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투명 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법(TRANSPARENT GAS BARRIER FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT GAS BARRIER FILM)

  • 기술번호 : KST2016015957
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 투명 가스 배리어성 필름 및 이를 제조하는 방법을 개시한다. 본 발명의 일 측면에 따른 투명 가스 배리어성 필름은, 베이스 기재; 상기 베이스 기재의 상부에 위치하는 다수 개의 배리어층;을 포함하되, 상기 베이스 기재와 인접한 배리어층이 가장 높은 밀도로 형성되고, 상기 베이스 기재와 멀리 떨어질수록 낮은 밀도로 형성된다.
Int. CL B32B 27/00 (2006.01) B32B 9/00 (2006.01)
CPC B32B 27/00(2013.01) B32B 27/00(2013.01) B32B 27/00(2013.01) B32B 27/00(2013.01)
출원번호/일자 1020150026640 (2015.02.25)
출원인 엘에스엠트론 주식회사, 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0103806 (2016.09.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘에스엠트론 주식회사 대한민국 경기도 안양시 동안구
2 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 방성환 대한민국 경기도 수원시 장안구
2 박종환 대한민국 경기도 고양시 일산서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인천문 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, *층 (역삼동, 신성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2015-0188177-35
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2018.02.08 수리 (Accepted) 1-1-2018-0142095-37
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
베이스 기재;상기 베이스 기재의 상부에 위치하는 다수 개의 배리어층;을 포함하되,상기 베이스 기재와 인접한 배리어층이 가장 높은 밀도로 형성되고, 상기 베이스 기재와 멀리 떨어질수록 낮은 밀도로 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름
2 2
제 1 항에 있어서,상기 배리어층은 SiOx, SiNx, SiOxNy, AlxOy, AlxNy, NiOx, CoOx, MgO 중 어느 하나의 무기 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름
3 3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 배리어층은 상기 베이스 기재 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용해 다층으로 형성하는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름
4 4
제 3 항에 있어서,상기 배리어층은 지연 시간(delay time)을 두고 증착하는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름
5 5
다수 개의 배리어층을 포함하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법에 있어서,베이스 기재의 상부에 가장 높은 밀도의 제 1 배리어층을 형성하는 단계;상기 제 1 배리어층의 상부에 상기 제 1 배리어층보다 낮은 밀도의 제 2 배리어층 및 제 3 배리어층을 순차적으로 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 배리어층은 상기 베이스 기재 상에 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)을 이용해 다층으로 형성하는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 배리어층은 지연 시간(delay time)을 두고 증착하는 것을 특징으로 하는 투명 가스 배리어성 필름의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.