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중심 탄소 단일 고리를 포함하는 환형 유기 폴리올 화합물로서,상기 중심 탄소 단일 고리의 탄소수는 3 내지 10 이고,상기 중심 탄소 단일 고리는 1개 이상의 하이드록시기를 가지며,상기 중심 탄소 단일 고리의 상기 1개 이상의 하이드록시기의 수소 원자가 알콕시실릴알킬렌기에 의하여 치환된 것이며,상기 알콕시실릴알킬렌기는 1개 내지 3개의 알콕시를 가지고, 상기 알콕시의 탄소수는 1 내지 6이고,상기 알콕시실릴알킬렌기에서 상기 알킬렌의 탄소수는 1 내지 5인,환형 유기 폴리올 화합물
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제 1 항에 따른 환형 유기 폴리올 화합물을 포함하는, 반응형 기공형성제로서,상기 환형 유기 폴리올 화합물은 500℃ 이내의 온도 조건에서 완전 열분해되어 탄소 잔여물을 남기지 않는 것인,반응형 기공형성제
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매트릭스-함유 용액과 반응형 기공형성제 (reactive porogen)-함유 용액을 혼합한 혼합 조성물에 있어서,상기 매트릭스로서 유기실리케이트 전구체 10 ~ 90 부피%, 및상기 기공형성용 템플레이트로서 제 3 항에 따른 기공형성제 10 ~ 90 부피%를 포함하는, 박막 형성용 조성물
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제 5 항에 있어서, 상기 매트릭스는 알킬트리알콕시실란(alkyltrialkoxysilane)과 비스(트리알콕시실릴)알칸 [bis(trialkoxysilyl)alkane]의 단일중합체 또는 공중합체를 포함하는 것인, 박막 형성용 조성물
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제 5 항 또는 제 6 항에 따른 조성물을 기재에 코팅 후 열처리하는 공정에 의하여 형성된, 초저유전 박막
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제 7 항에 있어서, 상기 초저유전 박막은 상기 환형 유기 폴리올 화합물과 상기 유기실리케이트와의 졸-젤 반응에 의해 형성된 나노기공을 포함하고, 재를 포함하지 않는 것인, 초저유전 박막
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제 5 항 또는 제 6 항에 따른 조성물을 기재에 코팅 후 열처리하는 공정에 의하여 박막을 형성하는 것을 포함하는, 초저유전 박막의 제조 방법
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