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도전 라인 및 도전 플레이트를 포함하는 전송 라인(TRANSMISSION LINE INCLUDING CONDUCTIVE LINE AND CONDUCTIVE PLATE)

  • 기술번호 : KST2016016459
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전송 라인에 관한 것이다. 본 발명의 전송 라인은, 제1 부분에서 제1 폭을 갖고 제2 부분에서 제1 폭보다 작은 제2 폭을 갖는 제1 도전 라인, 제1 부분과 평행한 제3 부분에서 제1 폭을 갖고 제2 부분과 평행한 제4 부분에서 제2 폭을 갖는 제2 도전 라인, 그리고 제1 도전 라인의 제1 부분의 하부 및 제2 도전 라인의 제3 부분의 하부를 제외한 영역에 배치되며, 제1 및 제2 도전 라인들의 하부에서 제1 및 제2 도전 라인들과 평행하게 이격되어 배치되는 도전 플레이트로 구성된다.
Int. CL H01P 3/08 (2006.01.01)
CPC H01P 3/081(2013.01) H01P 3/081(2013.01)
출원번호/일자 1020150029815 (2015.03.03)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0107399 (2016.09.19) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.09.24)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 주지호 대한민국 대전시 유성구
2 김경옥 대한민국 대전시 유성구
3 곽명준 대한민국 경기 김포 운양 **
4 박재규 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.03.03 수리 (Accepted) 1-1-2015-0210649-46
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2019-0974291-51
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.05.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.07.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2020-0094741-37
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.08.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0564079-98
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2020-1018304-47
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.09.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-1018305-93
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1 부분에서 제1 폭을 갖고, 제2 부분에서 상기 제1 폭보다 작은 제2 폭을 갖는 제1 도전 라인;상기 제1 부분과 평행한 제3 부분에서 상기 제1 폭을 갖고, 상기 제2 부분과 평행한 제4 부분에서 상기 제2 폭을 갖는 제2 도전 라인; 그리고상기 제1 도전 라인의 상기 제1 부분의 하부 및 상기 제2 도전 라인의 상기 제3 부분의 하부를 제외한 영역에 배치되며, 상기 제1 및 제2 도전 라인들의 하부에서 상기 제1 및 제2 도전 라인들과 평행하게 이격되어 배치되는 도전 플레이트를 포함하는 전송 라인
2 2
제1 항에 있어서,상기 도전 플레이트는 상기 제1 부분 및 상기 제3 부분의 하부에 빈 공간(void)을 갖고, 상기 빈 공간의 폭은 상기 제1 부분 및 상기 제3 부분으로부터 상기 제2 부분 및 상기 제4 부분의 방향을 따라 감소하는 전송 라인
3 3
제1 항에 있어서,상기 제2 도전 라인과 대향하는 방향의 상기 제1 도전 라인의 측면에서 상기 제1 도전 라인과 평행하게 배치되며, 제1 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 제1 도전 패턴을 더 포함하는 전송 라인
4 4
제3 항에 있어서,상기 제1 도전 패턴은 상기 제1 부분과 평행한 제5 부분에서 제3 폭을 갖고, 상기 제2 부분과 평행한 제6 부분에서 상기 제3 폭보다 큰 제4 폭을 갖는 전송 라인
5 5
제3 항에 있어서,상기 제1 도전 라인과 대향하는 방향의 상기 제2 도전 라인의 측면에서 상기 제2 도전 라인과 평행하게 배치되며, 제2 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 제2 도전 패턴을 더 포함하는 전송 라인
6 6
제5 항에 있어서,상기 제2 도전 패턴은 상기 제3 부분과 평행한 제5 부분에서 제3 폭을 갖고, 상기 제4 부분과 평행한 제6 부분에서 상기 제3 폭보다 큰 제4 폭을 갖는 전송 라인
7 7
제1 항에 있어서,상기 제2 도전 라인과 대향하는 방향의 상기 제1 부분의 측면에서 상기 제1 부분과 평행하게 배치되며, 제1 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 제1 도전 패턴을 더 포함하는 전송 라인
8 8
제7 항에 있어서,상기 제1 도전 패턴의 폭은 상기 제2 부분에 가까워질 수록 증가하는 전송 라인
9 9
제7 항에 있어서,상기 제1 도전 라인과 대향하는 방향의 상기 제3 부분의 측면에서 상기 제3 부분과 평행하게 배치되며, 제2 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 제2 도전 패턴을 더 포함하는 전송 라인
10 10
제9 항에 있어서,상기 제2 도전 패턴의 폭은 상기 제4 부분에 가까워질 수록 증가하는 전송 라인
11 11
제1 항에 있어서,상기 제1 도전 라인은 제4 부분에서 상기 제2 폭보다 작은 제3 폭을 갖고,상기 제2 도전 라인은 제5 부분에서 상기 제2 폭보다 작은 상기 제3 폭을 갖는 전송 라인
12 12
제11 항에 있어서,상기 제2 도전 라인과 대향하는 방향의 상기 제4 부분의 측면에서 상기 제4 부분과 평행하게 배치되며, 제1 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 제1 도전 패턴을 더 포함하는 전송 라인
13 13
제12 항에 있어서,상기 제1 도전 라인과 대향하는 방향의 상기 제5 부분의 측면에서 상기 제5 부분과 평행하게 배치되며, 제2 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 제2 도전 패턴을 더 포함하는 전송 라인
14 14
제11 항에 있어서,상기 제4 부분과 상기 제5 부분의 사이에서 상기 제4 부분과 상기 제5 부분에 평행하게 배치되며, 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 도전 패턴을 더 포함하는 전송 라인
15 15
제1 부분에서 제1 폭을 갖고, 제2 부분에서 상기 제1 폭보다 작은 제2 폭을 갖고, 제3 부분에서 상기 제2 폭보다 작은 제3 폭을 갖는 도전 라인;상기 도전 라인의 상기 제1 부분의 하부를 제외한 영역에 배치되며, 상기 도전 라인의 하부에서 상기 도전 라인과 평행하게 이격되어 배치되는 도전 플레이트;상기 제3 부분의 일 측면에서 상기 제3 부분과 평행하게 배치되며, 제1 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 제1 도전 패턴; 그리고상기 제3 부분의 다른 측면에서 상기 제3 부분과 평행하게 배치되며, 제2 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 제2 도전 패턴을 포함하는 전송 라인
16 16
제15 항에 있어서,상기 도전 플레이트는 상기 제1 부분의 하부에 빈 공간(void)을 갖고, 상기 빈 공간의 폭은 상기 제1 부분으로부터 상기 제2 부분으로의 방향을 따라 감소하는 전송 라인
17 17
제15 항에 있어서,상기 제1 부분의 일 측면에서 상기 제1 부분과 평행하게 배치되며, 제3 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 제3 도전 패턴; 그리고상기 제1 부분의 다른 측면에서 상기 제1 부분과 평행하게 배치되며, 제4 비아 콘택을 통해 상기 도전 플레이트와 연결되는 제4 도전 패턴을 더 포함하는 전송 라인
18 18
제17 항에 있어서,상기 제3 및 제4 도전 패턴들 각각의 폭은 상기 제2 부분에 가까워질 수록 증가하는 전송 라인
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국전자통신연구원 ETRI연구개발지원사업 실리콘 나노포토닉스 기반 차세대 컴퓨터 인터페이스 플랫폼 원천기술 개발