기 다성분계 박막을 구성하는 원소들 중 그 구성비가 다른 원소들에 비해 상대적으로 낮은 원소를 스퍼터링 하기 위한 소스인, 박막 증착 장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 스퍼터링 소스의 스퍼터링을 위해 전원을 제공하는 파워 서플라이부를 더 포함하는, 박막 증착 장치
6 6
제5항에 있어서, 상기 제어부는, 상기 파워 서플라이부를 주기적으로 온/오프(on/off)하는, 박막 증착 장치
7 7
다성분계 박막을 형성하기 위한 적어도 하나의 스퍼터링 소스의 스퍼터링 시간을 설정하는 단계;상기 스퍼터링 시간에 따라 상기 적어도 하나의 스퍼터링 소스에 대응하는 셔터부의 동작을 구동하는 단계; 및상기 셔터부의 닫힘 동작에 따라 상기 스퍼터링 소스의 스퍼터링을 물리적으로 차단하는 단계를 포함하는, 동시 스퍼터링을 이용하여 다성분계 박막을 제조하는 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 스퍼터링 소스의 스퍼터링을 물리적으로 차단하는 단계는,상기 다성분계 박막을 구성하는 주 원소의 스퍼터링과 동시에 수행되는, 동시 스퍼터링을 이용하여 다성분계 박막을 제조하는 방법
9 9
제7항에 있어서, 상기 적어도 하나의 스퍼터링 소스의 스퍼터링 시간을 설정하는 단계는,상기 셔터부의 열림 동작 또는 닫힘 동작의 시간을 주기적으로 조절하는, 동시 스퍼터링을 이용하여 다성분계 박막을 제조하는 방법
10 10
제9항에 있어서,상기 셔터부의 열림 동작 또는 닫힘 동작의 시간은 초 또는 밀리초 단위로 설정할 수 있는, 동시 스퍼터링을 이용하여 다성분계 박막을 제조하는 방법
11 11
제7항에 있어서, 상기 적어도 하나의 스퍼터링 소스는, 상기 다성분계 박막을 구성하는 원소들 중 그 구성비가 다른 원소들에 비해 상대적으로 낮은 원소를 스퍼터링 하기 위한 소스인, 동시 스퍼터링을 이용하여 다성분계 박막을 제조하는 방법
12 12
제7항에 있어서, 상기 적어도 하나의 스퍼터링 소스의 스퍼터링을 위해 전원을 제공하는 단계를 더 포함하는, 동시 스퍼터링을 이용하여 다성분계 박막을 제조하는 방법
13 13
제12항에 있어서, 상기 전원을 주기적으로 온/오프(on/off)하는 단계를 더 포함하는, 동시 스퍼터링을 이용하여 다성분계 박막을 제조하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국반도체연구조합 전자정보디바이이스원천기술개발사업 초미세 고신뢰성 배선기술(부제:Cu 배선을 위한 확산방지막 재료 및 원자층 증착 기술개발)
2 미래창조과학부 한국과학기술연구원 미래원천연구사업 에너지 변환효율 증대를 위한 나노포토닉스 기술개발