맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

투명 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법(TRANSPARENT GAS BARRIER FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT GAS BARRIER FILM)

  • 기술번호 : KST2016015956
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 투명 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법을 개시한다. 본 발명의 일 측면에 따른 투명 가스 배리어성 필름은, 베이스 기재; 및 상기 베이스 기재의 상부에 형성되는 무기막으로 이루어진 배리어층;을 포함하되, 상기 배리어층에는 상기 무기막과 다른 무기 물질로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자가 5 내지 20%의 비율로 존재한다.
Int. CL B32B 9/00 (2006.01) B32B 27/30 (2006.01)
CPC B32B 27/30(2013.01) B32B 27/30(2013.01) B32B 27/30(2013.01) B32B 27/30(2013.01)
출원번호/일자 1020150026638 (2015.02.25)
출원인 엘에스엠트론 주식회사, 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0103804 (2016.09.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 9

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘에스엠트론 주식회사 대한민국 경기도 안양시 동안구
2 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 방성환 대한민국 경기도 수원시 장안구
2 석재호 대한민국 서울특별시 서초구
3 박종환 대한민국 경기도 고양시 일산서구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인천문 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층 (역삼동, 신성빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2015-0188175-44
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2018.02.08 수리 (Accepted) 1-1-2018-0142095-37
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
베이스 기재; 및상기 베이스 기재의 상부에 형성되는 무기막으로 이루어진 배리어층;을 포함하되,상기 배리어층에는 상기 무기막과 다른 무기 물질로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자가 5 내지 20%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름
2 2
제 1 항에 있어서,상기 다른 무기 물질은 산화아연(ZnO)인 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 배리어층 및 결정성 나노 입자는 상기 베이스 기재 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용해 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름
4 4
제 3 항에 있어서,상기 배리어층은 SiOx, SiNx, SiOxNy, AlxOy, AlxNy, NiOx, CoOx, MgO 중 어느 하나 이상의 무기막으로 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름
5 5
투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법에 있어서,베이스 기재를 준비하는 단계; 및상기 베이스 기재의 상부에 무기막으로 이루어진 배리어층을 형성하는 단계;를 포함하되,상기 배리어층에는 상기 무기막과 다른 무기 물질로 이루어진 2 내지 10nm의 크기를 갖는 결정성 나노 입자가 5 내지 20%의 비율로 존재하는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 다른 무기 물질은 산화아연(ZnO)인 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법
7 7
제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,상기 배리어층 및 결정성 나노 입자는 상기 베이스 기재 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용해 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법
8 8
제 7 항에 있어서,상기 배리어층은 SiOx, SiNx, SiOxNy, AlxOy, AlxNy, NiOx, CoOx, MgO 중 어느 하나 이상의 무기막으로 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법
9 9
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 따른 투명 가스 배리어성 필름을 포함하는 플렉서블 디스플레이 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.